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龙图腾网获悉厦门定制精灵科技有限责任公司申请的专利一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121353060B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511908217.7，技术领域涉及：G06T3/04；该发明授权一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法及系统是由陈伟设计研发完成，并于2025-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及图像处理技术领域，公开了一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法及系统，方法包括：对卡通图像进行分析，得到前景分割掩膜与前景材质特征张量，对目标背景图像进行分析，得到背景光照特征向量；通过构建双介质光交互场模拟卡通前景与新背景的动态光影交互，结合边缘透射矩阵实现边缘区域精细化融合，解决了传统卷积神经网络背景切换中光影交互缺失导致的视觉割裂问题，同时通过光影残差图修正机制，进一步优化光照一致性，显著提升卡通形象与各类真实或虚拟场景的融合适配度，并且批量处理的方式，能高效适配多样化营销场景，在保证视觉自然度的同时满足批量替换需求。

本发明授权一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于卷积神经网络批量切换背景形成新图的方法，其特征在于，包括： S1：对卡通图像进行分析，得到前景分割掩膜与前景材质特征张量，对目标背景图像进行分析，得到背景光照特征向量； S2：将前景材质特征张量和背景光照特征向量进行融合并计算，生成双介质光交互场，包括： 对前景材质特征张量与背景光照特征向量进行对齐，生成特征匹配矩阵； 基于特征匹配矩阵，计算前景材质特征张量与背景光照特征向量的交互作用参数，得到光材质交互张量； 对光材质交互张量进行分析，生成双介质光交互场； S3：将双介质光交互场和前景分割掩膜进行结合分析，得到边缘透射矩阵，包括： 对前景分割掩膜进行分析，确定前景与背景的交界区域，生成边缘区域掩码； 基于边缘区域掩码，从双介质光交互场中提取边缘处的光交互特征，得到边缘光交互子场； 根据前景材质特征张量中边缘区域的材质属性，对边缘光交互子场进行透射衰减计算，得到边缘透射衰减系数； 根据边缘区域掩码对边缘透射衰减系数与边缘光交互子场进行空间匹配，生成边缘透射矩阵； S4：对目标背景图像与前景分割掩膜进行初始背景切换，得到初始切换图； S5：根据双介质光交互场，对初始切换图的前景区域进行光照调制，并结合边缘透射矩阵融合初始切换图的背景区域，生成初级合成图； S6：计算初级合成图与目标背景图像的梯度差异图，并对梯度差异图进行修正，得到光影残差图； S7：将光影残差图与初级合成图进行叠加，生成最终新图。

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