上海羲禾科技股份有限公司邹伟博获国家专利权
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龙图腾网获悉上海羲禾科技股份有限公司申请的专利晶圆测试装置和晶圆测试方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121410510B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202512001570.3,技术领域涉及:G01R31/311;该发明授权晶圆测试装置和晶圆测试方法是由邹伟博;梁虹;仇超设计研发完成,并于2025-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆测试装置和晶圆测试方法在说明书摘要公布了:本申请提供了一种晶圆测试装置和晶圆测试方法,其中,该晶圆测试装置可以包括:第一光路回路,用于连接待测晶圆的芯片单元的非功能区的测试点,用于测得第一光信号;第二光路回路,用于连接待测晶圆的芯片单元的非功能区与功能区的耦合测试点,用于测得第二光信号;其中,第一光信号与第二光信号用于确定待测晶圆的芯片单元的芯片端面光学损耗;第三光路回路,用于连接待测晶圆的芯片单元的功能区的测试点,用于测得第三光信号,其中,第二光信号与第三光信号用于确定待测晶圆的芯片单元的芯片片上光学损耗;其中,待测晶圆的所有芯片单元均配置一组第一光路回路、第二光路回路和第三光路回路。基于上述装置能够采用更简单的回路实现晶圆的测试。
本发明授权晶圆测试装置和晶圆测试方法在权利要求书中公布了:1.一种晶圆测试装置,其特征在于,包括: 第一光路回路,用于连接待测晶圆的芯片单元的非功能区的测试点,用于测得第一光信号; 第二光路回路,用于连接所述待测晶圆的芯片单元的非功能区与功能区的耦合测试点,用于测得第二光信号;其中,所述第一光信号与所述第二光信号用于确定待测晶圆的芯片单元的芯片端面光学损耗; 第三光路回路,用于连接待测晶圆的芯片单元的功能区的测试点,用于测得第三光信号,其中,所述第二光信号与所述第三光信号用于确定待测晶圆的芯片单元的芯片片上光学损耗; 其中,所述待测晶圆的所有芯片单元均配置一组所述第一光路回路、所述第二光路回路和所述第三光路回路。
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