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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利形成窄槽接触部的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115868012B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180039903.9，技术领域涉及：H10P50/28；该发明授权形成窄槽接触部的方法是由迈克尔·墨菲;约迪·格热希科维亚克;安东·德维利耶设计研发完成，并于2021-05-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本形成窄槽接触部的方法在说明书摘要公布了：在将衬底图案化的方法中，基于沉积在衬底上方的第一层形成第一浮雕图案。用反转材料填充第一浮雕图案中的开口。然后从衬底去除第一浮雕图案，并且反转材料保留在衬底上以限定第二浮雕图案。在衬底上方沉积填充材料，该填充材料与第二浮雕图案接触、并且对第二浮雕图案中的光酸产生剂产生的光酸敏感。将第二浮雕图案的所选择部分曝光于第一光化辐射，以在第二浮雕图案的所选择部分中产生光酸。将光酸从第二浮雕图案的所选择部分驱动到填充材料的部分中，使得填充材料的这些部分变得可溶于预先确定的显影剂。

本发明授权形成窄槽接触部的方法在权利要求书中公布了：1.一种图案化衬底的方法，该方法包括： 基于沉积在衬底上的第一层形成第一浮雕图案，该第一浮雕图案包括开口； 用反转材料填充该第一浮雕图案中的这些开口，被沉积以填充这些开口的该反转材料包含树脂和光酸产生剂，该树脂在没有任何沉积后溶解中和处理的情况下不可溶于预先确定的显影剂，并且该树脂进一步对该光酸产生剂所产生的光酸不敏感，使得在没有任何沉积后溶解中和处理的情况下，当该树脂与该光酸接触时，该树脂保持不可溶于该预先确定的显影剂； 从该衬底去除该第一浮雕图案，使得该反转材料保留在该衬底上以限定第二浮雕图案，该第二浮雕图案是该第一浮雕图案的反转图案； 在该衬底上方沉积填充材料，该填充材料与该第二浮雕图案接触、并且对该光酸产生剂所产生的该光酸敏感，使得该填充材料的与该光酸接触的部分变得可溶于该预先确定的显影剂； 将该第二浮雕图案的所选择部分曝光于第一光化辐射，使得该第二浮雕图案的所选择部分内的该光酸产生剂的一部分在该第二浮雕图案的所选择部分中产生该光酸；以及 通过该第二浮雕图案的所选择部分与该填充材料之间的界面将该第二浮雕图案的所选择部分中产生的该光酸从该第二浮雕图案的所选择部分驱动到该填充材料的部分中，该光酸使得该填充材料的这些部分变得可溶于该预先确定的显影剂。

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