日东电工株式会社小岛理获国家专利权
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龙图腾网获悉日东电工株式会社申请的专利带相位差层的偏振片的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116324541B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180068458.9，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权带相位差层的偏振片的制造方法是由小岛理;益永升明;南原拓弥设计研发完成，并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本带相位差层的偏振片的制造方法在说明书摘要公布了：本发明成品率良好地提供抑制了翘曲的带相位差层的偏振片。本发明实施方式的带相位差层的偏振片的制造方法包含：准备层叠体，所述层叠体依次具有第一保护膜、包含起偏器和配置于所述起偏器的至少一侧上的保护层的偏振片、相位差层、及第二保护膜，所述偏振片的厚度与所述相位差层的厚度之和为50μm以下，所述偏振片的厚度与所述相位差层的厚度之比为5以上；以及在将所述层叠体载置于载置面上的状态下，将所述层叠体放置在水蒸气量为10.5gm3以上的环境下进行加湿处理；其中，在所述层叠体的主面相对于所述载置面具有角度的状态下进行载置。
本发明授权带相位差层的偏振片的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种带相位差层的偏振片的制造方法，其包含： 准备层叠体，所述层叠体依次具有第一保护膜、包含起偏器和配置于所述起偏器的至少一侧上的保护层的偏振片、相位差层、及第二保护膜，所述偏振片的厚度与所述相位差层的厚度之和为50μm以下，所述偏振片的厚度与所述相位差层的厚度之比为5以上；以及 在将所述层叠体载置于载置面上的状态下，将所述层叠体放置在水蒸气量为10.5gm3以上的环境下进行加湿处理， 其中，在所述层叠体的主面相对于所述载置面具有角度的状态下进行载置， 在将多个所述层叠体排列的状态下进行所述加湿处理， 所述制造方法包含使用活性能量线固化型粘接剂将所述偏振片与所述相位差层层叠。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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