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龙图腾网获悉上海艾深斯科技有限公司申请的专利组合的ARC和Si硬掩模的组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116500864B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210055708.1，技术领域涉及：G03F7/075；该发明授权组合的ARC和Si硬掩模的组合物是由郑学刚设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本组合的ARC和Si硬掩模的组合物在说明书摘要公布了：新的组合物包含作为组合的抗反射涂层ARC和硬掩模HM的硅氧烷共聚物，其由以下单体的共水解形成：R1SiCl3、R2SiCl3、R3SiCl3、X3SiCH2aSiX3、R4SiX3、SiOR4，其中：X＝Cl或OR，R是烷基例如甲基或乙基，R1是发色团例如苯基、苯基甲基、苯基乙基和苯基丙基，R2是H，R3是甲基或任选取代的C2‑C5烷基基团，并且任选的R4是亲水基团例如2‑[甲氧基聚亚乙基氧基6‑9丙基]或2‑甲酯基乙基，其中起始单体混合物中每种单体的摩尔百分比为0.00A、B、C、D、E、F0.95,0.00≤D0.50，且A+B+C+D+E+F的总摩尔数＝1。

本发明授权组合的ARC和Si硬掩模的组合物在权利要求书中公布了：1.ARCHM的耐蚀刻抗反射组合物，包含： 硅氧烷共聚物，其具有以下结构： [OH3SiCH2aSiOH2O0.5][OHSiCHSiOH][OOHSiCHSiOHO][O1.5SiCHSiO1.5][RSiOH0.5][RSiO1.5][RSiOHO][RSiOH0.5][RSiO1.5][RSiOHO][RSiOH0.5][RSiO1.5][RSiOHO][RSiOH0.5][RSiO1.5][RSiOHO][SiOH0.5][SiOH][SiOHO1.5][SiO] 其中0b,c,q,e,f,g,h,m,n,p,v,w,d,j,k,l,t0.9,0.00x,y,z0.50，a=1-7，并且b+c+q+e+f+g+h+m+n+p+v+w+d+x+y+z+j+k+l+t=1， 在每次出现时，独立地表示苯基、苯基甲基、苯基乙基和苯基丙基， 是H， 在每次出现时，独立地表示甲基， 在每次出现时，独立地表示2-[甲氧基聚亚乙基氧基6-9丙基] 最终共聚物中Si的量范围为35mol%-45mol%， 所述硅氧烷共聚物的重均分子量Mw为1,000至10,000。

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