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龙图腾网获悉武汉光庭信息技术股份有限公司申请的专利一种基于图像实例分割的后处理优化方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116524331B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310317236.7，技术领域涉及：G06V10/98；该发明授权一种基于图像实例分割的后处理优化方法及装置是由张龙;余雄风;陈治;胡文冲设计研发完成，并于2023-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于图像实例分割的后处理优化方法及装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于图像实例分割的后处理优化方法及装置，其方法包括：获取基于图像实例分割后的一幅或多幅分割图像；提取每幅分割图像中离散mask的一条或多条轮廓分割线，并根据每条轮廓分割线内的像素差异，判断每个离散mask的孔洞属性；对每个带有孔洞属性的离散mask进行填充；基于每幅分割图像的mask分割图像与带有孔洞属性的分割图像，计算各个mask之间的面积和长度关系，并根据其识别各个mask之间是否重合，并过滤其中重合区域，以及识别并过滤每幅分割图像的孤岛区域。本发明通过mask的重合面积和长度关系，对图像实例分割后存在的重合、孤岛、孔洞进行识别和过滤，从而提高了实例轮廓的分割精度。

本发明授权一种基于图像实例分割的后处理优化方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于图像实例分割的后处理优化方法，其特征在于，包括： 获取基于图像实例分割后的一幅或多幅分割图像,其中，每幅分割图像包括分割后的多个mask、置信度图和mask分割图像； 提取每幅分割图像中离散mask的一条或多条轮廓分割线，并根据每条轮廓分割线内的像素差异，判断每个离散mask的孔洞属性；对每个带有孔洞属性的离散mask进行填充； 基于每幅分割图像的mask分割图像与其对应的带有孔洞属性的分割图像，计算各个mask之间的面积和长度关系：通过离散二值图得到多个单类别的mask，将每个单类别的mask与其他类别的mask取交集；计算每两个单类别的mask之间的重合面积与面积最小的mask比例，以及每个单类别的mask的长宽比；计算每个单类别的离散mask的面积、每个mask的面积与最大mask面积的比例；根据所述各个mask之间的面积和长度关系的计算结果，识别各个mask之间是否重合，并过滤其中重合区域；所述根据所述各个mask之间的面积和长度关系的计算结果，识别mask之间是否重合包括：根据每两个单类别的mask之间的重合面积与面积最小的mask比例，或每个单类别的mask的长宽比是否高于阈值，识别各个mask之间是否重合； 根据所述各个mask之间的面积和长度关系的计算结果，识别并过滤每幅分割图像的孤岛区域。

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