浙江工业大学何荟文获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江工业大学申请的专利一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116535586B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310632513.3，技术领域涉及：C08F299/08；该发明授权一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法是由何荟文;谢山青;陈思;王旭;马猛;施燕琴;朱雨露设计研发完成，并于2023-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法，包括：合成POSS基树枝状大分子组装结构单元：制备鲁珀特之泪形貌的组装胶束：纳米胶束聚合成抗污材料：将鲁珀特之泪形貌的组装胶束加入双咪唑，经连续冻融脱气后，将胶体在光照下发生原位沉积聚合后停止反应，得到表面处理的具有鲁珀特形貌的胶束，即为具有纳米结构的抗污超分子材料。本发明采用非共价键驱动下形成高度有序的功能自组装材料，并通过原位聚合制备具有特殊纳米结构特征的超分子材料，具有疏水和疏油的性质，应用广泛，可以应用于金属表面防涂鸦、防锈蚀、防划痕；应用在玻璃、陶瓷上，防污自洁，使基材表面长久光亮如新等。
本发明授权一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有纳米结构的抗污超分子材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1合成POSS基树枝状大分子组装结构单元； 所述的POSS基树枝状大分子组装结构单元为POSS-Lys-Dod、POSS-Dod、POSS-Oed或POSS-Had； 其中，POSS-Lys-Dod为： ； POSS-Dod为： ； POSS-Oed为： ； POSS-Had为： ； 2制备鲁珀特之泪形貌的组装胶束： 2.1将POSS基树枝状大分子组装结构单元，加入四氢呋喃溶剂，利用超声分散，得到分散液； 2.2取分散液密封加热后，搅拌，滴加水，使得胶束快速聚集而组装，静置3~10h形成鲁珀特之泪形貌的组装胶束； 3、纳米胶束聚合成抗污材料： 将步骤2制备的鲁珀特之泪形貌的组装胶束加入双咪唑，经连续冻融脱气后，将胶体在光照下发生原位沉积聚合后停止反应，得到表面处理的具有鲁珀特形貌的胶束，即为具有纳米结构的抗污超分子材料。
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