东丽先端素材株式会社金兑根获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽先端素材株式会社申请的专利含氟基团的离型膜及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116731367B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310048476.1，技术领域涉及：C08J7/04；该发明授权含氟基团的离型膜及其制造方法是由金兑根设计研发完成，并于2023-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本含氟基团的离型膜及其制造方法在说明书摘要公布了：根据本发明的含氟基团的离型膜包括：基础膜；和离型层，其位于基础膜的至少一个表面上并通过在基础膜的至少一个表面上施加包含含氟基团的有机聚硅氧烷A和不含氟基团的有机聚硅氧烷B的离型涂覆溶液而形成。其中整个离型层各处的根据XRD分析结果的2θ值大于12.0度且小于13.5度。因此，可以在不使用基于氟的溶剂的情况下对涂覆溶液进行稀释和涂覆，这改善了可加工性并使涂层均匀，从而改善可剥离性和剥离强度变化。此外，可以使所用的昂贵的含氟基团的有机聚硅氧烷的量最小化，因此可以制造具有优异物理特性和高成本效益的产品。当将根据本发明的含氟基团的离型膜应用于基于有机硅的粘合剂处理过程时，可以获得成本降低的效果以及优异的物理特性。
本发明授权含氟基团的离型膜及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种含氟基团的离型膜，包括： 基础膜；和 离型层，所述离型层位于所述基础膜的至少一个表面上以及通过在所述基础膜的所述至少一个表面上施加包含含氟基团的有机聚硅氧烷A和不含氟基团的有机聚硅氧烷B的离型涂覆溶液而形成， 其中整个离型层各处的根据XRD分析结果的2θ值大于12.0度且小于13.5度， 其中所述离型层分为所述离型层中与所述基础膜相邻并含Si的第一区域、以及与所述离型层的不接触所述基础膜的表面相邻并含F的第二区域，其中所述第一区域和所述第二区域具有对比度差异， 其中基于100重量份的所述含氟基团的有机聚硅氧烷A，所述不含氟基团的有机聚硅氧烷B的含量为50重量份至2,000重量份的量， 其中所述离型层在干燥之后的厚度为100nm至300nm， 其中所述第二区域的厚度为所述离型层的总厚度的0.001%至40%。
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