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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116754492B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310453952.8，技术领域涉及：G01N21/21；该发明授权一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法是由陈修国;钟海硕;张传维;刘世元设计研发完成，并于2023-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法，属于光学仪器测量领域，包括：样品台，用于放置样品；入射光生成模块，用于生成工作波长范围内的平行的入射光；起偏模块，用于调制入射光的偏振态；第一会聚透镜，用于将偏振入射光聚焦于放置于样品，产生反射光；第二会聚透镜，用于将反射光转换为平行光；检偏模块，用于调制平行光的偏振态；光束调整模块，用于将偏振平行光转换为第一出射光束和第二出射光束；图像信息探测模块，用于将第一出射光束调节为单色光后对样品进行成像。本发明能够加快成像椭偏仪系统参数校准的速度，使成像椭偏仪同时具有高横向分辨率的能力和快速校准的能力，从而提高成像椭偏仪整体的测量速度。

本发明授权一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法在权利要求书中公布了：1.一种基于系统参数校准系统的系统参数校准方法，其特征在于，所述系统参数校准系统包括：成像椭偏仪以及光谱检测模块； 所述成像椭偏仪包括： 样品台，用于放置样品； 设置于所述样品台一侧且沿光路依次设置的入射光生成模块、起偏模块和第一会聚透镜；所述入射光生成模块，用于生成工作波长范围内的平行的入射光；所述起偏模块，用于调制所述入射光的偏振态，得到偏振入射光；所述第一会聚透镜，用于将所述偏振入射光聚焦于放置于所述样品台上的样品，产生反射光； 以及设置于所述样品台另一侧且沿所述反射光的光路依次设置的第二会聚透镜、检偏模块、光束调整模块以图像信息探测模块；所述第二会聚透镜，用于将所述反射光转换为平行光；所述检偏模块，用于调制所述平行光的偏振态，得到偏振平行光；所述光束调整模块，用于对所述偏振平行光进行空间或时间上的分割，得到第一出射光束和第二出射光束；所述图像信息探测模块，用于将所述第一出射光束调节为单色光后对所述样品进行成像，得到所述样品的二维图像； 所述光谱检测模块，设置于所述第二出射光束的传播光路上，用于获取所述第二出射光束的光谱信息； 所述系统参数校准方法，包括： 预处理步骤：将穆勒矩阵已知的标准样品放置于所述样品台上，并使所述入射光生成模块发出工作波长范围内的平行的入射光； 光谱检测步骤：通过所述光谱检测模块获取所述标准样品的光谱信息，从所述光谱信息中提取所述工作波长范围内各波长的光强值，记为第一光强值； 光谱拟合步骤：根据所述第一光强值求解各系统参数随波长变化的拟合曲线，记为第一拟合曲线；所述系统参数为所述起偏模块和所述检偏模块中影响偏振的器件参数； 成像检测步骤：通过所述图像信息探测模块获取所述工作波长范围内的N个不同波长下所述标准样品的二维图像，并根据所述二维图像计算不同波长下的光强值，记为第二光强值；N为正整数； 校准步骤：根据所述第二光强值求解N个不同波长下各系统参数的离散值，并拟各系统参数随波长变化的拟合曲线，记为第二拟合曲线，完成对所述成像椭偏仪的校准；所述第二拟合曲线与所述第一拟合曲线具有相同的变化趋势； 其中，所述第二出射光束在系统参数校准过程中作为光谱检测模块的输入；所述起偏模块包括沿光路依次设置的第一偏振片和第一相位延迟器；所述检偏模块包括沿光路依次设置的第二相位延迟器和第二偏振片；所述系统参数包括：第二偏振片方位角，第一偏振片方位角，第一相位延迟器方位角，第二相位延迟器方位角，第一相位延迟器方位角的相位延迟量，第二相位延迟器方位角的相位延迟量。

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