应用材料公司李宁获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于沉积低介电常数膜的方法与设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116892014B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311003007.4，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于沉积低介电常数膜的方法与设备是由李宁;Z·孙;M·柏西留;夏立群;B·J·布扬;M·萨利设计研发完成，并于2018-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于沉积低介电常数膜的方法与设备在说明书摘要公布了：兹描述用以将共形SiOC膜形成于表面上的方法及设备。SiCN膜形成在基板表面上并暴露于蒸气退火工艺，以减低氮含量、升高氧含量并使碳含量维持大约相同。经退火的膜具有膜的湿式蚀刻速率或介电常数中的一或多者。
本发明授权用于沉积低介电常数膜的方法与设备在权利要求书中公布了：1.一种处理平台，包括： 中央移送站，包括多个侧及安置在所述中央移送站中的机器人； 批处理腔室，连接至所述中央移送站的一侧； 蒸气退火腔室，连接至所述中央移送站的一侧；以及 控制器，耦接至所述中央移送站、所述批处理腔室及所述蒸气退火腔室，所述控制器具有配置，所述配置包括：第一配置，用以将基板移动至所述批处理腔室；第二配置，用以将多种工艺气体提供至所述批处理腔室，以在所述批处理腔室中在所述基板上形成共形膜；第三配置，用以将基板从所述批处理腔室移动至所述蒸气退火腔室；第四配置，用以将所述蒸气退火腔室加热至退火温度；第五配置，用以将水蒸气流提供至所述蒸气退火腔室；以及第六配置，用以从所述蒸气退火腔室移除所述基板，其中所述共形膜包含具有初始碳含量、初始氮含量及初始氧含量的SiCN， 其中在所述蒸气退火腔室中蒸气退火后的退火后碳含量在所述初始碳含量的±10％内。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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