CMC材料有限责任公司张柱然获国家专利权
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龙图腾网获悉CMC材料有限责任公司申请的专利用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117120563B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180094136.1，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法是由张柱然;S·帕利克卡拉库蒂阿托尔;S·奈克;E·克纳普顿;J·王;M·威尔霍夫设计研发完成，并于2021-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法在说明书摘要公布了：本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：a选自氧化铈研磨剂、氧化锆研磨剂及其组合的研磨剂；b选自式I化合物的自停止剂；c任选的非离子聚合物；d阳离子单体化合物；及e水，其中该抛光组合物的pH值为约5.5至约8。本发明还提供使用所述组合物来化学机械地抛光基板、尤其是包含硅氧化物及任选的多晶硅的基板的方法。
本发明授权用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法在权利要求书中公布了：1.化学机械抛光组合物，包含： a选自氧化铈研磨剂、氧化锆研磨剂及其组合的研磨剂； b选自式I化合物的自停止剂： ， 其中R选自：氢、烷基、环烷基、芳基、杂环烷基及杂环芳基，其各自可经取代或未经取代； c阳离子单体化合物；及 d水， 其中该抛光组合物的pH值为5.5至8，以及 其中该阳离子单体化合物选自丙烯酸2-二甲基氨基乙酯“DMAEA”、甲基丙烯酸2-二甲基氨基乙酯“DMAEM”、3-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺“DMAPMA”、3-二甲基氨基丙基丙烯酰胺“DMAPA”、3-甲基丙烯酰氨基丙基-三甲基氯化铵“MAPTAC”、3-丙烯酰氨基丙基-三甲基氯化铵“APTAC”、二烯丙基二甲基氯化铵“DADMAC”、2-丙烯酰氧基-N,N,N-三甲基乙铵氯化物“DMAEA.MCQ”、2-甲基丙烯酰氧基-N,N,N-三甲基乙铵氯化物“DMAEM.MCQ”、丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯苯甲基氯“DMAEA.BCQ”、甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯苯甲基氯“DMAEM.BCQ”、及其组合。
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