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龙图腾网获悉浙江六方半导体科技有限公司申请的专利一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117845186B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410071607.2，技术领域涉及：C23C16/02；该发明授权一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法是由何少龙;丁柳宁设计研发完成，并于2024-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法，涉及到涂层制备技术领域，所述在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法通过硅基体超声波清洗设备实现，所述硅基体超声波清洗设备包括外壳，所述外壳内侧底部设置有第一驱动机构，所述第一驱动机构顶端设置有放置抬升机构，所述外壳内侧顶部设置有清洗离心机构，所述清洗离心机构左侧设置有触发式排水机构，所述外壳顶部以及外壳内侧顶部共同设置有第二驱动机构。本发明自动化程度高且可以有效降低硅基体上下料难度，另外还可以减少清洗剂的残留量，降低清洗难度的同时还可以避免因清洗剂残留导致的对后续清洗剂造成稀释，影响后续清洗效果的情况。

本发明授权一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法在权利要求书中公布了：1.一种在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法，其特征在于： 所述在单晶硅或多晶硅上制备碳化硅复合涂层的化学气相沉积方法通过硅基体超声波清洗设备实现，所述硅基体超声波清洗设备包括外壳1，所述外壳1内侧底部设置有第一驱动机构2，所述第一驱动机构2顶端设置有放置抬升机构3，所述外壳1内侧顶部设置有清洗离心机构4，所述清洗离心机构4左侧设置有触发式排水机构5，所述外壳1顶部以及外壳1内侧顶部共同设置有第二驱动机构6，所述第二驱动机构6位于清洗离心机构4左侧； 所述第一驱动机构2包括往复螺杆21、驱动电机22、下磁体23、内套管24、第一弹簧25、外套管26和L形触发臂27； 所述往复螺杆21贯穿外壳1且通过轴承与外壳1转动连接，所述驱动电机22固定设置于往复螺杆21底部且与往复螺杆21传动连接，所述下磁体23固定设置于往复螺杆21顶端，所述内套管24、第一弹簧25和外套管26由上至下依次套接设置于往复螺杆21外侧，所述内套管24沿竖直方向滑动嵌套设置于外套管26内部且与往复螺杆21滑动连接，所述第一弹簧25位于外套管26内部且固定连接于内套管24与外套管26之间，所述外套管26与往复螺杆21螺纹连接，所述L形触发臂27固定设置于外套管26左侧顶部； 所述放置抬升机构3包括抬升座31、放置板32、伸缩杆33、上磁体34、第二弹簧35、限位框36、纵向滑槽37、纵向滑块38和限位柱39； 所述抬升座31固定套接设置于内套管24外侧顶部，所述放置板32通过轴承转动嵌套设置于抬升座31顶部中心处，所述伸缩杆33固定设置于放置板32底部中心处，所述上磁体34固定设置于伸缩杆33底端，所述第二弹簧35套接设置于伸缩杆33外侧且固定连接于放置板32与上磁体34之间，所述限位框36沿竖直方向滑动套接设置于抬升座31外侧，所述纵向滑槽37开设于限位框36内侧，所述纵向滑块38滑动设置于纵向滑槽37内侧且与抬升座31固定连接，所述限位柱39贴合设置于限位框36底部且与外壳1内壁固定连接； 所述清洗离心机构4包括清洗罩41、清洗剂输入管42、隔板43、顶板44、环形网筒45、升降柱46、第一端板47、转动套筒48和从动齿轮49； 所述清洗罩41固定设置于外壳1内侧顶部，所述清洗罩41内部固定设置有超声波发生器，所述清洗剂输入管42固定贯穿设置于清洗罩41右侧，所述隔板43固定设置于清洗罩41内侧中部，所述隔板43将清洗罩41内侧分隔为上腔室与下腔室，所述顶板44滑动设置于隔板43内侧，所述环形网筒45固定设置于顶板44底部，所述升降柱46固定设置于顶板44顶部且沿竖直方向滑动贯穿清洗罩41内壁并延伸至清洗罩41顶部，所述第一端板47固定设置于升降柱46顶端，所述转动套筒48沿竖直方向滑动嵌套设置于升降柱46外侧且通过轴承转动嵌套设置于外壳1顶部，所述从动齿轮49固定套接设置于转动套筒48外侧。

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