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沈阳芯源微电子设备股份有限公司张钰钦获国家专利权

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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖及供液结构获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118270407B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211719177.8,技术领域涉及:B65D90/54;该发明授权降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖及供液结构是由张钰钦;陈兴隆;王丽鹤;高晓旭;刘士敏设计研发完成,并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖及供液结构在说明书摘要公布了:本发明属于液体供液系统领域,具体地说是一种降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖及供液结构,端盖上分别开设有进液口及出液口,端盖上还分别设有环形槽及进液流道,进液口与环形槽相连通,进液口进入的液体在充满环形槽后由进液流道溢出;端盖底部的下方设有用于在供液过程中气泡的破碎与引导的引导部,引导部与端盖底部之间设有与出液口连通的出液流道;供液结构中的拉伸管容置于罐体内,罐体上开设有与罐体内腔连通的输气接口;端盖的上端与密封盖插接,下端插设于拉伸管内,端盖及拉伸管通过罐体与密封盖的连接被夹紧固定。本发明能够减少液体进入过程中气泡的产生量,供液过程中破碎与引导气泡,使排出的液体中几乎不含气泡。

本发明授权降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖及供液结构在权利要求书中公布了:1.一种降低液体残存量与气泡量的化学品供液端盖,其特征在于:所述端盖6上分别开设有进液口4及出液口5,所述端盖6上还分别设有环形槽10及进液流道11,所述进液口4与环形槽10相连通,所述进液口4进入的液体在充满环形槽10后由进液流道11溢出;所述端盖6底部的下方设有用于在供液过程中气泡的破碎与引导的引导部12,所述引导部12与端盖6底部之间设有与出液口5连通的出液流道; 所述引导部12的下表面为锥面,且所述引导部12下表面的最低处为尖状凸起;所述引导部12通过多个连接块13与端盖6连接,或所述引导部12、连接块13及端盖6为一体结构,相邻两所述连接块13之间形成液体流入出液口5的出液流道。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人沈阳芯源微电子设备股份有限公司,其通讯地址为:110168 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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