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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119609897B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411763681.7，技术领域涉及：B24B31/10；该发明授权一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法是由张振宇;顾秦铭;陈鑫婷;周红秀;孙汇光设计研发完成，并于2024-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法。包括机架、主轴系统、抛光筒、多场触发装置和数控系统，主轴系统与用于夹持待抛光件的夹具连接，主轴系统用于调整主轴的空间位置，使得待抛光件进入到抛光筒中并浸入在抛光液中，抛光筒用于盛装化学机械抛光液和磁性磨料，所述多场触发装置包括超声发生器、磁场发生装置、光源的至少一种，加工前，待抛光零件的入口加入预设量的化学机械抛光液和磁性磨料并在抛光过程中保持密封状态。本发明以化学溶解去除为主，微小磨粒在流体压力作用下去除氧化膜和钝化膜为辅，零件表面无划痕，排除循环应力产生裂纹和疲劳源的可能。

本发明授权一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备及方法在权利要求书中公布了：1.一种大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件的多能场耦合化学机械抛光装备的抛光方法，其特征在于， 所采用的装置包括机架、主轴系统、抛光筒、多场触发装置和数控系统，待抛光零件的内外壁均需要抛光，且工件为半封闭结构，只有入口和出口两处开放，所述主轴系统与用于夹持待抛光件的夹具连接，所述主轴系统用于调整主轴的空间位置，使得待抛光件进入到抛光筒中并浸入在抛光液中， 所述多场触发装置包括超声发生器、磁场发生装置和光源，所述数控系统与主轴系统和多场触发装置相连，用于控制主轴及抛光加工过程中超声频率、振幅、磁场强度的参数，加工前，待抛光零件的入口加入预设量的化学机械抛光液和磁性磨料并在抛光过程中保持密封状态； 所述抛光筒为顶部开放的圆筒结构，材质为非磁性耐腐蚀材料，抛光时其内部盛装化学机械抛光液和磁性磨料，抛光筒底部四周设有抛光筒支座并安装在床身上；其上设有出液口和进液口，分别与抛光液循环系统连接；其内部设有搅拌器，用于搅动抛光筒内的磨料，使抛光液混合的相对均匀，避免磨粒沉积在抛光筒底部； 所述抛光液循环系统与抛光筒相连，用于回收过滤储存磨料，实现磨料的循环利用； 磁场发生装置包括软铁芯、多向缠绕的多个电磁线圈和可调功率直流电源，各电磁线圈均通过可调功率直流电源供电，所述软铁芯为顶部和底部开放的圆柱体薄壁结构，可拆卸地嵌套在抛光筒外壁，用于增强电磁线圈产生的磁场，电磁线圈为多组且呈现差异化的安装方式，不同方向安装的电磁线圈用于在抛光筒内部产生不同方向的电磁场，各个方向的电磁线圈相互独立供电，同一方向的各个电磁线圈之间也独立供电，抛光过程中通过控制不同电压、不同电流、不同方向的直流电在抛光筒内部不同区域内产生不同强度、不同方向的电磁场，进而控制磁场力推动磁性磨料在抛光筒内部运动； 所述光源可拆卸地安装在床身上，根据加工需求更换为激光光源、红外光源或紫外光源中的任一种，所述光源用于促进化学机械抛光液与工件表面发生化学反应，使得工件表面生成氧化物薄膜； 具体步骤如下： 步骤1、将配制好的化学机械抛光液倒入大容积孔径比薄壁半封闭复杂结构零件内部并进行密封，将密封后的零件固定在夹具上，通过控制系统调整主轴Z方向和Y方向使零件放入抛光筒中； 步骤2、将配制好的化学机械抛光液加入抛光筒，通过控制系统控制零件在抛光液中的摆动范围及角速度和旋转转速，同时开启搅拌器和抛光液循环系统，使抛光液按照一定的转速搅拌； 步骤3、通过控制系统按照抛光需求设置超声发生器产生的振动频率和振幅，可调功率直流电源、电磁线圈及光源的运行参数； 步骤4、加工完成后，关闭搅拌器、超声发生器、可调功率直流电源、光源，通过控制系统将主轴位置升高，将零件从夹具上取下，打开密封口，将腔体内的抛光液倒出；零件需在超声波清洗机中使用去离子水清洗多次，内腔也需通过水泵注入去离子水清洗多次。

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