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龙图腾网获悉浙江理工大学申请的专利基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119960200B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510084792.3，技术领域涉及：G02B27/28；该发明授权基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统是由陈瑞品;周煜涵;李光泽;曹宁晨;张露鸿;米仕轩设计研发完成，并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统在说明书摘要公布了：本发明公开了基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统，包括激光器，用于发射激光并入射4f系统；所述4f系统，用于将两束正交圆偏振光叠加生成矢量光场，包含能够对光场相位进行调制的空间光调制器，第一傅里叶透镜，第二傅里叶透镜，双孔滤波器，双胶合波片和一块朗奇光栅；依次排列顺序为空间光调制器，第一傅里叶透镜，双孔滤波器，双胶合波片，第二傅里叶透镜，朗奇光栅，双孔滤波器紧贴双胶合波片，除此之外各元件间距离均为傅里叶透镜焦距f；通过对介质后散斑内不同偏振态分量的提取计算对应的矢量传输矩阵，并利用不同分量的矢量传输矩阵实现经过散射介质后的不同偏振态多点同时聚焦，且能够实现聚焦位置的任意调控。

本发明授权基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统在权利要求书中公布了：1.基于散射聚焦实现多偏振态光场于异位点聚焦的光学系统，其特征在于，包括： 激光器，用于发射激光并入射4f系统1； 所述4f系统1，用于将两束正交圆偏振光叠加生成矢量光场，包含能够对光场相位进行调制的空间光调制器2，第一傅里叶透镜3，第二傅里叶透镜6，双孔滤波器4，双胶合波片5和一块朗奇光栅7；依次排列顺序为空间光调制器2，第一傅里叶透镜3，双孔滤波器4，双胶合波片5，第二傅里叶透镜6，朗奇光栅7，双孔滤波器4紧贴双胶合波片5，除此之外各元件间距离均为傅里叶透镜焦距f；激光入射到空间光调制器2后通过双孔滤波器4提取其后谱面上x轴与y轴的+1阶光束，分别使两束光通过双胶合波片5的不同胶合面转换为正交的左旋与右旋偏振方向的圆偏振光，最后通过朗奇光栅7将两束光合束为矢量光束； 高阶散射介质9，用于让矢量光束穿过发生散射； 第一显微物镜8、第二显微物镜10，用于对在所述高阶散射介质9后产生的散斑进行缩放；第一显微物镜8用于将入射光的能量进行汇聚以穿透高阶散射介质9，第二显微物镜10用于收集穿透高阶散射介质9后散射的光信号； 波片11与偏振片12，用于提取出射散斑中不同偏振态分量，得到不同偏振态的散斑； CMOS接收器13用于接收偏振片12后出射的光信号并传输至控制装置中； 其中，利用基于4f系统的相位调制，所生成的矢量光场如以下公式一所示： ，公式一； 其中是振幅，和分别为加载到空间光调制器2中的x方向和y方向的附加相位； 由两个正交所述左旋与右旋偏振方向的圆偏振光相干叠加得到矢量光场穿过所述高阶散射介质9，其矢量传输矩阵如以下公式二所示：，公式二； 其中m,n,p,q分别表示输入平面m,n点和输出平面p,q点； 矢量光束透过第一显微物镜8聚焦在高阶散射介质9上，然后被第二显微物镜10收集，并由波片11与偏振片12提取不同偏振态的分量，以强度散斑图形式传输到CMOS接收器13，以Hadamard矩阵的每一列作为输入模式，根据四步移相法并通过测量相应的输入模式校准元素，从而得到高阶散射介质9矢量传输矩阵的全部组分。

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