康辉新材料科技有限公司胡成女获国家专利权
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龙图腾网获悉康辉新材料科技有限公司申请的专利一种超平滑光学膜用开口母粒及光学薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120025666B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411859153.1，技术领域涉及：C08L67/02；该发明授权一种超平滑光学膜用开口母粒及光学薄膜是由胡成女;孟令明;韩冰冰;李平;刘建设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种超平滑光学膜用开口母粒及光学薄膜在说明书摘要公布了：本发明涉及光学薄膜材料技术领域，具体公开了一种超平滑光学膜用开口母粒，同时还公开了采用该开口母粒制备成的光学薄膜。本发明通过对开口剂粉体进行改性处理，制成改性开口剂粉体后再用于制备开口母粒，获得了开口剂粉体分布均匀的开口母粒。采用本发明提供的所述超平滑光学膜用开口母粒进一步制备的光学薄膜，开口性良好，薄膜之间不粘连，收卷和分切简单容易。且光学薄膜的表面开口剂分布均匀，薄膜的粗糙度低、平整度高，薄膜更平滑、表面缺陷少，光学性能优异。
本发明授权一种超平滑光学膜用开口母粒及光学薄膜在权利要求书中公布了：1.一种超平滑光学膜用开口母粒，其特征在于，制备原料包括以下重量份数的原料： 光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯67~94份 瓶用聚对苯二甲酸乙二醇酯6~30份 改性开口剂粉体0.1~2.0份 抗氧剂0.1~1.0份； 所述改性开口剂粉体采用的开口剂粉体为二氧化硅和或碳酸钙，所述开口剂粉体的平均粒径为30nm~80nm； 改性采用的改性剂为聚乙二醇400、六偏磷酸钠、聚乙烯吡咯烷酮的复配物，聚乙二醇400、六偏磷酸钠、聚乙烯吡咯烷酮以质量比40~60：25~40：15~20混合复配； 所述改性开口剂粉体的制备步骤为：向溶剂中加入开口剂粉体和改性剂，搅拌后超声处理，然后蒸除溶剂，之后研磨筛分，即得到改性开口剂粉体；其中，所述溶剂、开口剂粉体和改性剂的质量比为85~97：2~10：1~5；采用乙醇为溶剂； 所述超平滑光学膜的面粗糙度为5nm、6nm或7nm。
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