天目山实验室;北京航空航天大学郭洪波获国家专利权
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龙图腾网获悉天目山实验室;北京航空航天大学申请的专利封严涂层、制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120330661B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510396736.3，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权封严涂层、制备方法及应用是由郭洪波;魏亮亮;杨晨;胡寻寻;何健;何雯婷设计研发完成，并于2025-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本封严涂层、制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种封严涂层、制备方法及应用。提供的封严涂层附着于合金基体上，封严涂层包括：在合金基体上依次沉积的金属粘结层和复合结构陶瓷层，复合结构陶瓷层包括柱状结构和填充在柱状结构间隙的颗粒，柱状结构和填充在柱状结构间隙的颗粒的成分各自独立地包含YSZ和稀土锆酸盐中的一种或多种；复合结构陶瓷层的孔隙率为22%~40%。提供的封严涂层具有较高的孔隙率、较低的表面洛氏硬度，摩擦系数较高，意味着提供的封严涂层具有更优异的耐磨性能。提供的封严涂层的制备方法采用等离子物理气相沉积技术制备，工艺流程简单。
本发明授权封严涂层、制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种封严涂层，其特征在于，所述封严涂层附着于合金基体上，所述封严涂层包括：在所述合金基体上依次沉积的金属粘结层和复合结构陶瓷层， 所述复合结构陶瓷层包括柱状结构和填充在所述柱状结构间隙的颗粒，所述柱状结构和填充在所述柱状结构间隙的颗粒的成分各自独立地包含YSZ和稀土锆酸盐中的一种或多种； 所述柱状结构在所述复合结构陶瓷层中的体积比为51%~59%； 所述颗粒在所述复合结构陶瓷层中的体积比为41%~49%； 所述复合结构陶瓷层的孔隙率大于35%且小于或等于40%； 所述封严涂层的制备方法包括如下步骤： 提供合金基体和在所述合金基体一侧沉积金属材料并进行真空热处理，获得金属粘结层； 采用等离子物理气相沉积方法在所述金属粘结层远离合金基体的一侧沉积陶瓷材料，获得所述复合结构陶瓷层。
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