甘肃省科学院传感技术研究所;兰州创力测控技术有限公司何开宙获国家专利权
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龙图腾网获悉甘肃省科学院传感技术研究所;兰州创力测控技术有限公司申请的专利一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120417738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510538742.8，技术领域涉及：H10N50/20；该发明授权一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构及其制备方法和应用是由何开宙;何永成;员朝鑫;谢明玲;刘斌;王向谦;高晓平设计研发完成，并于2025-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构及其制备方法和应用，属于自旋电子与柔性集成技术领域。一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构，自下至上依次包括聚酰亚胺柔性基底、楔形缓冲层、楔形种子层、铁磁层、反铁磁层和保护层；其中，所述聚酰亚胺柔性基底、铁磁层、反铁磁层和保护层均为平坦结构层。本发明通过在聚酰亚胺柔性基底与磁性层之间同时采用楔形缓冲层和楔形种子层，将聚酰亚胺柔性基底的厚度设定为10～15μm，采用上述结构改善了薄膜应力性能，能够完全兼容器件的CMOSComplementaryMetal‑Oxide‑Semiconductor，互补金属氧化物半导体加工工艺，可实现柔性器件微型化和批量化生产，显著降低了可穿戴设备中柔性电子器件制备工艺的复杂性。
本发明授权一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种具有垂直交换偏置效应的柔性薄膜结构，其特征在于，自下至上依次包括聚酰亚胺柔性基底、楔形缓冲层、楔形种子层、铁磁层、反铁磁层和保护层；其中，所述聚酰亚胺柔性基底、铁磁层、反铁磁层和保护层均为平坦结构层； 所述聚酰亚胺柔性基底的厚度为10～15μm； 所述楔形缓冲层通过斜靶溅射制备得到，靶材与基底之间的角度为45°，厚度为5nm；和或，所述楔形种子层通过斜靶溅射制备得到，靶材与基底之间的角度为45°，厚度为5nm； 所述铁磁层由单层Pt和单层Co构成；所述铁磁层中单层Pt的厚度为2nm，单层Co的厚度为0.8nm； 所述反铁磁层的厚度为10nm； 所述保护层的厚度为5nm。
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