京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司苗伟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司申请的专利彩膜基板及其制备方法、以及显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117957485B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280002967.6，技术领域涉及：G02F1/1335；该发明授权彩膜基板及其制备方法、以及显示面板是由苗伟;谢建云;方业周;王凤国;王波;石臻;李永生;孙静;陈凯;张世龙;高磊;刘耀祖;杨远航;蔚国将设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本彩膜基板及其制备方法、以及显示面板在说明书摘要公布了：本公开的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、以及一种显示装置。所述彩膜基板包括基板；第一黑矩阵，其位于所述基板上；以及第二黑矩阵，其与所述第一黑矩阵部分交叠，其中，在所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵的交叠位置处，所述第二黑矩阵在垂直于所述基板的方向上覆盖所述第一黑矩阵，并且其中，由所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵中的任一个限定的开口的尺寸大于由所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵共同限定的开口的尺寸。
本发明授权彩膜基板及其制备方法、以及显示面板在权利要求书中公布了：1.一种彩膜基板，包括： 基板； 第一黑矩阵，其位于所述基板上；以及 第二黑矩阵，其与所述第一黑矩阵部分交叠，其中，在所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵的交叠位置处，所述第二黑矩阵在垂直于所述基板的方向上覆盖所述第一黑矩阵，并且其中，由所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵中的任一个限定的开口的尺寸大于由所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵共同限定的开口的尺寸， 其中，所述第一黑矩阵在所述基板上的正投影和所述第二黑矩阵在所述基板上的正投影共同形成网格图案， 其中，所述第一黑矩阵至少包括沿第一方向延伸的多个第一黑矩阵条，并且所述第二黑矩阵至少包括沿与所述第一方向不同的第二方向延伸且与所述多个第一黑矩阵条交叉的多个第二黑矩阵条，并且其中，所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵的交叠位置包括所述多个第一黑矩阵条和所述多个第二黑矩阵条的交叉位置， 其中，所述第一黑矩阵的厚度大于第二黑矩阵的与所述第一黑矩阵交叠的部分的厚度，但小于所述第二黑矩阵的与所述第一黑矩阵非交叠的部分的厚度。
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