昆明理工大学席风硕获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118969994B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411031805.2，技术领域涉及：H01M4/36；该发明授权一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法是由席风硕;王良太;李绍元;于洁;马文会;陆继军;童仲秋;魏奎先;伍继君;陈正杰设计研发完成，并于2024-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法，属于硅废料资源回收利用技术领域。本发明将硅料通过铜盐进行两步法金属辅助化学刻蚀，使纳微米级铜微粒均匀引入至硅料内部，刻蚀产物经可控氧化后，进行压片烧结形成电解前驱体；将电解前驱体的上下表面与片状集流体贴合并放置于钩状阴极集流体上进行两步法恒流熔盐电解，以较小电流密度进行电解还原实现氧化铜和氧化硅的还原，避免副反应的发生，得到硅铜复合纳米线负极材料。该硅铜复合纳米线负极材料不仅具有较小的直径和较大的长径比，还显著提升导电性和表面积，有助于在锂离子电池脱嵌锂过程中形成稳定的固态电解质膜层。
本发明授权一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法在权利要求书中公布了：1.一种利用光伏硅切割废料制备硅铜复合纳米线负极材料的方法，其特征在于，具体步骤如下： 1将光伏硅切割废料加入到铜盐溶液中混合均匀，加入还原剂，进行还原化学沉积，使铜盐溶液中的铜离子得到电子还原为铜纳米微粒沉积在硅废料表面； 2将沉积有铜纳米微粒的硅废料加入到刻蚀剂中进行金属辅助化学刻蚀使纳微米级铜微粒均匀引入至硅废料内部得到纳微米铜硅复合物；所述刻蚀剂为HF-氧化剂-有机溶剂； 3纳微米铜硅复合物置于空气氛围中可控氧化处理得到可控氧化产物，将可控氧化产物、粘结剂和造孔剂混合后压片，保护性气氛下烧结得到熔盐电解前驱体； 4熔盐电解前驱体的上下表面与片状集流体贴合后悬置于钩状阴极集流体上作为阴极，以石墨坩埚为阳极，将金属卤化物熔盐加入到石墨坩埚中，在保护性气氛下依次进行第一恒电流熔盐电解还原和第二恒电流熔盐电解还原，得到硅铜复合纳米线负极材料。
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