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龙图腾网获悉北京国达恒泰科贸有限责任公司申请的专利静态薄膜脱挥器及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119565200B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411542557.8，技术领域涉及：B01D3/28；该发明授权静态薄膜脱挥器及其应用是由雷剑兰;黄斯璜;黄启谷设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本静态薄膜脱挥器及其应用在说明书摘要公布了：本发明提供了静态薄膜脱挥器及其应用，所述静态薄膜脱挥器是静态单层薄膜脱挥器或静态多层薄膜脱挥器，所述静态单层薄膜脱挥器是静态薄膜脱挥器、静态双层薄膜脱挥器是静态薄膜脱挥器和静态双层薄膜脱挥器是静态薄膜脱挥器；静态薄膜脱挥器的薄膜板表层是平面或梯形或波浪形；静态薄膜脱挥器的薄膜板的形状是圆形、扇形、双弧形或长方形，所述静态薄膜脱挥器的每层的薄膜板全部覆盖或部分覆盖；静态薄膜脱挥器适合用于由溶液法、淤浆法、沉淀法、液相本体法等生产的黏度在50～10000Pa·s高黏性流体或高黏性熔体的脱挥。

本发明授权静态薄膜脱挥器及其应用在权利要求书中公布了：1.静态薄膜脱挥器，其特征在于，其中所述静态薄膜脱挥器是静态单层薄膜脱挥器或静态多层薄膜脱挥器；所述静态薄膜脱挥器的形状是圆形釜式、圆形塔式、方形塔式或方形釜式； 黏度在50～10000Pa·s高黏性流体或高黏性熔体从静态薄膜脱挥器的物料流体入口经物料分配器出来后，在物料自身重力作用下在薄膜板上表面形成物料薄膜，由于物料流体入口与静态薄膜脱挥器内存在压力差，物料流体起泡，泡膜破裂，挥发分由真空系统抽出，从静态薄膜脱挥器顶部出口排出；其中所述高黏性流体或高黏性熔体在物料流体入口和物料分配器里的操作压力是1-10MPa；其中所述静态薄膜脱挥器内的操作压力是0.1-0.8MPa； 所述静态薄膜脱挥器是静态多层薄膜脱挥器，上层和下层之间的薄膜板安装位置是互相错开，错开为部分错开或完全错开；或下层薄膜板安装在上层薄膜板的正下方，上层和下层各有一个物料分配器，上层和下层脱挥后的物料熔体直接落入脱挥器的储池区； 所述薄膜板的形状是扇形或长方形或圆形，薄膜板是多块；薄膜板的厚度是0.2cm-20cm；其中所述静态薄膜脱挥器是在静态薄膜脱挥器内部每层用薄膜板全部覆盖或部分覆盖，其中所述部分覆盖是每层薄膜板的面积是静态薄膜脱挥器的最大截面积的五分之一至五分之四；当薄膜板为多块时，同层的每块薄膜板之间严密相接或每块薄膜板之间相隔3-50cm；其中所述静态薄膜脱挥器的每层薄膜板一端固定安装在支撑柱上、另一端固定安装在脱挥器内壁；其中所述静态薄膜脱挥器的每块薄膜板的倾斜度是1-60度，其中所述倾斜度是薄膜板与水平面之间的夹角； 其中所述静态薄膜脱挥器的每块薄膜板与脱挥器内壁接近处或接触处留有孔洞； 其中所述静态薄膜脱挥器用于黏度在50~10000Pa·s高黏性流体或高黏性熔体的脱挥，操作温度是100-350℃； 其中所述高黏性流体或高黏性熔体中挥发分含量在10-95％之间。

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