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龙图腾网获悉安捷利(番禺)电子实业有限公司申请的专利一种共面波导结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119697867B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411878311.8，技术领域涉及：H05K1/02；该发明授权一种共面波导结构是由李振森;齐伟;王玲设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种共面波导结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种共面波导结构，包括：顺次贴合的顶层覆盖膜、基材、底层覆盖膜，顶层覆盖膜镶嵌有微带线区顶层参考地层；底层覆盖膜镶嵌有微带线区底层地层；微带线区顶层参考地层包括：微带线区线、第一共面波导区线、第二共面波导区线、共面波导区边缘参考地线、共面波导区中间参考地线；共面波导区边缘参考地线位于顶层覆盖膜的两侧；微带线区差分线、第一共面波导区线、第二共面波导区线位于共面波导区边缘参考地线之间；微带线区差分线位于顶层覆盖膜的两端，并沿顶层覆盖膜中间方向一分为二形成第一共面波导区线、第二共面波导区线；共面波导区中间参考地线的两端均设置有过渡地孔。本发明的共面波导结构能够加强线间耦合。

本发明授权一种共面波导结构在权利要求书中公布了：1.一种共面波导结构，其特征在于，包括：顺次贴合的顶层覆盖膜、基材、底层覆盖膜，所述顶层覆盖膜镶嵌有微带线区顶层参考地层；所述底层覆盖膜镶嵌有微带线区底层地层； 所述微带线区顶层参考地层包括：微带线区差分线、第一共面波导区线、第二共面波导区线、共面波导区边缘参考地线、共面波导区中间参考地线； 所述共面波导区边缘参考地线位于所述顶层覆盖膜的两侧； 所述微带线区差分线、所述第一共面波导区线、所述第二共面波导区线位于所述共面波导区边缘参考地线之间； 所述微带线区差分线位于所述顶层覆盖膜的两端，并沿所述顶层覆盖膜中间方向一分为二形成所述第一共面波导区线、所述第二共面波导区线； 所述共面波导区中间参考地线位于所述第一共面波导区线、所述第二共面波导区线之间，且所述共面波导区中间参考地线的两端均设置有过渡地孔； 所述过渡地孔贯穿所述共面波导区中间参考地线、所述基材、所述微带线区底层地层而设置； 所述共面波导区边缘参考地线包括：第一段和第二段，所述第一段和所述第二段的连接处设置为圆弧状； 所述第一段位于所述微带线区差分线的外侧，所述第二段位于所述第一共面波导区线、所述第二共面波导区线的外侧； 所述第一段靠近所述微带线区差分线处，设置有若干微带线区参考地过孔，所述微带线区参考地过孔贯穿所述第一段、所述基材、所述微带线区底层地层而设置。

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