苏州润邦半导体材料科技有限公司马晓明获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州润邦半导体材料科技有限公司申请的专利一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121028475B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511573380.2，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法是由马晓明;杨槐;陈玉;高清设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种防倒塌的光刻胶冲洗液，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂，所述冲洗液中非离子表面活性剂的重量含量为1000‑2000ppm；所述阴离子表面活性剂采用了烷基醚磷酸酯，所述烷基醚磷酸酯由单烷基醚磷酸酯和双烷基醚磷酸酯混合而成；溶剂为去离子水；所述冲洗液在20℃的静态表面张力为25‑30mNm。本发明通过非离子表面活性剂与阴离子表面活性剂进行复配，能够提高表面活性剂的活性，将表面张力进一步降低，减少光刻胶线条内的应力，从而防止结构倒塌。
本发明授权一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法在权利要求书中公布了：1.一种防倒塌的光刻胶冲洗液，包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、有机碱和溶剂，其特征在于，所述冲洗液中非离子表面活性剂的浓度为1200ppm，所述非离子表面活性剂由脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9和月桂胺聚氧乙烯醚按照质量比1：1混合而成； 所述阴离子表面活性剂的浓度为500ppm，所述阴离子表面活性剂由鲸蜡醇聚氧乙烯醚磷酸酯与二月桂醇聚氧乙烯醚磷酸酯按照质量比6：4混合而成，其中，鲸蜡醇聚氧乙烯醚磷酸酯的EO数为10，二月桂醇聚氧乙烯醚磷酸酯的EO数为6； 所述有机碱采用了浓度为500ppm的四甲基氢氧化铵； 溶剂为去离子水； 所述冲洗液在20℃的静态表面张力为25-30mNm。
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