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龙图腾网获悉核工业北京化工冶金研究院申请的专利一种用于矿层的射孔压裂方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121205579B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511748552.5，技术领域涉及：E21B43/28；该发明授权一种用于矿层的射孔压裂方法是由侯代稳;李宏星;原渊;谢廷婷;李召坤;杜志明;丁叶;邓锦勋设计研发完成，并于2025-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于矿层的射孔压裂方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种用于矿层的射孔压裂方法，包括以下步骤：对矿层中的目标层段进行射孔处理，射孔处理的射孔密度与目标层段的品位信息关联；对经射孔处理后的目标层段进行第一次吸水剖面测试，得到目标层段的第一吸水量；当目标层段的品位信息大于或等于预设品位信息时，对经第一次吸水剖面测试后的目标层段，进行微压裂处理；对经微压裂处理后的目标层段，进行第二次吸水剖面测试，得到目标层段的第二吸水量；根据第二吸水量和第一吸水量，确定目标层段的待补射参数。本申请对矿层内部品位信息不同的层段进行差异化处理，平衡高品位的层段的充分开采和低品位的层段的经济开采要求，最终实现低渗透砂岩型铀矿的高效、经济与可持续开发。

本发明授权一种用于矿层的射孔压裂方法在权利要求书中公布了：1.一种用于矿层的射孔压裂方法，其特征在于，包括以下步骤： 对所述矿层中的目标层段进行射孔处理，所述射孔处理的射孔密度与所述目标层段的品位信息关联； 对经射孔处理后的所述目标层段进行第一次吸水剖面测试，得到所述目标层段的第一吸水量； 当所述目标层段的品位信息大于或等于预设品位信息时，对经所述第一次吸水剖面测试后的所述目标层段，进行微压裂处理； 对经所述微压裂处理后的所述目标层段，进行第二次吸水剖面测试，得到所述目标层段的第二吸水量； 根据所述第二吸水量和所述第一吸水量，确定所述目标层段的待补射参数；所述目标层段的待补射参数包括：补射孔密度； 根据所述第二吸水量和所述第一吸水量，确定所述目标层段的待补射参数的步骤，包括： 根据所述第二吸水量和所述第一吸水量的比值，确定所述目标层段的改善倍率； 根据预设倍率和所述改善倍率的差值，确定所述目标层段的待补射参数； 当所述预设倍率和所述改善倍率的差值大于0时，所述目标层段的补射孔密度和所述差值成正比； 其中，所述目标层段的补射孔密度=所述预设倍率-所述改善倍率×10×预设射孔密度； 当所述预设倍率和所述改善倍率的差值小于或等于0时，所述目标层段的补射孔密度为0孔米。

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