买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121432797B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511971699.0，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端是由熊万能;李娟设计研发完成，并于2025-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端在说明书摘要公布了：本申请提供一种基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端，通过化学机械抛光工艺仿真工具，获得晶圆表面的三维轮廓高度图，并通过构建增强型光刻模型来感知晶圆表面的形貌变化，并在增强型光刻模型可以感知形貌变化的基础上通过光学邻近修正模型进行光学邻近效应校正和光刻仿真验证。本发明从根本上解决了传统OPC模型因忽略CMP形貌而存在的系统性误差，大幅提升了光刻仿真预测的准确性，并在光刻仿真验证阶段通过多次设计‑工艺协同的优化处理闭环，在流片前即可前瞻性地发现并消除由复杂工艺交互效应引发的制造缺陷，从根本上降低了开发风险与成本。

本发明授权基于化学机械抛光的光学邻近效应校正仿真方法、装置、程序产品及终端在权利要求书中公布了：1.一种基于化学机械抛光形貌感知的光学邻近效应校正仿真方法，其特征在于，包括： 基于目标设计版图，通过化学机械抛光工艺仿真工具，获得第一晶圆表面的三维轮廓高度图；其中，所述第一晶圆表面为前层光刻层经过化学机械抛光工艺后所形成的表面；其中，所述三维轮廓高度图包括：所述第一晶圆表面上的所有点到参考平面的高度的集合； 将所述第一晶圆表面的三维轮廓高度图集成至光刻仿真模型中，以构建增强型光刻模型；所述增强型光刻模型用于输出第一晶圆表面的形貌感知数据； 其中，所述第一晶圆表面的三维轮廓高度图集成至光刻仿真模型中，以构建增强型光刻模型的过程包括：获得所述第一晶圆表面上的任意一点的有效焦平面，所述有效焦平面根据所述三维轮廓高度图获得； 基于所述增强型光刻模型输出的形貌感知数据，使用光学邻近修正模型对当层光刻层图形进行光学邻近效应校正运算，以生成校正后的当层光刻层的掩模版数据；并将所述当层光刻层的掩模版数据光刻于所述第一晶圆表面以进行光刻仿真验证；其中，所述当层光刻层的掩模版数据光刻于所述第一晶圆表面并经过化学机械抛光工艺后形成第二晶圆表面。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：311100 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。