买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉罗博特科智能科技股份有限公司申请的专利等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121575383B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610110596.3，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置是由戴军;张学强;管晓远设计研发完成，并于2026-01-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置在说明书摘要公布了：本发明涉及光伏电池制备领域，具体提供了一种等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置。该方法包括：获取等离子体增强化学气相沉积工艺机台在运行过程中的状态参数向量，并预测与其对应的预测膜层厚度；若预测膜层厚度不满足预设误差，选取状态参数向量中贡献度排名靠前的k个可调节因子作为目标调节因子；按照膜层厚度的梯度下降方向，在良品历史数据库中，查找与各个目标调节因子的状态参数的欧式距离最小的历史状态参数，作为当前配方参数；根据当前配方参数对应的状态参数向量重新生成预测膜层厚度，直至预测膜层厚度满足预设误差，将当前状态参数向量中的参数作为目标配方。本发明提供的技术方案，降低光伏电池片生产的不良率。

本发明授权等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法，其特征在于，所述方法包括： 获取等离子体增强化学气相沉积工艺机台在运行过程中的状态参数向量；其中，所述状态参数向量包括不同维度的膜层厚度影响因子的状态参数； 将所述状态参数向量输入预设膜层厚度预测模型，得到预测膜层厚度； 在所述预测膜层厚度与需求膜层厚度之差的绝对值大于预设阈值的情况下，对所述状态参数向量中的膜层厚度影响因子按照贡献度进行排序，并选取贡献度排名靠前的k个可调节因子作为目标调节因子； 按照膜层厚度的梯度下降方向，在良品历史数据库中，查找与各个所述目标调节因子的状态参数的欧式距离最小的历史状态参数，作为当前配方参数；其中，所述良品历史数据库中包括多个良品配方，所述良品配方包括多个膜层厚度影响因子的历史状态参数； 根据所述当前配方参数生成当前状态参数向量，并基于所述当前状态参数向量重新生成预测膜层厚度，直至所述预测膜层厚度与所述需求膜层厚度之差的绝对值小于或等于预设阈值，将当前状态参数向量中的参数作为目标配方。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人罗博特科智能科技股份有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市工业园区唯亭港浪路3号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。