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龙图腾网获悉江西驰宇光电科技发展有限公司申请的专利一种激光陀螺反射镜的加工方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121591420B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610124756.X，技术领域涉及：C03C17/34；该发明授权一种激光陀螺反射镜的加工方法及装置是由李敏;饶谷音;黄云;黄宗升;许光明;战德军设计研发完成，并于2026-01-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种激光陀螺反射镜的加工方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种激光陀螺反射镜的加工方法及装置，属于激光陀螺加工技术领域。该方法根据基准沉积速率预设参考厚度，基于多组参考厚度和等效反射率拟合反射率函数，在加工过程中结合反射镜的实时反射率快速预测当前沉积层的实时厚度，基于实时厚度计算实时沉积速率，再根据实时沉积速率调节离子束流，使得当前沉积层的沉积速率逼近基准沉积速率，保证结合基准沉积速率预设的参考厚度与现场加工条件一致。本发明能有效提高激光陀螺反射镜二次加工的精度，以此获得具有高反射率和低损耗的反射镜。

本发明授权一种激光陀螺反射镜的加工方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种激光陀螺反射镜的加工方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1：清洗反射镜基底，再将反射镜基底固定在沉积室，预设目标沉积序列，目标沉积序列包含不同层数的沉积厚度，初始化离子束流和束流调节比，初始化层数n=1； 步骤2：基于基准沉积速率和沉积厚度生成多个参考厚度，计算各参考厚度对应的等效反射率，由多组参考厚度和等效反射率拟合反射率函数； 步骤3：离子源向沉积室内发射离子束，离子束轰击靶材后溅射靶材原子，靶材原子在反射镜基底形成沉积层； 步骤4：光发生器经第一通道向反射镜基底发射入射光，光接收器经第二通道接收反射光并测量反射光强，计算实时反射率； 步骤5：基于反射率函数和实时反射率预测实时厚度，若实时厚度小于层数n的沉积厚度，进入步骤6，否则进入步骤7； 步骤6：定义基于采样次数的滑动窗口，由滑动窗口内的多组实时厚度计算实时沉积速率，更新束流调节比，调整离子源的离子束流，返回至步骤3； 步骤7：若n小于最大层数N+1，调整靶材，n=n+1，返回至步骤2，否则结束任务， 在步骤2中，基于基准沉积速率和采样间隔计算插值步长，基于插值步长和沉积厚度确定多个参考厚度，基于各参考厚度的参考特征矩阵和层数n-1的累积特征矩阵计算等效反射率，再以参考厚度为横轴，等效反射率为纵轴拟合层数n的反射率函数， 基于层数n的折射率和参考厚度计算对应的相位厚度，结合层数n的光学导纳生成该参考厚度的参考特征矩阵，基于层数n-1的最终厚度更新累积特征矩阵，根据参考特征矩阵和累积特征矩阵生成系数矩阵，基于系数矩阵计算等效导纳，最后获得等效反射率， 在步骤6中，所述束流调节比为沉积速率与离子束流的比值，采集有效沉积面积，输入靶材密度和沉积密度，再初始化束流调节比，结合当前的离子束流和实时沉积速率更新束流调节比。

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