江苏凯迪微技术股份有限公司江永获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏凯迪微技术股份有限公司申请的专利一种用于撕金去胶的清洗腔室获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224084008U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520773257.4，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型一种用于撕金去胶的清洗腔室是由江永设计研发完成，并于2025-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于撕金去胶的清洗腔室在说明书摘要公布了：本实用新型公开了半导体加工设备领域的一种用于撕金去胶的清洗腔室，包括底板及设于其上的清洗仓，清洗仓内设有用于定位放置硅片的清洗盘，清洗盘由底板底部的主轴电机控制转动，清洗仓底部周向设置有二流体清洗组件、去离子水清洗组件和氮气吹扫组件，用于对硅片进行清洗处理，清洗仓底部固定有环绕清洗盘的挡圈安装座，其内周向插入可升降的挡圈件，挡圈件顶部延伸部设有显露清洗盘的中心开口部并设有第二通过口，清洗仓顶部设有向内部吹风的FFU风机，内壁设有连通外部的第一出风口，通过在清洗仓内部增设形成气流场的结构，清洗气流可携带气雾导向硅片下方，并随着第一通风口和第二通风口排出，防止气雾反流造成污染。
本实用新型一种用于撕金去胶的清洗腔室在权利要求书中公布了：1.一种用于撕金去胶的清洗腔室，包括底板以及设置于底板上的清洗仓，其特征在于：所述清洗仓内设有用于定位放置硅片的清洗盘，所述清洗盘通过安装在底板底部的主轴电机控制转动； 所述清洗仓的底部分别设置有用于清洗硅片的二流体清洗组件、去离子水清洗组件和氮气吹扫组件，所述二流体清洗组件、去离子水清洗组件和氮气吹扫组件周向设置于清洗盘的外围； 所述清洗仓的底部固定设置有环绕清洗盘的挡圈安装座，所述挡圈安装座内周向插入可升降的挡圈件，所述挡圈件的顶部设有水平向内延伸的延伸部，所述延伸部开设有用于显露清洗盘的中心开口部，所述挡圈件的外侧开设有两个第二出风口，所述第二出风口通过排风管与底板的底部导通； 所述清洗仓的顶部设置有向清洗仓内部吹风的FFU风机，所述清洗仓的内壁设置有若干个连通外部的第一出风口。
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