中国计量科学研究院齐雅平获国家专利权
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龙图腾网获悉中国计量科学研究院申请的专利一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置和测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116008881B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211547857.6，技术领域涉及：G01R33/24；该发明授权一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置和测量方法是由齐雅平;王坤;张健;黄骥设计研发完成，并于2022-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置和测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置和测量方法。其中，上述测量装置包括第一电磁铁；第二电磁铁，第一电磁铁和第二电磁铁的中轴线重合且两者间存在间隙；水箱，水箱放置于间隙之中；电离室，电离室插入水箱中，且电离室的中轴线和第一电磁铁的中轴线形成平面A；光子源，光子源位于平面A之外，且光子源形成的光子束垂直平面A。本发明提供的测量装置，能够实现强外部磁场中光子束参考剂量的磁场修正因子的准确测量。本发明还提供了磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量方法。
本发明授权一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置和测量方法在权利要求书中公布了：1.一种磁场中光子束参考剂量磁场修正因子的测量装置，其特征在于，所述测量装置包括： 第一电磁铁110； 第二电磁铁120，所述第一电磁铁110和所述第二电磁铁120的中轴线重合且两者间存在间隙； 水箱200，所述水箱200放置于所述间隙之中； 电离室300，所述电离室300插入所述水箱200中，且所述电离室300的中轴线和所述第一电磁铁110的中轴线形成平面A； 光子源400，所述光子源400位于所述平面A之外，且所述光子源400形成的光子束410垂直所述平面A。
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