北京北方华创微电子装备有限公司邵湛惟获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利前电极组件、前电极组件和半导体工艺设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116313722B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310272794.6,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权前电极组件、前电极组件和半导体工艺设备是由邵湛惟;李建国;周振溪设计研发完成,并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本前电极组件、前电极组件和半导体工艺设备在说明书摘要公布了:本发明提供一种前电极组件,半导体工艺设备包括工艺腔室和固定设置在工艺腔室中且相互平行的两个支撑杆,承载晶圆的第一晶舟支撑于两个支撑杆上,前电极组件包括用于设置在每个支撑杆上的第一复位接触机构,第一复位接触机构具有可移动的晶舟接触面,且晶舟接触面能够在第一晶舟落在支撑杆上时与第一晶舟的底部接触,以使半导体工艺设备的第一供电组件能够通过两个支撑杆上的第一复位接触机构向第一晶舟提供射频信号。本发明方案能够避免支撑杆或晶舟上的电极结构被镀膜,保证支撑杆与晶舟之间电接触的稳定性。本发明还提供一种前电极组件和一种半导体工艺设备。
本发明授权前电极组件、前电极组件和半导体工艺设备在权利要求书中公布了:1.一种前电极组件,用于半导体工艺设备,所述半导体工艺设备包括工艺腔室和固定设置在所述工艺腔室中且相互平行的两个支撑杆,承载晶圆的第一晶舟支撑于两个所述支撑杆上,其特征在于,所述前电极组件包括用于设置在每个所述支撑杆上的第一复位接触机构,所述第一复位接触机构具有可移动的晶舟接触面,且所述晶舟接触面能够在所述第一晶舟落在所述支撑杆上时与所述第一晶舟的底部接触,从而在所述第一晶舟落在所述第一复位接触机构上并下压所述晶舟接触面时,所述晶舟接触面能在所述第一复位接触机构的复位功能的作用下紧贴第一晶舟的底部表面,以使所述半导体工艺设备的第一供电组件能够通过两个所述支撑杆上的所述第一复位接触机构向所述第一晶舟提供射频信号。
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