厦门大学吴挺竹获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉厦门大学申请的专利高转换效率量子点色转换层的制备方法及其全彩显示应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116344715B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310419422.1，技术领域涉及：H10H29/01；该发明授权高转换效率量子点色转换层的制备方法及其全彩显示应用是由吴挺竹;赵志;王树立;黎赛军;郭文安;刘时彪;苏毓涵;林岳;朱丽虹;陈忠设计研发完成，并于2023-04-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本高转换效率量子点色转换层的制备方法及其全彩显示应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高转换效率量子点色转换层的制备方法，其是对硬质透明衬底的表面进行图案化，得到分立间隔排布的凸起结构阵列，并于图案化的表面上沉积量子点单元得到量子点色转换层，其图案化的表面可以帮助器件内部光子纵向传播，从而提高光提取效率；用于Micro‑LED全彩显示，显示效果好，且制作工艺简单，避免巨量转移，成本低，可以作为显示器的封装层，更易于批量化生产。
本发明授权高转换效率量子点色转换层的制备方法及其全彩显示应用在权利要求书中公布了：1.一种高转换效率量子点色转换层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1提供厚度为0.4~0.6mm的玻璃基板，于玻璃基板表面依次形成铬层以及光刻胶层；图案化所述光刻胶层，曝光显影后留下若干分立间隔排布的遮蔽区域；以图案化光刻胶层为掩膜，蚀刻去除未遮蔽区域的铬层；蚀刻未遮蔽区域的玻璃基板表面，蚀刻深度为凸起结构的高度；依次剥离图案化光刻胶层和铬层，于所述玻璃基板表面形成分立间隔排布的凸起结构阵列，其中凸起结构的高度≤2μm，尺寸为1~5μm，间隔为1~5μm； 2于图案化的表面规划子像素形成区矩阵和分隔子像素形成区的隔离区，对隔离区表面进行疏水处理；其中各子像素形成区分别包括若干凸起结构，且凸起结构于子像素形成区均匀分散排布； 3采用喷墨打印工艺于子像素形成区形成量子点单元，所述量子点单元的厚度＞凸起结构的高度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人厦门大学，其通讯地址为：361000 福建省厦门市思明南路422号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励