京东方科技集团股份有限公司刘英伟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利基板、其制作方法及显示面板获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115132905B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110298339.4,技术领域涉及:H10H29/49;该发明授权基板、其制作方法及显示面板是由刘英伟;曹占锋;王珂;张国才;闫俊伟设计研发完成,并于2021-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板、其制作方法及显示面板在说明书摘要公布了:本申请实施例提供了一种基板、其制作方法及显示面板。该基板包括衬底、有机层、第一金属层和第二金属层;有机层位于衬底的一侧,设置有多个贯穿有机层的开口;第一金属层包括多个第一金属图案,第一金属图案位于开口内且包括平行于开口底部平行的第一部分以及平行于开口侧壁的第二部分;第二金属层厚度大于第一金属层且包括多个第二金属图案,第二金属图案位于开口内且与第一金属图案接触,第一金属层的远离衬底一侧的表面到衬底所在平面的距离,小于有机层远离衬底一侧的表面到衬底所在平面的距离。本实施例通过在有机层上先形成第一金属层,第一金属层的导电性能够使得电场密度分布较为均一,以使得电镀法制得的第二金属层的厚度较为均一。
本发明授权基板、其制作方法及显示面板在权利要求书中公布了:1.一种基板,其特征在于,包括: 衬底; 有机层,位于衬底的一侧,设置有多个贯穿所述有机层的开口;图形化后的有机层包括包围开口的挡墙,所述挡墙的侧壁为所述开口的侧壁,所述挡墙的坡度角控制在70°~80°; 第一金属层,包括多个第一金属图案,所述第一金属图案位于所述开口内且包括平行于所述开口底部平行的第一部分以及平行于所述开口侧壁的第二部分,所述第一部分与所述第二部分相互接触且连续分布,所述第二部分远离所述衬底的一端到所述衬底所在平面的距离,小于所述有机层远离所述衬底一侧的表面到所述衬底所在平面的距离; 第二金属层,厚度大于所述第一金属层且包括多个第二金属图案,所述第二金属图案位于所述开口内且与所述第一金属图案接触,所述第二金属层的远离所述衬底一侧的表面到所述衬底所在平面的距离,小于所述有机层远离所述衬底一侧的表面到所述衬底所在平面的距离; 所述第二金属图案包括具有第一厚度d1的第一区域和位于所述第一区域周围的且具有第二厚度d2的第二区域,所述第二厚度d2不低于所述第一厚度d1的90%。
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