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龙图腾网获悉中国测试技术研究院申请的专利基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121559740B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610071844.8，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法是由李貌;李翠;杨济华;蒲妍宇;曾昕;文捷设计研发完成，并于2026-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学系统设计与优化技术领域，公开了基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法。该方法包括基于广义惠更斯‑菲涅尔衍射原理构建光场传输模型，计算得到通过双焦系统后的出射场与轴上光强分布。通过识别光强主极大值点，并计算其与几何焦点的偏移量，形成量化焦开关现象的发生判据，进而分析焦点稳定性。在此基础上，对光束截断参数和菲涅尔数进行联合迭代优化，调整系统参数，直至稳定性满足预设阈值，最终输出优化的系统配置方案。该方法能够在设计阶段有效预判并抑制物理光学效应引起的焦点位置跳变，提高双焦系统在实际工作中的可靠性与稳定性。

本发明授权基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法在权利要求书中公布了：1.一种基于基模高斯光束的双焦光学系统优化方法，其特征在于，所述方法包括： 获取双焦光学系统的系统参数集合，基于广义惠更斯-菲涅尔衍射积分公式构建用于描述基模高斯光束通过双焦光学系统传输的初始光场模型； 将所述系统参数集合及基模高斯光束的光束参数输入所述初始光场模型进行传输计算，得到光束通过所述双焦光学系统后的出射场分布函数； 基于所述出射场分布函数计算所述基模高斯光束在传输轴上的光强分布，生成轴上光强分布数据； 对所述轴上光强分布数据进行光强主极大值位置检测处理，识别出至少两个主光强极大值点及其对应的焦点位置； 根据所述焦点位置与几何焦点位置的偏移量计算焦开关现象的发生判据，生成焦点稳定性分析结果； 基于所述焦点稳定性分析结果对所述系统参数集合中的光束截断参数和光束菲涅尔数进行联合优化调整，生成优化系统参数集合； 将所述优化系统参数集合输入所述广义惠更斯-菲涅尔衍射积分公式进行迭代计算，直至所述焦点稳定性分析结果满足预设的焦点稳定性阈值条件，生成最终优化的双焦光学系统配置方案； 所述基于所述焦点稳定性分析结果对所述系统参数集合中的光束截断参数和光束菲涅尔数进行联合优化调整，生成优化系统参数集合，包括： 当所述焦点稳定性分析结果为焦点不稳定状态时，读取导致焦开关现象的光束截断参数临界值和光束菲涅尔数临界值； 以所述光束截断参数临界值和光束菲涅尔数临界值为基准，在参数空间中分别沿增大方向和减小方向进行步进调整，生成多组光束截断参数候选值与光束菲涅尔数候选值； 将每组所述光束截断参数候选值与光束菲涅尔数候选值组合，替换原始系统参数集合中的对应参数，形成多个候选系统参数集合； 将每个所述候选系统参数集合代入所述广义惠更斯-菲涅尔衍射积分公式进行焦点稳定性验证计算； 筛选出使得焦点稳定性分析结果转变为稳定状态的所述候选系统参数集合，作为所述优化系统参数集合。

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