深圳市思坦科技有限公司孙铮获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市思坦科技有限公司申请的专利混合光刻胶、金属电极的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116149138B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310176660.4，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权混合光刻胶、金属电极的制备方法是由孙铮设计研发完成，并于2023-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本混合光刻胶、金属电极的制备方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种混合光刻胶、金属电极的制备方法，涉及发光技术领域。该混合光刻胶的原料包括负性光刻胶和消光光刻胶，两者体积比为2.5‑3.5：1。金属电极的制备方法包括：在设定结构表面使用负性光刻胶进行第一涂覆，得到第一光刻胶层；继续使用混合光刻胶进行第二涂覆，得到第二光刻胶层；对双层光刻胶层进行曝光，得到具有设定图案的双层光刻胶层；在具有设定图案的第二光刻胶层上设置金属层；对金属层下的双层光刻胶层进行剥离，得到金属电极。
本发明授权混合光刻胶、金属电极的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种金属电极的制备方法，其特征在于，所述方法包括： 在设定结构表面使用负性光刻胶进行第一涂覆，得到第一光刻胶层； 在所述第一光刻胶层的表面使用混合光刻胶进行第二涂覆，得到第二光刻胶层； 对所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层进行曝光，得到具有设定图案的所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层； 在具有所述设定图案的第二光刻胶层上设置金属层； 对所述金属层下的第一光刻胶层和第二光刻胶进行剥离，得到的金属膜层为金属电极； 所述混合光刻胶的原料包括负性光刻胶和消光光刻胶，在所述混合光刻胶中的所述负性光刻胶和所述消光光刻胶的体积比为2.5-3.5：1； 所述消光光刻胶包括黑色光刻胶。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市思坦科技有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区工业园路1号1栋凯豪达大厦十三层1309；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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