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最新专利技术
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410832240.1
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括显示膜片，显示膜片具有投影受光面；支架单元，支架单元包括支撑座和滚筒，滚筒转动设置在支撑座上，至少部分显示膜片卷设于滚筒外周；导向单元，其被配置为活动设置在支撑座上，导向单元包括导向件和至少两个...
    2026-03-07
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410832488.8
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括显示膜片，显示膜片具有投影受光面；支架单元，支架单元包括滚筒和升降组件，升降组件包括底座和升降件，滚筒转动设置在底座上，至少部分显示膜片卷设于滚筒外周，升降件的第一端连接于显示膜片的端部，升降件...
    2026-03-07
  • 投影屏幕及投影系统
    投影屏幕及投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410832666.7
    本申请提供一种投影屏幕及投影系统，投影屏幕包括：显示膜片，显示膜片具有投影受光面；支架单元，支架单元包括支撑座、滚筒以及升降支架，滚筒转动设置在支撑座上，至少部分显示膜片卷设于滚筒外周，升降支架活动设置在显示膜片的顶端和支撑座之间，在升降支...
    2026-03-07
  • 一种投影屏幕、投影屏幕的制作方法及投影装置
    一种投影屏幕、投影屏幕的制作方法及投影装置_青岛海信激光显示股份有限公司_202410840992.2
    本申请公开了一种投影屏幕、投影屏幕的制作方法及投影装置，涉及投影显示技术领域，用于解决现有的投影屏幕的反射层的抗划伤能力较弱。该投影屏幕包括反射层以及至少一层功能层。反射层用于反射光线，至少一层功能层层叠设置于反射层的一侧。其中，反射层包括...
    2026-03-07
  • 一种用于近焦投影的连续变轴微反射镜阵列
    一种用于近焦投影的连续变轴微反射镜阵列_矽万(上海)半导体科技有限公司_202511718561.X
    本发明公开了一种用于近焦投影的连续变轴微反射镜阵列，包括：柔性UV胶基底；微反射镜阵列，形成于所述柔性UV胶基底的表面，包括在X轴方向和Y轴方向周期性排列的多个微反射镜；以及反射膜，形成于所述微反射镜阵列的表面，其中，所述微反射镜阵列构造为...
    2026-03-07
  • 一种投影屏幕和投影系统
    一种投影屏幕和投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410833190.9
    本发明公开了一种投影屏幕和投影系统，投影屏幕包括菲涅尔透镜层，位于菲涅尔透镜层的各透镜单元表面的波长选择反射层，以及位于菲涅尔透镜层背离波长选择反射层一侧的第一扩散层。投影光线入射到投影屏幕之后先经过第一扩散层，第一扩散层对投影光线进行较小...
    2026-03-07
  • 太赫兹波段的仿复眼广角镜头
    太赫兹波段的仿复眼广角镜头_潍坊学院_202311445236.1
    本发明属于光学镜头成像技术领域，涉及一种太赫兹波段的仿复眼广角镜头，包括主复眼镜头组和侧面复眼镜头组，侧面复眼镜头组设置在主复眼镜头组侧部；主复眼镜头组沿光轴从物面到像面依次包括主复眼第一单透镜、主复眼第二单透镜、主复眼第三单透镜、主复眼第...
    2026-03-07
  • 一种工业X射线胶片及其制备方法
    一种工业X射线胶片及其制备方法_潍坊恒彩数码影像材料有限公司_202511251777.X
    本发明提供一种工业X射线胶片及其制备方法，涉及工业X射线胶片领域。所述工业X射线胶片的制备方法，包括有以下步骤：制备卤化银立方体颗粒乳剂、原位复合改性、制备乳剂层涂布液、涂布成型。本发明的工业X射线胶片的制备方法，能够有效克服影像颗粒度明显...
    2026-03-07
  • 与光罩盒进行交互掩模版的装置
    与光罩盒进行交互掩模版的装置_新毅东(北京)科技有限公司_202511747541.5
    本发明涉及半导体领域，提供一种与光罩盒进行交互掩模版的装置。与光罩盒进行交互掩模版的装置包括连杆传动组件，包括具有U形槽的第一连杆以及与第一连杆连接的第二连杆，连杆传动组件用于切换光罩盒的锁紧与解锁状态；动力驱动组件，包括电机、由电机驱动的...
    2026-03-07
  • 一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法
    一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法_广州新锐光掩模科技有限公司_202511471430.6
    本发明涉及一种棋盘光栅光掩模制造精度优化方法，包括：根据产品精度要求的高低选择不同的光刻工艺；根据上述选择的不同的光刻工艺对基材进行处理，设定基材上铬层的厚度，同时铬层具有高反射性，在根据不同的光刻工艺在铬层上涂覆不同的光阻层；分别针对不同...
    2026-03-07
  • 图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅
    图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅_上海鲲游科技有限公司_202511281583.4
    本发明提供了一种图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅，图形化挡板用于调制深度连续渐变的微纳光学结构，所述挡板包括：扇形基板一和扇形基板二，所述扇形基板一与所述扇形基板二的圆心重合且其边缘相邻设置；所述扇形基板一由至少一个扇形段构...
    2026-03-07
  • 一种光罩清洗方法
    一种光罩清洗方法_绍兴芯链半导体科技有限公司_202511696756.9
    本发明公开了一种光罩清洗方法，涉及光罩技术领域。本发明具体包括以下步骤：S1、预处理，在光罩上设置感应单元，通过感应单元检测光罩表面各处受到的压力，记录干净的光罩受到冲洗时表面各处的压力，将干净的光罩各处受到的压力为标准压力；S2、开始清洗...
    2026-03-07
  • 处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷
    处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷_科磊股份有限公司_202511668160.8
    本发明涉及处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷。本发明提供用于光掩模缺陷处理的方法及系统。一种方法包含将能量引导到光掩模并从所述光掩模检测能量。所述光掩模经配置以供在一或多个极紫外光波长处使用。所述方法还包含基于所述所检测能量而检测所述光掩模...
    2026-03-07
  • 光敏树脂组合物、光敏树脂层、及使用其的半导体装置
    光敏树脂组合物、光敏树脂层、及使用其的半导体装置_三星SDI株式会社_202411818392.2
    提供了一种光敏树脂组合物、使用所述组合物制造的光敏树脂层以及包括所述光敏树脂层的半导体装置，所述光敏树脂组合物包括(A)树脂；(B)包含由化学式1表示的化合物的光聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；和(D)溶剂。(化学式1中，各取代基与具体实...
    2026-03-07
  • 固化性树脂组合物、固化膜和显示装置
    固化性树脂组合物、固化膜和显示装置_住友化学株式会社_202510824613.5
    本发明提供一种能够形成光扩散性和硬度优异的固化物的固化性树脂组合物。本发明提供一种固化性树脂组合物。该固化性树脂组合物含有树脂(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)和聚合物粒子(D)。树脂(A)是包含具有芳香族杂环的结构单元的聚合物。
    2026-03-07
  • 抗蚀剂材料及图案形成方法
    抗蚀剂材料及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202510856581.7
    本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且LWR小、CDU良好、曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，含有下式(a)表示的重...
    2026-03-07
  • 一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用
    一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511396221.X
    本发明提供一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用，以重量份计，所述正性光刻胶组合物包括100份改性酚醛树脂、0.5～10份重氮萘醌化合物和0.01～0.1份光致产酸剂；所述改性酚醛树脂的分子结构中包含式I所示结构。采用含有特定结构的酚醛树脂...
    2026-03-07
  • 一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件
    一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件_河南大学_202511404511.4
    本发明公开一种基于小分子室温交联制备QD图案的方法及其制得的QLED光刻器件，属于量子点(QD)纳米技术图案化显示技术领域。通过在QD溶液中引入小分子材料4, 4'‑双(3‑乙烯基‑9H‑咔唑‑9‑基)‑1, 1'‑联苯(CBP‑V)和光引...
    2026-03-07
  • 一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物
    一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物_烟台希尔德材料科技有限公司_202511645065.6
    本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种用于有机绝缘膜的多元酸酐基正性光刻胶组合物，以质量份计，包括以下组分：基于多元羧酸衍生物的亚克力聚合物20‑100份；光致产酸剂0.03‑20份；酸生成剂或者碱生成剂0.01‑10份；表面活性剂0.01...
    2026-03-07
  • 一种减少EBR区域光刻胶残留的方法
    一种减少EBR区域光刻胶残留的方法_重庆中科渝芯电子有限公司_202511618658.3
    本发明公开一种减少EBR区域光刻胶残留的方法，包括以下步骤：1)对晶圆进行预处理；2)采用旋涂法在预处理后的晶圆表面涂光刻胶；3)对完成光刻胶涂敷的晶圆用EBR液做边缘、背面清洗；4)对完成EBR清洗的晶圆做干燥处理。本发明解决了机台在EB...
    2026-03-07
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