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最新专利技术
  • 中框及其加工方法、电子设备及可穿戴设备
    中框及其加工方法、电子设备及可穿戴设备_荣耀终端股份有限公司_202411097722.3
    本申请实施例提供一种中框及其加工方法、电子设备及可穿戴设备，涉及电子产品技术领域。该中框包括金属框体、非金属框体和密封层，其中，金属框体内侧设有凸出的馈电部。非金属框体设置于金属框体的内侧，馈电部贯穿非金属框体，且馈电部的端部凸出于非金属框...
    2026-03-16
  • 一种基于扩频通信的水下激光授时系统及方法
    一种基于扩频通信的水下激光授时系统及方法_中国船舶集团有限公司第七〇七研究所_202511884201.7
    本发明涉及一种基于扩频通信的水下激光授时系统及方法，包括授时端和被授时端。被授时端将本地时间进行扩频调制并驱动激光器将光信号发往水下信道；授时端接收到被授时端的时间信号后进行解扩处理，与本地高精度时间信号作比对，并将比对结果和本地高精度时间...
    2026-03-16
  • 一种手表测试压盖通电通讯测试模组
    一种手表测试压盖通电通讯测试模组_珠海博杰电子股份有限公司_202511703994.8
    本发明提出一种手表测试压盖通电通讯测试模组，包括：固定盘和固定机构，固定机构包括固定块、第一连接杆、第一固定杆、第一弹簧、转动块和压板，固定块固定在固定盘上，第一连接杆固定在固定块的外壁，第一固定杆转动连接在固定块的外壁，第一弹簧安装在第一...
    2026-03-16
  • 一种非迭代优化的离轴振幅全息图生成方法
    一种非迭代优化的离轴振幅全息图生成方法_北京理工大学_202511758164.5
    提供一种非迭代优化的离轴振幅全息图生成方法。离线优化并存储初始相位；读取存储的优化初始相位，结合物平面的特定目标强度分布，生成物平面复振幅分布；将物平面复振幅通过带限角谱法传播到全息面；利用离轴参考光，将全息面的复振幅编码为离轴振幅全息图。...
    2026-03-16
  • 一种端到端的多维全息超表面设计方法、系统及电子设备
    一种端到端的多维全息超表面设计方法、系统及电子设备_湖北工业大学_202511743188.3
    本发明提供一种端到端的多维全息超表面设计方法、系统及电子设备，所述方法包括：超原子库的偏振维度扩展构建、超原子库的连续化可微处理、初始超表面的多维度随机化构建、双偏振光场的全息图像重建、多维度参数的梯度求解与优化、设计偏振敏感型损失函数、通...
    2026-03-16
  • 基于电调焦自适应光学器件的三维光学扫描全息系统
    基于电调焦自适应光学器件的三维光学扫描全息系统_长春理工大学_202610004211.5
    本发明涉及光学成像与检测技术领域，具体涉及一种基于电调焦自适应光学器件的三维光学扫描全息系统，包括以下光学及电气组件：激光器、分束器、声光调制器、第一平面镜、电调焦液体透镜、第一傅里叶透镜、第二平面镜、第二光瞳、第二傅里叶透镜、第二分束器、...
    2026-03-16
  • 一种显影盒
    一种显影盒_珠海市拓佳科技有限公司_202511848804.1
    本发明公开了一种显影盒，旨在提供一种结构简单和降低成本的显影盒。本发明包括盒体，盒体上设置有显影辊和端盖，显影辊转动连接在盒体上，且与感光鼓抵接；端盖上设置有分离部，分离部包括可转动的分离件和可活动的施力件，分离件的一端可接收图像成像装置的...
    2026-03-16
  • 一种复印机碳粉浓度检测及自动补粉装置
    一种复印机碳粉浓度检测及自动补粉装置_江西凯利德科技有限公司_202511896695.0
    本发明公开了一种复印机碳粉浓度检测及自动补粉装置，属于复印机配套设备技术领域，包括存粉机构、送粉机构、传粉机构和清洁机构，存粉机构用于对硒鼓的粉仓内的碳粉浓度进行检测，存粉机构还用于存储碳粉。送粉机构用于将碳粉输送到粉仓内；传粉机构用于将存...
    2026-03-16
  • 图像形成装置的控制方法、及图像形成装置
    图像形成装置的控制方法、及图像形成装置_珠海奔图电子有限公司_202610012750.3
    本申请提供了一种图像形成装置的控制方法、及图像形成装置，方法包括：获取颜色碳粉的平均覆盖率或小纸型打印模式的使用频率；将平均覆盖率或使用频率作为实际使用检测值；若实际使用检测值与相应的预设检测阈值满足预设关系，对转印过程中图像承载体和转印体...
    2026-03-16
  • 一种调色剂及其制备方法
    一种调色剂及其制备方法_湖北鼎龙控股股份有限公司_202511768728.3
    本发明提供一种调色剂及其制备方法，所述调色剂包含粘合剂树脂和着色剂的着色树脂颗粒以及外添加剂，所述粘合性树脂包含含羧基的丙烯酸酯树脂，所述外添加剂包含含羧基的丙烯酸酯聚合物改性金属颗粒。本发明通过使用特定的外添加剂和粘合剂树脂，制备的调色剂...
    2026-03-16
  • 半导体等离子体去胶机泄压管路结构
    半导体等离子体去胶机泄压管路结构_上海华力集成电路制造有限公司_202511759459.4
    本发明公开了半导体等离子体去胶机泄压管路结构，其用于工艺腔体向大气环境泄压，包括：充气管路，其连接在工艺腔体顶壁；单向阀，其连接在工艺腔体底壁，其经过缓冲管路连接大气环境；缓冲管路，其用于降低气流扰动。本发明能在不改变腔体主体结构的前提下消...
    2026-03-16
  • 胶层去除方法
    胶层去除方法_宁波众芯半导体有限公司_202411102737.4
    一种胶层去除方法，包括：提供基底，所述基底上具有待去除的胶层；对所述胶层进行第一湿法清洗处理；采用干法去胶工艺，对第一湿法清洗处理后的胶层进行干法去胶处理；对干法去胶处理后的胶层进行第二湿法清洗处理。本发明可以减轻胶丝玷污的严重性，以及减轻...
    2026-03-16
  • 抗静电显影剂及其制备方法与应用
    抗静电显影剂及其制备方法与应用_上海华力集成电路制造有限公司_202511736835.8
    本发明提供了一种抗静电显影剂及其制备方法与应用，制备方法包括：向负性显影剂中加入易溶于有机溶剂的离子液体，并搅拌至预设时长，得到抗静电显影剂。本发明提供的抗静电显影剂及其制备方法与应用，通过向负性显影剂中加入易溶于有机溶剂的离子液体，并搅拌...
    2026-03-16
  • 一种PCB板的显影方法
    一种PCB板的显影方法_江西旭昇电子股份有限公司_202610004447.9
    本发明公开了一种PCB板的显影方法，包括如下步骤：前处理：对覆铜基板进行微蚀处理，并确保微蚀量及水破测试符合工艺标准；图形转移：通过曝光将电路图形转移至基板的感光膜上；显影：将完成图形转移的基板送入DES线的显影段，采用喷射角度为15‑30...
    2026-03-16
  • 一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统
    一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统_深圳市瀚思通汽车电子有限公司_202610078897.2
    本发明涉及光波导母版制作工艺技术领域，公开了一种光波导母版刻蚀过程的监测与修正方法及系统，该方法包括：设定若干监测区域以及对应的监测点位，采集每个监测点位的实时监测数据；将实时监测数据输入至刻蚀分析模型中，得到每个监测点位的实时刻蚀系数；根...
    2026-03-16
  • 多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品
    多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品_中国科学院光电技术研究所_202610063493.6
    本申请公开了一种多工况补偿器参数计算方法、系统、介质和程序产品。主要涉及光刻技术领域，通过将离散的测量数据进行重构，使其能满足补偿器透过率求解的稳定性的需要，以及确保多工况条件下光强映射至统一网格后的可比性。再根据多种工况条件下的透过率分布...
    2026-03-16
  • 一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法
    一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法_安徽晶微科技有限公司_202512052372.X
    本申请涉及半导体制造技术领域，具体公开了一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法。该方法包括以下步骤：在硅片表面涂覆光刻胶，将开设有目标图形的掩膜版置于光刻机中，设置初始曝光光束尺寸，对涂覆有光刻胶的硅片进行曝光、显影处理，得到具有光刻图形的...
    2026-03-16
  • 表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法
    表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法_中国科学院光电技术研究所_202512029233.5
    本公开实施例提供了一种表面等离激元超分辨光刻自由照明光源优化方法，包括：利用表面等离激元超分辨光刻成像数值模型，根据自由照明分布参数与目标掩模图形进行表面等离激元超分辨光刻光场仿真，得到成像光强分布；根据成像光强分布和光刻胶模型，计算得到光...
    2026-03-16
  • 一种光刻机专用防微震基座
    一种光刻机专用防微震基座_南京幻能电子科技有限公司_202512026557.3
    本发明涉及光刻机基座技术领域，公开了一种光刻机专用防微震基座，包括：两个水泥基座，还包括：第一水泥壳，位于水泥基座一侧；第一隔离模块，位于第一水泥壳内；下面板，固定在第一水泥壳上方；加筋板件，固定在下面板上方，用于起到支撑的作用；上面板，固...
    2026-03-16
  • 一种双面曝光的背面对位方法、装置和曝光设备
    一种双面曝光的背面对位方法、装置和曝光设备_江苏影速集成电路装备股份有限公司_202511834097.0
    本申请涉及一种双面曝光的背面对位方法，装置和曝光设备，能够实现不同规格板材的高精度双面对准，包括如下步骤：在板材A面曝光时，获取在A面上个标记点的正面实际坐标以及在B面上靶标的背面实际坐标；在A面曝光完成并翻板后；获取背面对准组件采集到的标...
    2026-03-16
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