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最新专利技术
  • 一种螺旋式烤烟中耕培土装置
    一种螺旋式烤烟中耕培土装置_湖南中烟工业有限责任公司_202511929673.X
    本发明公开了一种螺旋式烤烟中耕培土装置，包括设于机壳架中的培土组件，还包括对所述培土组件进行清理的多维度维保模块，所述培土组件包括轴筒和绕设在所述轴筒外壁上的螺旋件；所述多维度保护模块包括动力组件、第一清理机构、第二清理机构和第三清理机构，...
    2026-03-19
  • 作业计划创建方法以及作业计划创建系统
    作业计划创建方法以及作业计划创建系统_洋马控股株式会社_202511008302.8
    本发明提供能够容易地创建针对田地的适当的作业计划的作业计划创建方法以及作业计划创建系统。针对田地进行行驶及作业的作业车辆(1)具备：信息输入部(60)，其输入与用于利用作业车辆(1)进行行驶及作业的作业计划相关的作业计划信息；作业计划创建部...
    2026-03-19
  • 一种适用于黏湿土壤的模块式垄作施肥播种机
    一种适用于黏湿土壤的模块式垄作施肥播种机_西北农林科技大学_202610088288.5
    本发明公开了一种适用于黏湿土壤的模块式垄作施肥播种机，属于农业机械技术领域，包括主机架及沿作业方向依次布置的旋转开沟起垄单元、地形感知单元、主动式垄沟精整单元、种肥分施单元与集成电液控制单元，主机架前部设分动箱，承接拖拉机PTO输出轴动力并...
    2026-03-19
  • 一种膜侧种植地膜回收的机械装置及方法
    一种膜侧种植地膜回收的机械装置及方法_内蒙古两宜生物科技集团有限公司_202610170896.0
    本发明公开了一种膜侧种植地膜回收的机械装置及方法，涉及地膜回收装置领域，包括：挡罩与两个呈对称安装于挡罩外侧的安装壳，挡罩的内侧转动安装有转筒，转筒的内侧设置有多个环形框，环形框的内侧设置有多个挑膜杆，挑膜杆延伸至转筒的外侧，两个安装壳之间...
    2026-03-19
  • 一种地形仿形精量花生播种与覆土镇压一体机
    一种地形仿形精量花生播种与覆土镇压一体机_伊犁哈萨克自治州农业科学研究所_202610031571.4
    本发明涉及农业播种机械技术领域，且公开了一种地形仿形精量花生播种与覆土镇压一体机，解决了背景技术中所提出的问题，包括机架及设置于其下方的开沟器、播种单元、覆土器和仿形镇压总成。仿形镇压总成包含平行四连杆仿形机构、镇压轮安装架、压力调节执行机...
    2026-03-19
  • 尤其是用于雾化甲醇的燃料喷射器及其相关的机器、方法和用途
    尤其是用于雾化甲醇的燃料喷射器及其相关的机器、方法和用途_海茵茨曼有限两合公司_202580002554.1
    为了在低于100 bar的低压下高效雾化诸如甲醇或乙醇等液态燃料，本发明提出一种喷射器(1)，该喷射器具有静态冲击体(11)，通过喷射器(1)的喷射喷嘴(2)产生的均匀燃料流体射流可以在该冲击体上雾化成微小液滴。在此情况下，从喷射器(1)的...
    2026-03-19
  • 夹紧式玻璃单元及其具有限制玻璃单元的周向滑动以保证其不会从其安装结构上松脱的形状的周边密封件
    夹紧式玻璃单元及其具有限制玻璃单元的周向滑动以保证其不会从其安装结构上松脱的形状的周边密封件_法国圣戈班玻璃厂_202180075593.6
    本发明涉及层压玻璃单元(1)及其周边密封件(11)的组装件，所述层压玻璃单元(1)包含透明结构块(2)，所述周边密封件(11)具有在结构块(2)的外表面与窗玻璃限位器(21)之间的第一间隔条部分(12)，和在结构块(2)的内表面与安装结构(...
    2026-03-19
  • 聚缩醛共聚物及其制造方法
    聚缩醛共聚物及其制造方法_宝理塑料株式会社_202180066236.3
    本发明涉及一种聚缩醛共聚物的制造方法，其包括：将三聚甲醛(A)100质量份、环状缩醛化合物(B)0.05～5质量份、氯含量为1～500质量ppm的脂肪族缩水甘油醚化合物(C)0.001～1质量份，在作为分子量调节剂的线状二甲氧基甲烷化合物(...
    2026-03-19
  • 布线基板及其制造方法、电子装置
    布线基板及其制造方法、电子装置_京东方科技集团股份有限公司_202280003087.0
    本公开提供了一种布线基板及其制造方法、电子装置。该布线基板包括：衬底；位于衬底上的多个焊盘组，每个焊盘组包括至少两个焊盘。至少两个焊盘中的在第一方向或第二方向上相邻的两个焊盘间隔设置，第一方向与第二方向相交。每个焊盘包括多条边，该多条边包括...
    2026-03-19
  • 用于半导体封装件的具有螺柱突起的基板
    用于半导体封装件的具有螺柱突起的基板_沃孚半导体公司_202480050529.6
    提供了半导体封装件。在一个示例中，半导体封装件包括基板。半导体封装件还包括在基板上的半导体芯片。基板限定基面，并且基板包括从基面在朝向半导体芯片的方向上延伸的至少一个螺柱突起。
    2026-03-19
  • 一种应变层的制造方法
    一种应变层的制造方法_原子能与替代能源委员会_202480050695.6
    本说明书涉及一种制造应变的金属层或半导体层或绝缘层的方法，其包括其中将金属层或半导体层或绝缘层(11)从第一载体衬底(10)转移到第二载体衬底(20)的步骤，载体衬底(10, 20)具有不同的热膨胀系数，转移步骤在高温下进行。在移除第一载体...
    2026-03-19
  • 处理装置、前处理装置及安装系统
    处理装置、前处理装置及安装系统_芝浦机械电子株式会社_202480049641.8
    本发明提供一种可防止掩模贴附在粘着片的处理装置及安装装置。实施方式的处理装置(等离子体处理装置100)具有：载台20，供在粘着片T贴附有晶片W的零件供给体TW载置；腔室11b，能够对内部进行减压；气体导入口30，向腔室11b内导入反应气体；...
    2026-03-19
  • 用于清洁半导体基板载具或至少载具表面的清洁系统和方法
    用于清洁半导体基板载具或至少载具表面的清洁系统和方法_布鲁克斯自动化(德国)有限公司_202480051328.8
    本发明涉及‌一种用于清洁半导体基板载具(105, 205)或至少载具(105, 205)的表面的清洁系统(100, 200)，包括：‌第一腔室(110, 210)和第二腔室(120, 220)，其中第一腔室(110, 210)与第二腔室(1...
    2026-03-19
  • 基片处理装置
    基片处理装置_东京毅力科创株式会社_202480051227.0
    本发明在一个例示性的实施方式中，提供一种基片处理装置。基片处理装置包括第一腔室和第二腔室。第二腔室配置于第一腔室内。第二腔室与载置台一起界定用于对载置于载置台的基片进行处理的处理空间。第二腔室具有设置于构成第二腔室的壁体，调节第二腔室的温度...
    2026-03-19
  • 基板处理装置中的监视方法
    基板处理装置中的监视方法_株式会社斯库林集团_202480050438.2
    提供一种可以更高的监视精度监视监视对象物的技术。监视处理基板的基板处理装置的腔室内的监视对象物的监视方法包含图像生成工序、及监视工序。在图像生成工序中，监视用的相机接收来自包含腔室内的复数个监视对象物中的至少一个第1监视对象物的监视区域的光...
    2026-03-19
  • 蚀刻方法及等离子体处理装置
    蚀刻方法及等离子体处理装置_东京毅力科创株式会社_202480047889.0
    本发明提供一种蚀刻方法，其包括如下工序：(a)将基板提供到腔体内的基板支承部上，基板包含第1区域和第2区域，第1区域包含含有选自由氧化硅及碳组成组中的至少1种的第1材料，第2区域包含与第1材料不同的第2材料；及(b)不向基板支承部供给电偏置...
    2026-03-19
  • 用于可变倾斜角度蚀刻、图案改进、循环表面调节和蚀刻特征侧壁的方法
    用于可变倾斜角度蚀刻、图案改进、循环表面调节和蚀刻特征侧壁的方法_艾利克斯实验室公司_202480035442.1
    本发明涉及用于基板上的特征的侧壁粗糙度控制和结构缺陷减少的方法。该方法包括调整粒子束的倾斜角度，以进行对特征的至少一个侧壁的成角度粒子束蚀刻。该技术使得能够在诸如半导体制造的各种应用中改善侧壁粗糙度控制和结构缺陷减少。还公开了用于图案改进、...
    2026-03-19
  • 基片处理装置和清洁方法
    基片处理装置和清洁方法_东京毅力科创株式会社_202480050967.2
    本发明提供基片处理装置和清洁方法。基片处理装置处理基片，并包括：处理腔室；配置在上述处理腔室内的支承部件；液柱供给部，其向配置于上述支承部件的上部的上述基片的周缘部供给液柱；照射激光的激光照射部，其中，上述激光在上述液柱内传播；和控制部，上...
    2026-03-19
  • 用于提升扩散阻挡层的键合强度的方法和器件
    用于提升扩散阻挡层的键合强度的方法和器件_东京毅力科创株式会社_202480050651.3
    披露了半导体器件和对应的制造方法。该方法包括：在第一衬底上形成第一层；用氮基等离子体处理第一层以形成第一类型的悬挂键；用氧基等离子体处理第一层以将第一类型的悬挂键转化为第二类型的悬挂键；以及用水处理第一层以将第二类型的悬挂键转化为第三类型的...
    2026-03-19
  • 发光装置、制备方法及电子设备
    发光装置、制备方法及电子设备_纳晶科技股份有限公司_202380100968.9
    公开了一种发光装置、制备方法及电子设备。本申请的发光装置通过以下方法制备提供设有第一电极的基板；形成发光层，发光层的制备包括：在第一电极之上形成包括第一发光材料的第一材料层，在第一材料层中形成曝光区域和非曝光区域，通过第一溶剂去除曝光区域的...
    2026-03-19
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