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最新专利技术
  • 一种基于绿泥石化学成分分析的热液型铀矿化指示方法
    一种基于绿泥石化学成分分析的热液型铀矿化指示方法_核工业北京地质研究院_202411624206.1
    本发明属于地质学和矿床学领域，具体涉及一种基于绿泥石化学成分分析的热液型铀矿化指示方法，该方法包括：步骤(1)样品采集和选择；步骤(2)光薄片制备和显微观察；步骤(3)光薄片中主要元素和微量元素成分测定分析，获得化学分析数据；步骤(4)根据...
    2026-04-12
  • 热输送装置
    热输送装置_洋马控股株式会社_202411623115.6
    本发明提供一种的热输送装置，能够抑制或者防止因为热输送器内的流体的不均匀而导致热输送效率降低。热输送装置(100)具备：热交换器(1)、流体供给器(2)、以及供给流路(3)。热交换器(1)具有：能够供流体(F)循环的循环流路(11)、以及对...
    2026-04-12
  • 玻璃加工方法和执行该方法的玻璃加工装置
    玻璃加工方法和执行该方法的玻璃加工装置_三星显示有限公司_202411624592.4
    本公开涉及玻璃加工方法和执行该方法的玻璃加工装置。玻璃加工方法包括：通过对预备玻璃施加热量和压力来形成初级加工玻璃，初级加工玻璃包括底表面和在与底表面交叉的方向上延伸并且具有曲率的侧壁；在夹具的第一部分上安置初级加工玻璃，并且夹具包括第一部...
    2026-04-12
  • 介质处理装置及图像形成系统
    介质处理装置及图像形成系统_株式会社理光_202411624063.4
    本发明涉及在对多个介质进行压接装订的介质处理装置中，牢固地装订介质束的介质处理装置及图像形成系统。介质处理装置包括:载置介质的载置部；实施使载置于载置部的多个介质加压变形来装订的压接装订的压接装订单元，以及控制压接装订单元的控制单元。在装订...
    2026-04-12
  • 经由反射仪和次级设备进行无线生理门控
    经由反射仪和次级设备进行无线生理门控_通用电气精准医疗有限责任公司_202411628658.7
    本公开涉及经由反射仪和次级设备进行无线生理门控。将来自次级设备(200)(例如，ECG设备(610))的数据(例如，心电图(ECG)波形(902))无线地传送到初级设备(例如，MRI机器)，其中，该初级设备的天线(602)被配置为无线地接收...
    2026-04-12
  • 半导体装置及其制造方法
    半导体装置及其制造方法_三菱电机株式会社_202411633667.5
    得到一种半导体装置及其制造方法，其能够得到良好的欧姆特性，能够在切割时抑制破碎以及裂纹的产生。半导体基板(1)具有器件区域(2)和包围器件区域(2)的切割线区域(3)。表面电极(5)在器件区域(2)设置于半导体基板(1)的表面。金属制的背面...
    2026-04-12
  • 图像处理设备、摄像设备、图像处理方法、存储介质和计算机程序产品
    图像处理设备、摄像设备、图像处理方法、存储介质和计算机程序产品_佳能株式会社_202411631633.2
    本发明提供图像处理设备、摄像设备、图像处理方法、存储介质和计算机程序产品。第一图像生成单元从拍摄图像生成具有第一动态范围的第一图像。第二图像生成单元从拍摄图像生成具有第二动态范围的第二图像。增益图生成单元基于第一图像和第二图像来生成用于将第...
    2026-04-12
  • 作为电机与功率电子设备之间的接触桥的优化的连接装置
    作为电机与功率电子设备之间的接触桥的优化的连接装置_奥迪股份公司_202411632546.9
    本发明涉及一种连接装置，该连接装置用于将功率电子设备与电机的定子和他励转子电连接，该连接装置具有第一联接部区域、第二联接部区域、至少两个定子导线和至少两个转子导线，其中，第一联接部区域设置用于，与功率电子设备电联接，其中，第二联接部区域设置...
    2026-04-12
  • 用于布置在两个电芯之间的电芯分隔元件和用于机动车的电池模块
    用于布置在两个电芯之间的电芯分隔元件和用于机动车的电池模块_奥迪股份公司_202411631993.2
    本发明涉及一种电芯分隔元件(10)，其用于布置在电芯组(16)的沿堆叠方向(y)彼此相邻地布置的两个电芯(36)之间的间隙(42)中，电芯分隔元件(10)具有在边缘侧环绕地至少部分地相互连接的柔性的第一外壁(12)和柔性的第二外壁(14)，...
    2026-04-12
  • 封装基板及其制造方法
    封装基板及其制造方法_爱玻索立克公司_202411636911.3
    涉及一种封装基板及其制造方法。根据实例的封装基板包括硅基芯。硅基芯包括贯通通孔部，所述贯通通孔部沿硅基芯的厚度方向贯通。贯通通孔部包括：通孔空间，是配置电极的空间，以及通孔内径面，包围所述通孔空间。封装基板包括配置在通孔空间的贯通电极。贯通...
    2026-04-12
  • 多层电子组件和介电组合物
    多层电子组件和介电组合物_三星电机株式会社_202411635441.9
    本公开提供了一种多层电子组件和介电组合物。所述多层电子组件包括：主体，包括介电层和内电极；以及外电极，设置在所述主体上，其中，所述介电层包括：主成分，由(Ca,Sr)(Zr,Ti)O3表示；第一副成分，包括从由钇（Y）...
    2026-04-12
  • 多层电子组件
    多层电子组件_三星电机株式会社_202411635192.3
    本公开提供一种多层电子组件。所述多层电子组件可包括：主体，包括多个第一介电层、内电极和浮置电极，所述内电极包括在相同的第一介电层上彼此间隔开的第一内电极和第二内电极，所述浮置电极与所述内电极在第一方向上交替地设置且所述第一介电层介于所述浮置...
    2026-04-12
  • 屏蔽电缆
    屏蔽电缆_株式会社博迈立铖_202411633686.8
    本发明提供能够抑制在屏蔽电缆弯曲时屏蔽件损伤的屏蔽电缆。屏蔽电缆具备：中心导体；绝缘体，其相比上述中心导体配置于外周侧；第一带层，其相比上述绝缘体配置于外周侧，由纸、无纺布、或者树脂带构成；屏蔽件，其相比上述第一带层配置于外周侧；第二带层，...
    2026-04-12
  • 非易失性存储器装置及其操作方法和存储装置的操作方法
    非易失性存储器装置及其操作方法和存储装置的操作方法_三星电子株式会社_202411634949.7
    提供非易失性存储器装置及其操作方法、以及包括非易失性存储器装置和存储控制器的存储装置的操作方法。存储控制器的存储装置的操作方法包括：由存储控制器向非易失性存储器装置发送包括检错启用信息的设定特征命令；由存储控制器向非易失性存储器装置发送编程...
    2026-04-12
  • 包含目标分组和强化学习的火力分配方法、设备和介质
    包含目标分组和强化学习的火力分配方法、设备和介质_北京理工大学_202411637862.5
    本发明涉及火力分配技术领域，具体涉及一种包含目标分组和强化学习的火力分配方法、设备和介质。本发明包含附带毁伤分组和深度强化学习的火力分配方法，建立基于毁伤幅员的目标分组策略，进而考虑飞行器对目标的附带毁伤；在目标组内开展基于瞄准点优化的目标...
    2026-04-12
  • 泄漏资源管理
    泄漏资源管理_美光科技公司_202411630756.4
    本公开涉及泄漏资源管理。资源能够通过在系统的资源管理器处存取泄漏温度表来管理。所述资源管理器能够基于所述泄漏温度表来确定所述系统的动态资源池及静态资源池。所述资源管理器能够从所述系统的装置接收资源请求。所述资源管理器能够将资源从所述动态资源...
    2026-04-12
  • 包括用于联接到手表机芯的联接机构的显示装置
    包括用于联接到手表机芯的联接机构的显示装置_蒙特雷布勒盖股份有限公司_202411633984.7
    本发明涉及用于手表机芯的显示装置(10)，其特征在于，它包括显示器(11)、驱动机构(20)和联接机构(30)；显示器(11)旨在安装成能够相对于手表机芯的结构(12)运动，并且设置有从动轮(111)以及用于相对于所述结构(12)分度定位的...
    2026-04-12
  • 高压容器密封性的检验方法
    高压容器密封性的检验方法_法国全耐塑料新能源公司_202411637324.6
    一种用于高压容器(12)的密封性检验方法，其中，所述方法包括以下步骤：a)通过泵(20)，从液化气体源(16)，泵送并压缩液化气体，以使其达到500至1000巴的压强；b)将所述液化气体汽化；c)压缩示踪气体，以使其达到500至1000巴的...
    2026-04-12
  • 偏振选择性成像
    偏振选择性成像_赫克斯冈技术中心_202411632407.6
    本发明提供偏振选择性成像。本发明涉及一种用于对对象进行成像的测量设备。测量设备包括被配置为发射偏振测量光的发光单元、被配置为接收和检测反射的测量光的光接收单元以及包括回射层和偏振状态操纵层的支撑结构。支撑结构提供测量光的回射并改变测量光的偏...
    2026-04-12
  • 显示装置的制造装置
    显示装置的制造装置_三星显示有限公司_202411634635.7
    本发明公开了一种显示装置的制造装置，其包括：腔室；台，布置在所述腔室的内部，并且支承显示基板；以及沉积源，布置在所述腔室的内部，并且朝向所述显示基板供应沉积物质，其中，所述沉积源包括：坩埚部，容纳所述沉积物质；喷射部，朝向所述显示基板喷射容...
    2026-04-12
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