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  • 提供了一种用于处理基板的基座,所述基座包括底座以及形成在所述底座之上的涂层。所述基座包括外边沿,所述外边沿具有内边缘、外边缘以及将所述内边缘连接到所述外边缘的顶部;以及内盘状物,所述内盘状物安置在所述外边沿内部并耦接到所述外边沿,所述内盘状...
  • 基板转印装置(100)具有用于剥离晶圆(W)上粘贴的第1黏着胶带(T1)的胶带剥离机构(RM)。胶带剥离机构(RM)构成为能够使剥离开始时及剥离结束时的剥离角度(α)不同。具体而言,胶带剥离机构(RM)具有用于将与第1黏着胶带(T1)接触的...
  • 一种静电卡盘装置,其具备:板状的静电卡盘部,具有载置板状试样的载置面且在内部设置有静电吸附用电极;及基底部,呈以中心轴线为中心的圆盘状且在其支承面上从与载置面相反的一侧支承静电卡盘部,在基底部的内部设置有沿着支承面延伸的制冷剂流路,制冷剂流...
  • 本发明的保持装置(100)具备保持基板(10)和基台(20),保持基板具有:板状构件(11),其包括第1表面(S1)和配置于第1表面(S1)的相反侧的第2表面(S2);第1气体流路(12),其包括在第1表面(S1)侧开口的第1气体流出口(1...
  • 有轨台车系统中,多个台车选择性地在轨道中的多个区间行驶。有轨台车系统包括:状态信息获取部,该状态信息获取部获取多个台车的状态信息;行驶历史信息获取部,该行驶历史信息获取部获取多个台车的行驶历史信息;以及异常区间推定部,该异常区间推定部基于由...
  • 本发明提供能够适当监视基板搬送装置的技术。一种基板搬送装置的监视方法,其中,所述基板搬送装置的监视方法具有:拍摄工序,在基板搬送装置的手直线移动时,用相机拍摄保持于手的基板,获取包括3个以上的基板以圆形状或椭圆形状出现的帧数据的拍摄数据;评...
  • 本公开案大致涉及一种用于热处理基板的灯加热的设备。具体而言,本公开案的实施方式涉及使用基板及屏蔽部件而将在迅速热处理(RTP)腔室中的加热区域分离。在一个实施方式中,一种处理基板的方法包括将基板放置于处理腔室中在多个升降杆上,以多个升降杆将...
  • 本发明提供了一种计量装置。计量装置包含用于测量晶圆的质量和/或质量变化的质量计量站,以及用于对晶圆的至少一部分执行光谱成像的光谱成像系统。
  • 本发明的课题在于提供一种可形成密封树脂且可防止产生形成过程中的密封树脂的割损的形成装置,所述密封树脂能够实现可防止产生成形不良的压缩成形装置及压缩成形方法。作为解决手段,本发明的密封树脂的形成装置(100)为形成用于工件(W)的压缩成形的密...
  • 本发明提供一种即使在低温的接合中也能够得到良好的接合强度的接合材料。本发明提供一种具有薄片形状的氧化银颗粒或含有其的氧化银粉末。该具有薄片形状的氧化银颗粒的平均厚度为10~100nm,D50为100~350nm。此外,具有薄片形状的氧化银颗...
  • 本发明的目的在于,提供能够按每个区域推定晶片的温度并高精度地进行控制的技术。代表性的本发明的等离子处理装置之一具备:处理室,形成用于对处理对象的晶片进行处理的等离子;样品台,配置于处理室内,在上表面载置晶片;多个加热器,在覆盖样品台内部的基...
  • 具备:处理容器,其收容基板并对所述基板进行处理;等离子体生成单元,其在所述处理容器内产生等离子体;计算部,其在所述基板的处理中,计算所述等离子体生成单元输出的电力的累积量;存储部,其存储所述基板的处理结果为正常时的处理结束时间点的所述累积量...
  • 本发明提供用于对使用学习完毕模型的预测的精度进行评价的计算机程序、信息处理方法以及信息处理装置。使用模拟模型或者学习完毕模型来调整多个参数,以使得预测形状成为特定的形状,其中,该模拟模型使用与基板处理的条件相关的多个参数模拟基板处理,该学习...
  • 学习装置具有:实验数据获取部,获取第一数据集,该第一数据集包括在基板处理装置中执行的处理的处理条件以及该处理的处理结果;事前学习部,使学习模型机器学习第二数据集;以及学习模型生成部,使通过事前学习部机器学习过的学习完毕的学习模型机器学习第一...
  • 本发明提供一种在维持氧化硅膜的研磨速度的同时得到氧化硅膜与阻挡膜的高选择比、且保存稳定性也优异的研磨剂。该研磨剂是包含磨粒、阴离子性聚合物、选自磷酸化合物和有机酸化合物的酸性化合物、以及水的研磨剂,上述阴离子性聚合物是包含疏水性单体和阴离子...
  • 提供在低于400°C的工艺温度下利用金属卤化物前体且将还原剂和含卤素蚀刻剂同时引入处理室中来执行衬底的特征的由下而上的间隙填充的方法。选择性间隙填充工艺可用于对特征填充以包含钼或钨的过渡金属。一些方法涉及金属卤化物前体和含卤素蚀刻剂的使用,...
  • 根据本发明的实施例的形成钌氧化物膜的方法可以包括:朝向基板喷射含钌(Ru)前体以形成钌膜;向钌膜上喷射含氧气体以形成钌氧化物膜;以及形成等离子体以使钌氧化物膜暴露于等离子体。因此,根据本发明的示例性实施例,可以形成具有较高氧含量的钌氧化物膜...
  • 一种用于供给处理液的处理液供给装置,包括:处理液供给源、隔膜泵、向所述隔膜泵供给流体以使所述处理液吐出的流体供给机构、控制部,所述隔膜泵包括泵室、作动室和隔膜,所述泵室包括:用于导入所述处理液的导入口;用于吐出所述处理液的吐出口;和用于排出...
  • 一种用于通过提供补救性电路元件来提高制造的集成电路的良率的系统和方法,这些补救性电路元件包括通过中道工艺和/或后道工艺制造的交替平面晶体管,以根据由集成电路的制造后测试和/或由电路操作的操作中监测,在需要时启用和禁用提供附加电路功能的补救性...
  • 本公开涉及一种用于制备生物材料以将其转移到质谱仪中的接口。所述接口包括用于气溶胶形式的生物材料的引导管、具有两个入口和一个出口的文丘里系统、筒式加热器、用于电离气溶胶形式的生物材料的电晕放电针、用于产生雾气的雾化器以及连接至文丘里系统出口的...
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