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  • 本发明涉及旋塞阀生产技术领域,具体为一种旋塞阀生产用装置,包括工作台、抛光组件、定位组件和供液组件,该旋塞阀生产用装置,通过定位组件配合工作台实现阀体结构的垂直居中定位,对中器带动对中板相向运动,对中板的对中件插入阀体的左右通道,配合工作台...
  • 本发明涉及模具制造技术领域,具体公开了一种转向器定模镶针加工装置及其加工工艺,包括底座和打磨机构;底座顶面设置有凹形座;所述凹形座外壁上安装有第一电机;第一电机输出端同轴固接有贯穿凹形座的第一转轴;第一转轴远离第一电机的端部同轴固接有可夹持...
  • 本申请提供一种盘状零件抛光装置,涉及抛光设备技术领域。盘状零件抛光装置包括容器组件和驱动组件,容器组件形成有抛光腔,抛光腔用于容纳抛光介质。驱动组件包括转动件和至少一个转接件,转动件可转动的设置于抛光腔内,转接件可转动的设置于转动件,转接件...
  • 本发明涉及水磨加工技术领域,尤其涉及一种水磨加工设备,包括架体、水磨筒和水磨机构,水磨筒用于放置橡胶制品和水磨石,水磨机构包括圆杆、双轴电机、圆盘、抵持杆、摆动件、旋转组件、U型件和搅拌件,圆杆与架体转动连接,水磨筒与圆杆固定连接,摆动件与...
  • 本发明涉及打磨技术领域,尤其涉及一种遥控器按钮毛刺打磨装置。包括有第一支撑架,第一支撑架上连接有第一弹簧,第一弹簧上连接有第一安装架,第一安装架上安装有第一振动电机和装料框,装料框内设置有清料机构,清料机构用于对装料框内的物料进行推出,第一...
  • 本发明公开了一种复杂内表面化学增强磁性剪切增稠介质流抛光方法,属于磁场辅助抛光技术领域。针对传统磨料流抛光面临的抛光效率低、精准调控难、去除均一性差的难题,研制化学增强磁性剪切增稠抛光介质,将内表面通道与抛光系统形成流道,在加工区域配置不同...
  • 本发明公开了一种发动机活塞抛光设备及使用方法,涉及发动机加工设备技术领域。本发明包括第一支架和抛光组件,第一支架的顶部固定有抛光箱,抛光组件安装在抛光箱的内部,抛光箱的顶部固定有进料筒;还包括第二支架,第二支架固定在抛光箱的底部,第二支架的...
  • 本发明公开一种液压辅助齿轮恒力化学机械抛光装置及方法,属于齿轮制造及抛光加工装置技术领域,包括液压系统和曲柄滑块机构,液压系统包括油箱,油箱通过泵连通有二位四通电磁换向阀,泵与二位四通电磁换向阀之间连通有定值减压阀,二位四通电磁换向阀连通有...
  • 本发明涉及波导管及其加工技术领域,尤其是一种研磨装置以及空调液管屏蔽穿舱法兰,研磨装置针对长宽(直径)比例较大的波导管能够实现对管内壁的精密研磨加工,且能够在一次加工活动中快速切换不同的研磨液目数,能够实现多阶段的粗加工、半精加工和精加工,...
  • 本发明公开了屏显玻璃边角磨削设备,其包括定位平台、驱动定位平台沿着磨削路径横移的横移单元、位于磨削路径两侧的研磨单元。本发明一方面基于风刀所形成弧形阻隔区将研磨段阻隔,通过水刀形成第一、二流体穿过研磨段并分别贴合研磨轮的磨削槽和玻璃表面将废...
  • 本发明公开了一种基于多参数反馈的碳化硅抛光液精密调控系统,具体涉及碳化硅加工技术领域,包括碳化硅抛光液中央控制模块、碳化硅抛光液参数检测模块、碳化硅抛光液初级调控模块、碳化硅抛光液次级调控模块以及碳化硅抛光液调控优化模块;所述碳化硅抛光液中...
  • 本发明公开一种微晶玻璃的研磨抛光装置及方法,属于抛光装置技术领域,包括安装板,所述安装板上设有升降组件,所述升降组件上设有能旋转的T形板,所述T形板上设有用于水平工件的研磨的水平研磨组件和用于竖直工件的夹持的夹持组件;所述安装板两侧对称设有...
  • 本发明涉及一种基于声‑光‑磁多能场协同的化学机械抛光装置与方法。化学机械抛光装置包括安装架、真空转台、驱动组件、抛光头和催化光发生器,真空转台具有安装端和溢流槽,真空转台能够在安装端形成负压以用于固定晶圆,溢流槽用于盛接抛光液,安装端位于溢...
  • 本发明公开了一种光纤跳线用端面研磨装置,涉及光纤跳线生产领域,包括机体,机体上设置有打磨轮,且机体上还固定连接有支撑板;还包括自动涂液机构,自动涂液机构包括安装于打磨轮正上方位置的固定框,固定框的底端固定连接有涂抹海绵,固定框的底端还开设有...
  • 本申请涉及光学加工工装制造技术领域,提供了一种研磨垫和研磨垫的弹性模量调节方法,本申请提供的研磨垫包括:弹性调节层、压力感知层、控制层;压力感知层用于采集弹性调节层的压力分布信息,并将压力分布信息传输到控制层;控制层用于根据压力分布信息,确...
  • 本发明涉及一种碳刷自动研磨设备,包括机柜,机柜上安装有上料组件、夹持移动组件、夹持旋转组件研磨组件与出料传输带;所述的上料组件包括底板,底板下方安装有进料传输带,底板上设置有放料槽与滑槽,滑槽与放料槽相通,放料槽的内安装有推料板,滑槽内滑动...
  • 本申请提供了用于化学机械抛光工艺的多层子垫。一种装置包括:顶部垫,包括多个突出和在多个突出之间的多个凹槽;顶部垫之下的第一粘合膜;以及第一抗变形层,在顶部垫之下并通过第一粘合膜附接到顶部垫。第一抗变形层具有第一硬度。该装置还包括第二粘合膜和...
  • 本申请涉及半导体硅加工领域,公开一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫及其制备工艺。一种用于硅衬底划伤修复的抛光垫,由无纺布浸渍聚氨酯复合胶液制得,聚氨酯复合胶液由以下重量份的原料制得:聚氨酯树脂100‑120份、弹性剂25‑35份、DMF 80‑...
  • 本发明公开了一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头,属于晶圆制造技术领域。该弹性膜包括:圆盘状的底板;直立筋,自所述底板的边缘向上延伸;间隔筋,设置于直立筋的内侧并自底板向上延伸,以分隔形成多个子压力腔室;所述间隔筋包括褶皱部和连接部,所述褶...
  • 本发明公开了一种轴瓦的检测定位装置,包括固定座、环套、压杆,固定座能够上下移动,固定座设有通孔,环套穿过通孔,通孔的孔径大于环套的外径,压杆插入固定座、且伸出通孔的孔壁,压杆能够沿通孔的径向移动,压杆沿通孔的周向均布有三个,压杆沿通孔的径向...
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