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最新专利技术
  • 一种粉末冶金高速钢齿轮的热处理方法
    一种粉末冶金高速钢齿轮的热处理方法_中国航发中传机械有限公司_202511184779.1
    本发明公开了一种粉末冶金高速钢齿轮的热处理方法，包括以下步骤：S1力学性能调控；S2，齿轮半精加工；S3，去应力稳定处理；S4，表面耐磨性能提升；S5齿轮成品加工。本发明的粉末冶金高速钢齿轮的制备技术适用于航空发动机、燃气轮机等传动齿轮及传...
    2025-12-01
  • 一种GH4169基耐磨润滑材料及其制备方法和应用
    一种GH4169基耐磨润滑材料及其制备方法和应用_北京机械工业自动化研究所有限公司_202510940115.7
    本发明提供一种GH4169基耐磨润滑材料及其制备方法和应用，属于耐磨润滑抗氧化材料制备技术领域。本发明的GH4169基耐磨润滑材料的制备方法，采用化学热处理固相渗硼和离子注入两种方法在基材表面形成硼化物/氮化物复合层，其中，原位自生的硼化物...
    2025-12-01
  • 支撑框架
    支撑框架_三星显示有限公司_202510624594.1
    提供了一种支撑框架，根据实施例的支撑框架包括：主体部，包括分别设置在开口的第一侧、第二侧、第三侧和第四侧的第一框架部、第二框架部、第三框架部和第四框架部；以及支撑杆，结合到第一框架部。支撑杆具有朝向支撑框架的外侧凸出的形状。
    2025-12-01
  • 一种复合膜及其制备方法、结构件及电子产品
    一种复合膜及其制备方法、结构件及电子产品_比亚迪股份有限公司_202511029514.4
    本申请提供一种复合膜及其制备方法、结构件及电子产品，所述复合膜包括主体膜层、以及存在于所述主体膜层的至少一侧的AlSiON膜层；所述AlSiON膜层远离基材的一侧表面设置有纳米孔洞，所述纳米孔洞的平均孔径为4‑25nm。本申请同时还提供了上...
    2025-12-01
  • 一种铅铋堆核取样器涂层的制备方法及涂层
    一种铅铋堆核取样器涂层的制备方法及涂层_南京海通电子材料科技有限公司_202511216747.5
    本申请提供一种铅铋堆核取样器涂层的制备方法及涂层，包括：S3，根据CrAl涂层厚度，调整多弧离子镀设备的偏压和靶电流，优化涂层与基体的结合强度，目标附着力达到划痕测试临界载荷以上；S4，根据结合强度，调节氮气流量和气压，生成孔隙率低于孔隙率...
    2025-12-01
  • 一种高强韧宽温域耐磨自润滑的高熵合金复合涂层及其制备方法
    一种高强韧宽温域耐磨自润滑的高熵合金复合涂层及其制备方法_东北大学_202511543562.5
    本发明涉及自润滑与纳米材料领域，具体涉及一种高强韧宽温域耐磨自润滑的高熵合金复合涂层及其制备方法。该涂层采用CrAlMoNbV高熵合金和Ag双靶材磁控溅射制备，所述涂层具有3~5个周期的纳米层状交替结构，其中高熵合金单层厚度3~4μm、银单...
    2025-12-01
  • 一种基于磁控溅射的薄膜聚乳酸基材表面镁合金镀膜方法
    一种基于磁控溅射的薄膜聚乳酸基材表面镁合金镀膜方法_浙江大学_202511130950.0
    本发明公开了一种基于磁控溅射的薄膜聚乳酸基材表面镁合金镀膜方法，属于材料表面改性技术领域。对聚乳酸基材依次进行清洗与表面处理，得到预处理后的聚乳酸基材；随后在真空条件下，采用磁控溅射技术，以镁合金为靶材，在预处理后的聚乳酸基材的表面沉积镁合...
    2025-12-01
  • 蒸发舟及其制备方法、应用
    蒸发舟及其制备方法、应用_宁德时代新能源科技股份有限公司_202410657763.7
    本申请提供一种蒸发舟及其制备方法、应用，蒸发舟包括蒸发舟基体和覆于所述蒸发舟基体表面的涂层，其中，所述蒸发舟基体中包含WB和/或W2B5，所述涂层中包含TiAl3。本申请提供的蒸发舟可兼顾对蒸镀过程中熔融金属液的耐腐蚀性和浸润性。
    2025-12-01
  • 蒸发舟及其制备方法、应用
    蒸发舟及其制备方法、应用_宁德时代新能源科技股份有限公司_202410657764.1
    本申请提供一种蒸发舟及其制备方法、应用，蒸发舟包括蒸发舟基体和覆于所述蒸发舟基体表面的单涂层，所述单涂层中包含第一材料和第二材料，第一材料包括MoB/CoCr金属陶瓷，第二材料包括WB和/或W2B5。本申请提供的蒸发舟可兼顾对蒸镀过程中熔融...
    2025-12-01
  • 一种陶瓷基片蒸发镀膜装置及其镀膜方法
    一种陶瓷基片蒸发镀膜装置及其镀膜方法_同辉电子科技股份有限公司_202511231049.2
    本发明涉及蒸发镀膜技术领域，提出了一种陶瓷基片蒸发镀膜装置及其镀膜方法，其中，一种陶瓷基片蒸发镀膜装置包括底部机架，底部机架上设置有真空镀膜腔室，真空镀膜腔室内设置有蒸发镀膜设备，还包括出料箱体、基片放置结构和矩形密封槽架，出料箱体设置在真...
    2025-12-01
  • 一种脉冲激光沉积系统用高真空原位快速换靶装置及方法
    一种脉冲激光沉积系统用高真空原位快速换靶装置及方法_中国科学院电工研究所_202511246841.5
    本发明公开了一种脉冲激光沉积系统用高真空原位快速换靶装置及方法，属于制备高性能超导薄膜技术领域，该装置包括集成在一起的靶材托架和传样杆、靶材卡座，靶材托架整体结构包括由竖直的板的两端连接的上下两个部分；竖直的板第一端连接的下部分包括延伸的两...
    2025-12-01
  • 异常靶材的判断方法、系统及装置
    异常靶材的判断方法、系统及装置_通威太阳能(金堂)有限公司_202411520327.1
    本申请涉及一种异常靶材的判断方法、系统及装置。本申请的异常靶材的判断方法，包括如下步骤：通过靶材对待镀件进行镀膜处理，靶材包括支撑部、粘接层和坯靶，坯靶包括第一元素，粘接层包括第二元素，第一元素和所述第二元素不同，坯靶通过粘接层粘接于支撑部...
    2025-12-01
  • 一种高厚度碲化铋基热电薄膜及其制备方法
    一种高厚度碲化铋基热电薄膜及其制备方法_武汉理工大学_202511207040.8
    本发明公开了一种基于磁控溅射沉积工艺的高厚度Bi2Te3基热电薄膜的制备方法，包括如下步骤：1)清洁磁控溅射腔室，固定Bi2Te3靶材；2)对磁控溅射腔室进行抽真空，然后通入载气，调节气压与功率进行预溅射；3)将洁净的衬底置于溅射台，调节气...
    2025-12-01
  • 固态电解质薄膜及其制备方法、锂电池
    固态电解质薄膜及其制备方法、锂电池_上海集迦电子科技有限公司_202511227323.9
    本发明提供了一种固态电解质薄膜及其制备方法、锂电池，固态电解质薄膜的制备方法包括：将包含锂、氯、锆、氧、磷五种元素组成的至少一种化合物混合制作靶材，以惰性气体和氮气作为工作气体，采用磁控溅射的方法在基片表面沉积形成固态电解质薄膜层，固态电解...
    2025-12-01
  • 一种微通道热沉蒸铟夹具及使用方法
    一种微通道热沉蒸铟夹具及使用方法_山东华光光电子股份有限公司_202511402103.5
    本发明涉及一种微通道热沉蒸铟夹具及使用方法，其中夹具包括固定板和与固定板相匹配的盖板；所述固定板一面开设有若干个凹槽；所述固定板另一面设置有镂空蒸铟区；每个凹槽内放置有若干组热沉对，所述热沉对包括两个对向设置的微通道热沉，每个凹槽一端的侧壁...
    2025-12-01
  • 成膜装置和成膜方法
    成膜装置和成膜方法_东京毅力科创株式会社_202511188296.9
    本发明涉及一种成膜装置和成膜方法，能够以大流量稳定地供给由低蒸气压原料产生的原料气体。本公开的一个方式的成膜装置通过载气来向处理容器输送由低蒸气压原料产生的原料气体，来在基板上形成膜，所述成膜装置具备：原料容器，其用于收容所述低蒸气压原料，...
    2025-12-01
  • 一种基于分阶段参数优化在多孔碳中多批次负压沉积硅的方法
    一种基于分阶段参数优化在多孔碳中多批次负压沉积硅的方法_柔电(武汉)科技有限公司_202511545845.3
    本发明公开了一种基于分阶段参数优化在多孔碳中多批次负压沉积硅的方法，涉及多孔材料表面与孔隙内气相沉积技术领域。本发明提出在负压条件下，根据沉积进程调整单批气量、惰性气比例、压力及温度控制沉积速率，分阶段优化通入硅烷。工艺流程为：前期通入低气...
    2025-12-01
  • 氧化锡膜的制备方法及氧化锡膜、太阳电池、光伏组件
    氧化锡膜的制备方法及氧化锡膜、太阳电池、光伏组件_通威太阳能(成都)有限公司_202410872931.4
    本申请公开了一种氧化锡膜的制备方法及氧化锡膜、太阳电池、光伏组件，氧化锡膜的制备方法包括：采用原子层沉积法，以锡源和氧源作用反应物，在基底表面沉积得到氧化锡膜，锡源包括式Ⅰ化合物：式Ⅰ化合物中，n＝1，2，3或4中的任意一种，通过在锡源中加...
    2025-12-01
  • 一种带混气结构的MTS输送装置
    一种带混气结构的MTS输送装置_中电科工环境技术(武汉)有限公司_202511190997.6
    本发明涉及碳化硅制造技术领域，尤其涉及一种带混气结构的MTS输送装置。包括：混气罐、混气输送管路；混气罐通过混气输送管路与CVD工艺炉相连通；混气罐内设置有挡板；挡板的数量为多个；挡板由混气罐的一端排布至另一端；挡板上开设有溢流孔；溢流孔贯...
    2025-12-01
  • 一种采用等离子体技术的原子层沉积装置
    一种采用等离子体技术的原子层沉积装置_盐城工学院_202511211276.9
    本发明涉及原子层沉积装置技术领域，且公开了一种采用等离子体技术的原子层沉积装置，包括支撑座，所述支撑座的顶部固定装配有反应腔体，所述反应腔体的顶部设有切换组件，所述反应腔体的外壁转动连接有侧门，所述反应腔体的内壁开设有滑槽。该采用等离子体技...
    2025-12-01
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