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  • 本公开涉及校准系统及校准方法。在一方面中,提供了一种校准系统,包括:可移动的工作台;调整片,可拆卸地设置于工作台,该调整片包括感光区和至少一个光引导部,感光区位于调整片的中心并用于与来自光源的光束进行交互,光引导部从感光区朝向调整片的边沿延...
  • 本发明提供了一种晶圆位置校准设备,涉及半导体加工设备技术领域,为解决现有用于对晶圆进行寻心及定位的设备校准效果较差,不能很好地确定晶圆的位置的问题而设计。包括机台、运动模组、卡盘、辅助工装和激光传感器,运动模组安装于所述机台,运动模组的输出...
  • 本发明提供一种晶圆键合视觉系统及晶圆键合对准方法,涉及半导体加工技术领域,包括:近红外光源,包括第一近红外光源和第二近红外光源,其出光口分别设置滤光片;照明系统,第一近红外光源和第二近红外光源的出光口通过光纤连接至照明系统;反射镜和分光镜,...
  • 本发明提供一种晶圆键合对准视觉系统及自动对焦方法,涉及半导体加工技术领域,包括:相互之间通过光纤连接的近红外光源和照明系统,反射镜和分光镜,反射镜和分光镜平行设置,反射镜设置在照明系统的出光口,近红外色散显微物镜,设置于分光镜的下方;上晶圆...
  • 本发明涉及半导体装载技术领域,特别涉及一种用于晶圆盒的自动开盒设备,其包括设备机架,升降机构,充气机构,开盖机构。所述晶圆盒包括晶圆盒底板,盒盖。所述设备机架包括底板组件,侧板组件,前板组件,后板组件。所述升降机构包括驱动机构,轮带结构,连...
  • 本发明涉及半导体晶圆加工领域,且公开了一种半导体晶圆背靠背倒片装置,包括工作台,所述工作台的顶端设置有花篮本体和晶舟本体,花篮本体的底部设置有花篮旋转升降模块,晶舟本体的底部设置有晶舟移动升降模块,工作台的上方设置有变距机头模块,变距机头模...
  • 本发明揭示了一种转移设备运行控制方法、控制装置及转移设备,其中控制方法当由电机驱动的滚轮实现移动的上移动部的上驱动器或下移动部的下驱动器在位置模式运行时,根据周期性得到的所述下移动部的第一当前位置以及所述上移动部的第二当前位置确定所述上移动...
  • 本发明属于半导体晶圆缺陷检测技术领域,公开一种晶圆定位夹持的转运装置,用于承接晶圆并转运至检测设备的承载盘上,承载盘中心轴线呈竖直向上放置,检测设备水平滑动连接于机台上;机台上设置有升降单元,升降单元上连接有用于承接并对晶圆进行夹持固定的夹...
  • 本发明涉及半导体封装技术技术领域,提供了一种半导体面板级成型系统的送料装置,包括底板,所述底板上依次安装有树脂送料组件、托盘转运组件和敷膜组件;所述树脂送料组件包括旋转台和驱动旋转台周向转动的第一气缸,所述旋转台安装在底板上,其上方设有储料...
  • 本发明公开了一种晶圆承载转运设备,包括:盒体,其顶部开设有开口;门体,其转动安装于所述盒体的顶部;内框架,设置于所述盒体内,其包括一个矩形架及通过两个支板与所述矩形架固定连接的底杆,所述矩形架与所述盒体的四个侧壁及所述底杆与所述盒体的底壁之...
  • 本发明提供了冷却缓存组件、晶圆表面静电处理系统及晶圆表面静电处理方法。该冷却缓存组件包括:基座,其表面具有冷却缓存区域,用于放置晶圆;顶板,位于所述冷却缓存区域的正上方;支撑件,所述支撑件的一端固定在所述基座上,另一端连接至所述顶板的下表面...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,提供一种晶圆物料盒和晶圆物料盒支撑架。晶圆物料盒包括主体框架和门板组件,主体框架内部设有容纳腔,容纳腔用于容纳晶圆,主体框架设有连通容纳腔的敞口;门板组件安装于主体框架并盖设于敞口,门板组件包括多个遮挡板,多个...
  • 本发明涉及封装托盘用掩蔽装置,更详细地,涉及如下的封装托盘用掩蔽装置,在放置于封装托盘的芯片因加热块而处于垂直上升的状态下,掩蔽装置设置在封装托盘,由此,在防止对封装托盘造成热损伤的情况下,可对芯片进行激光加工。本发明可包括掩模部,以格子形...
  • 本发明的目的是提供一种能够改变抓握手柄的方向的半导体装置。本发明所涉及的晶圆盒包括:主体,该主体具有下板、设置在所述下板的上方的上板、以及设置在所述下板和所述上板之间的一对侧板,在所述一对侧板之间收纳有晶圆;以及手柄,该手柄设置在所述上板的...
  • 本发明公开了一种晶舟及炉管设备,晶舟包括:承载主体、气动单元和供气管路,承载主体用于承载沿竖直方向间隔分布的多层基板,气动单元,沿所述竖直方向间隔分布,并且分别设置于对应的所述基板的下方,所述气动单元被配置为朝向对应的所述基板的中部区域喷气...
  • 本发明公开了一种半导体基板清洁装置及方法,涉及半导体基板清洁技术领域,旨在解决圆形半导体基板清洗模式存在不足的技术问题,包括清洗设备、清洗机构、翻转组件、喷洒组件和喷流组件。本发明通过环形阵列且可灵活调整形态的清洗枪,实现清洗模式高效切换;...
  • 本发明公开了一种转换腔室和半导体工艺设备。转换腔室包括:放置台,用于放置晶圆;输气口,位于所述转换腔室的底部,经由所述输气口对腔室内进气和抽气,以进行大气环境和真空环境的转换;以及分气挡板,其中分布分气孔,所述分气挡板位于所述放置台和底部的...
  • 本发明公开一种用于半导体设备内传输腔的回填系统及其使用方法,其属于半导体设备技术领域,所述回填系统包括若干组气动回填机构,每组气动回填机构用于控制一个传输腔和传输腔对应降温模块的回填,回填机构中包括第一气动隔膜阀和第二气动隔膜阀,第一气动隔...
  • 本发明涉及半导体晶圆湿法技术领域,且公开了MEMS‑MPR深孔释放真空浸润设备,包括外部壳体,所述外部壳体内部固定连接有操作平台板,所述操作平台板上设置有清洗机构,所述清洗机构包括真空清洗槽,所述真空清洗槽贯穿操作平台板并与操作平台板固定连...
  • 本发明属于电子元件制造设备技术领域,公开了一种过炉自动转盘机及封装产品生产线,包括接驳产品流线机构、接驳托盘流线、转向机构和搬运机构,接驳产品流线机构包括用于转运产品或载具的产品流线;接驳托盘流线用于转运焊接托盘;托盘对接流线与加工炉的运输...
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