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显示装置和交通工具
本发明涉及一种显示装置(1)以及一种具有这样一种显示装置(1)的交通工具。显示装置(1)具有弯曲的显示面板(2)和用于显示面板(2)的背光装置(3)。背光装置(3)具有至少一个平面电路板(4)和反射器(30),电路板具有多个光源(32),反...
显示装置
根据本说明书的一个实施例的一种显示装置可以包括:第一光源部,第一光源部包括多个第一光源;光控制器,光控制器设置在第一光源部上并且包括多个分隔壁,其中多个分隔壁被设置为与显示区域的至少一部分区域重叠;第二光源部,第二光源部设置在光控制器上并且...
液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件
提供一种液晶取向膜,即使在利用光取向法的取向处理中的光照射量少的情况下,也抑制AC残像。此外,提供一种液晶取向膜,能减小液晶取向膜面内的液晶分子的扭转角的不均(不均匀性)。一种液晶取向剂,其含有聚合物(P),该聚合物(P)是选自由使用如下四...
液晶显示装置、显示面板及其阵列基板
本公开提出液晶显示装置、显示面板(PNL)及其阵列基板(ARR);涉及显示技术领域。阵列基板(ARR)具有显示区(AA),显示区(AA)具有阵列分布的子像素区(PA),每个子像素区(PA)包括相邻设置的透射区(TA)和反射区(FA);阵列基...
相机致动器和包括该相机致动器的相机模块
根据本发明的实施方式的相机致动器包括:壳体;第一线圈架,该第一线圈架在壳体内沿光轴方向移动;以及驱动单元,该驱动单元使第一线圈架移动。第一线圈架包括:第一透镜保持器,该第一透镜保持器容纳透镜;导引单元,该导引单元面向壳体;以及结合构件,该结...
用于刻蚀图案产生的方法及系统
一种刻蚀图案产生系统(1)及方法,包括‑来自粒子源(2)的具有最可能波长(λ)的入射的粒子束(21);以及‑设置在该入射的粒子束(21)中的包括通孔(3)的掩模版(4)。该刻蚀图案产生系统(1)产生单一纳米特征尺寸图案(51),并且其中,这...
组合物
本发明涉及包含光敏组合物的组合物,所述光敏组合物至少包含碱溶性聚合物。
图像获取装置、图像获取方法及图像获取装置控制程序
本发明涉及一种图像获取装置及方法,更详细地,涉及一种在使设置有形成有多个标记的样本的载台相对于成像光学系统移动的过程中,获取多个标记的图像的图像获取装置及方法。本发明提供一种图像获取装置,其构成为从形成有多个标记的样本获取所述标记的图像,所...
感光性树脂层叠体、以及抗蚀图案的形成方法
提供感光性树脂层叠体,其具备支撑薄膜和包含感光性树脂组合物的抗蚀层,前述感光性树脂组合物包含以下成分:(A)具有烯属不饱和键的化合物;和(B)碱溶性树脂,前述(A)成分包含:(A1)下述通式(I):[式中,n为2~20,各i为1~n的自然数...
感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐
本发明提供一种在图案形成时能够发挥优异的感度、CDU性能、DOF性能、图案圆形性、LWR性能、图案矩形性、显影缺陷抑制性的感放射线性组合物、图案形成方法及鎓盐。一种感放射线性组合物,包含下述式(1)所表示的鎓盐(以下,也称为“鎓盐(1)”)...
感光性树脂组合物、图案固化物、图案固化物的制造方法及电子部件
感光性树脂组合物是包含具有聚合性不饱和键的聚酰亚胺前体和3官能以上的聚合性单体的感光性树脂组合物,将上述感光性树脂组合物在100℃加热120秒、进而在110℃加热120秒而得到时的7μm厚度的感光性树脂膜的i射线透过率小于或等于30%。
感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及配线基板的制造方法
一种感光性树脂组合物,其含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂及增感剂,所述光聚合引发剂包含六芳基联咪唑化合物及N‑苯基甘氨酸化合物,所述增感剂包含蒽化合物。
感光性热固化性树脂组合物、干膜、固化物和电子部件
本发明提供以低曝光量也能够形成表面固化性和耐热性优异且反射率高的阻焊膜的感光性热固化性树脂组合物。一种包含含羧基树脂、光聚合引发剂、白色颜料以及热固化性树脂的感光性热固化性树脂组合物。光聚合引发剂包含肟酯系光聚合引发剂和二茂钛系光聚合引发剂...
感光性有机绝缘材料组合物、绝缘膜、栅极绝缘膜、晶体管、电子设备及晶体管的制造方法
本发明的目的在于提供感光性有机绝缘组合物,其是对设备可靠性的影响小且能够形成晶体管用栅极绝缘膜的感光性有机绝缘组合物,对于i线也具有充分的吸收。另外,本发明的目的在于提供栅极绝缘膜及晶体管。本发明的一实施方式的感光性有机绝缘组合物包含查尔酮...
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
本发明涉及抗蚀剂组合物,其是能够通过曝光而产生酸、并且在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物含有在显影液中的溶解性能够通过酸的作用而变化的基材成分(A)、能够通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和增塑剂成分...
耐化学液性保护膜
提供能够形成对半导体用湿蚀刻液的耐性优异的保护膜,并且干蚀刻时的蚀刻速度快,能够高蚀刻速率(ER)化的保护膜形成用的组合物,该组合物也能够有效地用作抗蚀剂下层膜形成用的组合物。是一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物,其包含:(A)具...
高效的动态采样计划生成和精确的探针管芯损失预测方法
公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法。更具体地,公开了一种用于生成检查工具采样计划的方法,用于假定晶片上的不均匀缺陷密度或分布的情况下进行更精确的管芯损失预测。公开了一种用于优化检查工具采样计划的方法。更具体地,公开了一种用于优化晶片区...
用于光刻系统的MEMS反射镜、微反射镜阵列和照明系统、光刻系统和用于生产光刻系统的方法
本发明公开了一种用于光刻系统(1)的MEMS反射镜(30),包括:可以以倾斜角(W)位移的反射镜板(31)、用于承载反射镜板(31)的承载板(32)、基板(33)、联接基板(33)和承载板(32)、用于倾斜反射镜片(31)的固体接头(34)...
用于对衬底区域上的量测数据建模的方法和相关联的设备
公开了用于在光刻过程中对与衬底相关的衬底区域上的量测数据进行建模的方法。该方法包括:获得第一层模型数据,该第一层模型数据与被拟合到用于该衬底上的第一层的曝光的第一层量测数据和与该衬底上的第二层相关的第二层量测数据的第一模型相关,该第二层在该...
成像设备
一种成像设备,包括:包含显影室的旋转件;盒,该盒设置成向显影室供应显影剂;以及托盘,该托盘能够可拆卸地支撑盒。托盘包括第一相对部分,该第一相对部分设置成与盒相对并且在预定方向上延伸,且托盘相对于旋转件布置在盒位于旋转件外部的第一位置以及盒位...
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