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最新专利技术
  • 掩模版检测装置及检测方法
    掩模版检测装置及检测方法_上海御微半导体技术有限公司_202511754289.0
    本申请提供一种掩模版检测装置及检测方法，涉及光学检测领域，该装置包括承载结构和至少两对夹持组件，承载结构用于承载掩模版并可安装在运动台跟随运动台移动，至少两对夹持组件设置于承载结构相对侧端，任一对夹持组件包括相对的第一夹持组件和第二夹持组件...
    2026-05-06
  • 半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法
    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511372943.1
    公开一种半导体光刻胶组合物及使用所述半导体光刻胶组合物形成图案的方法，所述半导体光刻胶组合物包含：有机金属化合物；环状二酮化合物；以及溶剂。
    2026-05-06
  • 抗蚀剂组成物、层叠体及图案形成方法
    抗蚀剂组成物、层叠体及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511395423.2
    本发明涉及抗蚀剂组成物、层叠体及图案形成方法。本发明的课题为提供在EB及EUV光刻等使用高能射线的光学光刻中，感度及分辨度优良的抗蚀剂组成物、以及使用了该抗蚀剂组成物的层叠体及图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：...
    2026-05-06
  • 分离层形成用组合物及层叠体
    分离层形成用组合物及层叠体_东京应化工业株式会社_202511420605.0
    本发明涉及分离层形成用组合物及层叠体。本发明的课题是提供一种分离层形成用组合物及具备由其形成的分离层的层叠体，所述分离层形成用组合物能够形成可通过光的照射而实现支撑基体从层叠体的分离、并且耐热性得以提高的分离层。本发明的解决手段为：本发明采...
    2026-05-06
  • 感光性树脂组合物、感光干膜及印刷线路板
    感光性树脂组合物、感光干膜及印刷线路板_杭州福斯特电子材料有限公司_202511850303.7
    本发明公开一种感光性树脂组合物、感光干膜及印刷线路板，涉及高分子技术领域。按照重量份数计，感光性树脂组合物包括：碱溶性树脂、光聚合单体和光引发剂；感光性树脂组合物在波长为365nm的紫外光下的吸光度为A，感光性树脂组合物在波长为405nm的...
    2026-05-06
  • 一种光敏树脂组合物及其固化薄膜的延展性调控方法
    一种光敏树脂组合物及其固化薄膜的延展性调控方法_苏州大学_202610004166.3
    本发明公开了一种光敏树脂组合物及其固化薄膜的延展性调控方法，所述光敏树脂组合物包括光敏树脂体系与弹性改性剂，其中弹性改性剂为邻苯二甲酸酯，且光敏树脂体系与弹性改性剂的质量比为(70‑97) : (3‑30)。调控时，在10‑25 ℃下向光敏...
    2026-05-06
  • 感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器
    感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器_奇美实业股份有限公司_202610049610.3
    一种感光性着色树脂组成物，包含着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光起始剂(D)及溶剂(E)。感光性着色树脂组成物的碘值范围为0.5g/100g至15g/100g，着色剂(A)包括锌酞菁染料(A‑1)。本发明还提供一种包...
    2026-05-06
  • 感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器
    感光性着色树脂组成物、彩色滤光片及其制造方法及液晶显示器_奇美实业股份有限公司_202610049612.2
    一种感光性着色树脂组成物，包含着色剂(A)、碱可溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光起始剂(D)及溶剂(E)。感光性着色树脂组成物的碘值范围为0.5g/100g至15g/100g，着色剂(A)包括三苯甲烷系着色剂(A‑1)。本发明还提供...
    2026-05-06
  • 基于铂(II)配合物的化学放大光刻胶及其应用
    基于铂(II)配合物的化学放大光刻胶及其应用_上海华力集成电路制造有限公司_202610113319.8
    本发明提供了一种基于铂(II)配合物的化学放大光刻胶及其应用，该化学放大光刻胶包括含保护基团的聚合物树脂、光酸产生剂、酸淬灭剂和溶剂；其中，光酸产生剂包括第一光酸产生剂，第一光酸产生剂包括至少一种铂(II)配合物。本发明通过引入铂(II)配...
    2026-05-06
  • 低温固化型感光树脂组合物及使用其的显示器
    低温固化型感光树脂组合物及使用其的显示器_深圳市容大感光科技股份有限公司_202512006828.9
    本发明涉及低温固化型感光树脂组合物，其包含以下组分：(a)碱水可溶性光固化树脂，30至80重量%；(b)光聚合单体，10至60重量%；(c)光引发剂，0.1至10重量%；(d)偶联剂，0.1至6重量%；(e)其他添加剂，其中各组分的含量均基...
    2026-05-06
  • 匀流结构、半导体工艺设备和光刻胶的开口形貌调整方法
    匀流结构、半导体工艺设备和光刻胶的开口形貌调整方法_北京北方华创微电子装备有限公司_202411389437.9
    本申请公开一种匀流结构、半导体工艺设备和光刻胶的开口形貌调整方法，其中匀流结构包括第一匀流件、第二匀流件和驱动部；所述第一匀流件包括多个贯通孔；所述第二匀流件活动设置在所述第一匀流件的上方，并与所述第一匀流件之间在竖直方向上具有间隙；所述驱...
    2026-05-06
  • 图案形成方法
    图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511395459.0
    本发明涉及图案形成方法。本发明课题为提供将可用于ArF图案化的(甲基)丙烯酸聚合物用于主骨架，借由干式显影而非硅基化得到窄节距的微细图案的图案形成方法。解决手段为图案形成方法，其包含以下步骤：在被加工基板上形成多层、使用ArF准分子用正型化...
    2026-05-06
  • 检测装置、光刻装置和物品制造方法
    检测装置、光刻装置和物品制造方法_佳能株式会社_202511397685.2
    本发明提供了检测装置、光刻装置和物品制造方法。一种用于对检测表面的表面位置进行检测的检测装置，包括：具有狭缝的掩模；投影光学系统，其被构造为通过用已经穿过狭缝的光照射检测表面来在检测表面上形成图像；图像传感器；以及光接收光学系统，其被构造为...
    2026-05-06
  • 用于监视工艺设备的方法和系统
    用于监视工艺设备的方法和系统_ASML荷兰有限公司_202511976991.1
    一种方法涉及通过从衬底的特性的值中去除光刻设备对所述特性的贡献以及一个或多个光刻前工艺设备对所述特性的贡献，来确定在已经由一个或多个工艺设备根据图案化工艺处理所述衬底之后的所述一个或多个工艺设备对所述衬底的所述特性做出的贡献。
    2026-05-06
  • 一种改善光刻线宽均匀性的工艺方法
    一种改善光刻线宽均匀性的工艺方法_重庆芯联微电子有限公司_202511997824.5
    本发明公开了一种改善光刻线宽均匀性的工艺方法，包括如下步骤：S1：在晶圆上进行多次光刻测试，以获取第一函数、第二函数和第一曝光区S2：提供晶圆，以第一扫描速度、第一曝光量在当前晶圆上进行光刻处理，并获取当前晶圆的每个曝光区域的实际线宽和线宽...
    2026-05-06
  • 一种基于亲水脊柱的毫牛级两相流致振动抑制方法
    一种基于亲水脊柱的毫牛级两相流致振动抑制方法_同济大学_202512020650.3
    本发明公开了芯片制造技术领域的一种基于亲水脊柱的毫牛级两相流致振动抑制方法，应用于浸没式光刻机的浸没流场，方法包括沿气液两相流负压回收微通道的轴向处设置一条脊柱结构，该脊柱位于微通道内部中心，其长度与微通道相匹配；并将脊柱的表面处理为亲水表...
    2026-05-06
  • 激光直写设备的扫描速度的匹配方法、装置、计算机设备
    激光直写设备的扫描速度的匹配方法、装置、计算机设备_江苏影速集成电路装备股份有限公司_202610206328.1
    本申请涉及一种激光直写设备的扫描速度匹配方法、装置、计算机设备、存储介质。所述方法包括获取量产线宽要求，根据量产线宽要求匹配量产线宽差异值；获取激光直写设备中数字微镜的微镜尺寸、数字微镜与工件台的夹角以及成像镜头的倍率；根据量产线宽要求、量...
    2026-05-06
  • 不同参数要求的激光直写设备的架构匹配方法、装置
    不同参数要求的激光直写设备的架构匹配方法、装置_江苏影速集成电路装备股份有限公司_202610206486.7
    本申请涉及一种激光直写设备的架构匹配方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：采集待曝光板材的量产线宽要求、激光直写设备中数字微镜的微镜尺寸及数字微镜与工件台的夹角；基于待曝光板材的量产线宽要求、激光直写设备中数字微镜的微镜尺寸及数字...
    2026-05-06
  • 一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法
    一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610274800.5
    本申请公开了一种浸没式光刻图形水浸入型缺陷改善方法，包括：在衬底上依次形成目标光阻层和牺牲光阻层；对所述目标光阻层和所述牺牲光阻层进行浸没式曝光处理；去除所述牺牲光阻层；对剩余的目标光阻层进行显影处理。本申请实施例提供的浸没式光刻图形水浸入...
    2026-05-06
  • 光刻像差动态基准抗噪优化方法及系统
    光刻像差动态基准抗噪优化方法及系统_南通诺瞳奕目医疗科技有限公司_202610274822.1
    本发明提供了一种光刻像差动态基准抗噪优化方法及系统，基于门控时序卷积网络的光刻像差动态基准抗噪优化方法，核心流程如下：同步采集非球面镜片表面测量点的实时波前信号与动态基准信号，截取最新50毫秒窗口数据输入门控时序卷积网络；通过因果膨胀卷积提...
    2026-05-06
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