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最新专利技术
  • 一种多工艺复合涂层刀具及其制备方法
    一种多工艺复合涂层刀具及其制备方法_台州市锐安硬质合金工具有限公司_202511332564.X
    本发明提供了一种多工艺复合涂层刀具及其制备方法，属于硬质合金切削刀具技术领域。它解决了现有涂层刀具性能综合稳定性差的问题。本多工艺复合涂层刀具，包括基体与设置于基体上的多工艺复合涂层，多工艺复合涂层包括沉积于基体上的CVD工艺层A以及沉积于...
    2026-03-20
  • 一种螺丝防腐处理方法及防腐螺丝
    一种螺丝防腐处理方法及防腐螺丝_常熟颢文电子科技有限公司_202510938022.0
    本发明公开了一种螺丝防腐处理方法及防腐螺丝，方法包括如下步骤：(1)镀镍处理；(2)喷铝处理；(3)高温渗铝；(4)磁力抛光。本发明通过PVD镀镍、高温喷铝、渗铝和磁力抛光处理，在螺丝表面形成了致密Al‑Ni合金层，盐雾试验可达1200小时...
    2026-03-20
  • 一种高散热镍基复合材料及其制备方法
    一种高散热镍基复合材料及其制备方法_江苏甬金金属科技有限公司_202511366188.6
    本发明公开了一种高散热镍基复合材料及其制备方法，涉及复合材料技术领域。本发明中，为了降低复合材料的膨胀系数，使之与半导体芯片相匹配，在镍基材料中加入铬，在不影响耐腐蚀性的情况下降低热膨胀系数，但镍基材料的整体力学性能和导热系数较低，因此，在...
    2026-03-20
  • 一种高性能不锈钢无缝管表面处理工艺
    一种高性能不锈钢无缝管表面处理工艺_浙江长峰管业有限公司_202511095193.8
    本发明公开了一种高性能不锈钢无缝管表面处理工艺，属于无缝管处理技术领域，包括以下步骤：预处理、镀制氮化钛薄膜、生长碳化硅涂层、制备梯度缓冲层、涂覆纳米缓释抗菌涂层、设置自修复涂层、沉积智能监测薄膜、生长抗结垢涂层和环保节能处理，通过多技术协...
    2026-03-20
  • 一种类金刚石非晶碳膜与类石墨非晶碳膜复合的非晶碳镀层的制备工艺
    一种类金刚石非晶碳膜与类石墨非晶碳膜复合的非晶碳镀层的制备工艺_深圳市弘和富科技有限公司_202511067911.0
    本发明公开了一种类金刚石非晶碳膜与类石墨非晶碳膜复合的非晶碳镀层的制备工艺，依次由基体材料、底层粘接层、类金刚石非晶碳层(DLC)和类石墨非晶碳层(GLC)构成；所述基体材料选用304不锈钢，所述底层粘接层为Cr/WC；所述类金刚石碳表层中...
    2026-03-20
  • 一种用于风电齿轮箱零部件磨损损伤的原位修复方法
    一种用于风电齿轮箱零部件磨损损伤的原位修复方法_重庆望江工业有限公司_202511069634.7
    本发明涉及风电设备零部件磨损修复技术领域，公开了一种用于风电齿轮箱零部件磨损损伤的原位修复方法，包括如下步骤：步骤一、确认并打磨、清洗待修复区域，去除杂质；步骤二、对待修复区域进行三维模型重构，确定零部件原始形状与尺寸，预留加工余量后规划出...
    2026-03-20
  • 一种内流道零件内表面质量的改善方法
    一种内流道零件内表面质量的改善方法_中国航发北京航空材料研究院_202511377579.8
    本发明涉及增材制造技术领域，提供了一种内流道零件内表面质量的改善方法，包括：S1)采用增材制造方法制备内流道零件；S2)将液体石蜡通过内流道零件的内流道，再通入液氮；S3)在内流道零件的一端外部设置导电金属材料，且导电金属材料接地；S4)利...
    2026-03-20
  • 区域选择性沉积
    区域选择性沉积_ASMIP私人控股有限公司_202510526208.5
    公开了用于在衬底上选择性沉积材料的方法、系统和设备。在示例中，衬底被提供在反应室中，并且可以包括包含硅(Si)的第一表面和包含锗(Ge)的第二表面。钝化层可以相对于第二表面选择性地沉积在第一表面上。这可以通过在第一循环沉积子循环期间使衬底与...
    2026-03-20
  • 一种钝化剂及其制备方法
    一种钝化剂及其制备方法_湖北大立容器制造有限公司_202410455014.6
    本发明公开了一种钝化剂及其制备方法，本发明先采用浓H2SO4对鳞片石墨粉进行处理，在石墨片层中插入含氧官能团，然后通过焙烧，使石墨膨胀，相比于普通鳞片石墨，其具有更大的比表面积和扩散性，易于在金属基底表面形成薄膜层；然后通过双键之间的加成反...
    2026-03-20
  • 一种可均匀涂料的钢管生产用钝化设备
    一种可均匀涂料的钢管生产用钝化设备_洪泽逸洋钢管有限公司_202511251219.3
    本发明公开了一种可均匀涂料的钢管生产用钝化设备，涉及钢管钝化技术领域，钝化设备包括喷淋机构、驱动机构、支撑机构、传动机构和横移机构，喷淋机构和驱动机构紧固连接，喷淋机构和支撑机构紧固连接，驱动机构位于进料端，支撑机构位于出料端，喷淋机构和传...
    2026-03-20
  • 一种线锯用金刚石微粉化学镀镍液的制备方法
    一种线锯用金刚石微粉化学镀镍液的制备方法_江苏中畅精密科技有限公司_202510901014.9
    本发明公开了一种线锯用金刚石微粉化学镀镍液的制备方法，涉及化学、材料技术领域。该线锯用金刚石微粉化学镀镍液，由包括以下组分按重量份组成：六水硫酸镍10~40g/L、次亚磷酸钠20~40g/L、柠檬酸钠10~20g/L、氯化铵20~40g/L...
    2026-03-20
  • 化学镀镍剂及其制备方法和在制备太阳能电池中的应用
    化学镀镍剂及其制备方法和在制备太阳能电池中的应用_TCL中环新能源科技股份有限公司_202511062315.3
    本发明提供了一种化学镀镍剂及其制备方法和在制备太阳能电池中的应用，涉及太阳能电池的技术领域，化学镀镍剂包括以下组分：硫酸镍、次亚磷酸钠、复合络合剂、缓冲剂、复合稳定剂和润湿剂；其中，复合络合剂包括焦磷酸钾、琥珀酸钠和硫酸铵；复合稳定剂包括异...
    2026-03-20
  • 一种通过低压驱动且耐高温电致发热棉织物及其制备方法
    一种通过低压驱动且耐高温电致发热棉织物及其制备方法_南通大学_202511021518.8
    本申请公开了一种通过低压驱动且耐高温电致发热棉织物及其制备方法，该棉织物包括：电致发热棉织物包括石墨烯层、铜层以及碳纳米管层；其中，石墨烯层、铜层以及碳纳米管层均用丝网印花方式固着。石墨烯层中石墨烯为氧化石墨烯还原后的状态。铜层中铜为纳米级...
    2026-03-20
  • 基于多参数耦合的半导体薄膜性能协同控制方法及系统
    基于多参数耦合的半导体薄膜性能协同控制方法及系统_苏州中瑞宏芯半导体有限公司_202511360337.8
    本发明公开了基于多参数耦合的半导体薄膜性能协同控制方法及系统，属于半导体材料制造技术领域，其具体包括：确定含等离子体功率密度等参数的控制参数集，建立多参数耦合响应模型；用拉丁超立方采样生成样本点，量化参数交互效应，结合图模型形成动态权重矩阵...
    2026-03-20
  • 一种多分片侧边钝化设备及方法
    一种多分片侧边钝化设备及方法_理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司_202511075836.2
    本发明涉及钝化镀膜领域，提供一种多分片侧边钝化设备及方法，腔体上设有喷淋系统和加热系统；底盘可运动地设置于腔体的底部，底盘上表面间隔设置有若干料盒，电池片水平堆叠设置于料盒内并使切割面在电池组的侧边形成钝化面；真空均流系统包含设置于底盘上的...
    2026-03-20
  • 工艺腔体及半导体薄膜设备
    工艺腔体及半导体薄膜设备_拓荆科技(上海)有限公司_202511029765.2
    本发明公开了一种工艺腔体及半导体薄膜设备，该工艺腔体包括腔体、设于腔体中的加热盘、波纹管和吹扫块，波纹管与吹扫块同轴固定连接且两者均套设在加热盘的盘柄外周，波纹管通过其法兰与吹扫块固定连接，法兰设有进气口和与进气口连通的环形流道，环形流道布...
    2026-03-20
  • 气体输送结构、半导体加工设备、方法及存储介质
    气体输送结构、半导体加工设备、方法及存储介质_拓荆科技(上海)有限公司_202511029027.8
    本发明提供了一种气体输送结构、一种半导体加工设备、一种半导体加工方法及一种计算机可读存储介质。所述气体输送结构包括多个分气支路及至少一个限流件。所述多个分气支路的一端连接至少一个气源，另一端分别连接至少一个工艺腔室。所述至少一个限流件串接于...
    2026-03-20
  • 一种基于不对称茂基镍ALD生长氧化镍薄膜的方法
    一种基于不对称茂基镍ALD生长氧化镍薄膜的方法_苏州源展材料科技有限公司_202510990407.1
    本发明公开了一种基于不对称茂基镍ALD生长氧化镍薄膜的方法，包括如下步骤：向原子层沉积设备反应腔通入不对称茂基镍，所述不对称茂基镍在反应腔内的衬底表面进行化学吸附至吸附饱和；向反应腔通入保护气体进行吹扫，然后通入氧源进行反应，生成原子层氧化...
    2026-03-20
  • 含氮掺杂的二氧化钛层的制备方法、含氮掺杂的二氧化钛层及TBC电池
    含氮掺杂的二氧化钛层的制备方法、含氮掺杂的二氧化钛层及TBC电池_TCL中环新能源科技股份有限公司_202510983219.6
    本发明提供了一种含氮掺杂的二氧化钛层的制备方法、含氮掺杂的二氧化钛层及TBC电池，涉及太阳能电池技术领域。所述含氮掺杂的二氧化钛层的制备方法，包括：对待沉积基体的表面进行前体引入、第一净化、氧化和第二净化的循环沉积，并在循环沉积结束后进行退...
    2026-03-20
  • 一种半导体化学气相沉积CVD设备
    一种半导体化学气相沉积CVD设备_芯微半导体(南宁)有限公司_202510979838.8
    本发明公开了一种半导体化学气相沉积CVD设备，包括基座，所述基座中设有气流腔，气流腔连接有排气管，且气流腔中设有支柱体，支柱体上端设有加热盘，且气流腔上端连接有导气环，导气环上端安装有环盖，环盖内壁设有平行的环筋二和环筋一，环筋一和环筋二上...
    2026-03-20
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