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  • 本申请涉及可穿戴智能设备技术领域,进一步的涉及一种外观控制方法及系统、可穿戴智能设备。该方法,包括:当可穿戴智能设备处于第一工作模式时,基于配置文件或可穿戴智能设备的表盘显示内容,确定第一渲染信息,第一渲染信息包括表盘的色彩分布信息、第一色...
  • 本发明公开了一种基于二进制编码量化结构的两级时间数字转换器,包括依次连接的鉴相器、延时链粗级量化电路、选通电路、二进制编码细级量化电路以及编码电路,二进制编码细级量化电路包括2倍时间放大器、单位时间比较器、自校准单元。本发明通过二进制编码的...
  • 本发明公开了一种消除微波泄漏影响的冷原子钟光探测装置,属于高端装备制造领域,包括探测区主体、探测光组件、重抽运光组件、选态推光组件以及荧光收集组件,探测区主体的内部设有腔室,探测区主体的上表面设有用于穿过冷原子团的穿孔,探测光组件包括第一金...
  • 本发明涉及一种用于冷原子微波钟的微波腔,属于冷原子钟领域,包括:主腔体、矩形波导、上端盖、下端盖和频率调谐组件;将主腔体的端盖与主腔体,矩形波导的端盖与矩形波导本身采用激光焊进行焊接固定密封,从根本上避免了铟丝密封带来的不可靠性问题,无需再...
  • 本发明的一个方面涉及一种钟表(1),其包括中间件(110)和可互换的表圈(200),通过所述表圈(200)相对于所述中间件(110)绕中心轴线(B)在插接位置和锁定位置之间的相对旋转并借助于卡口紧固装置(300),所述表圈(200)紧固到所...
  • 本申请提供一种表体、可穿戴设备、封堵防水模组、电子设备。涉及佩戴设备技术领域。该表体包括表壳、设置在表壳上的封堵结构和设置在表壳上的防水透气件;表壳上开设有与表体内部连通的孔,封堵结构设置在表壳上且能够沿着孔运动;防水透气件位于封堵结构的朝...
  • 本发明涉及手表技术领域,具体为一种给手表表冠集成转动刻度圈功能的结构,包括表盘环框以及设置在表盘环框中的刻度圈,所述刻度圈单向转动,刻度圈的外部啮合设置有驱动齿轮,通过驱动齿轮的旋转驱动刻度圈转动;所述驱动齿轮上同轴固定设置有传动套体,所述...
  • 本发明公开了一种打印机硒鼓盒废粉收集装置,属于打印设备技术领域,包括碳粉仓、废粉仓、感光鼓和刮板组件,废粉仓设置于碳粉仓一侧,废粉仓中设置有柔性刮片和收集板,柔性刮片贴合于感光鼓上,收集板和废粉仓之间设置有储存废粉的储存腔,刮板组件中的L型...
  • 一种转印用带、带单元及图像形成装置,所述转印用带具有表面层、基材层及背面层这三层,所述基材层包含选自由橡胶及弹性体组成的组中的至少一种弹性材料,在25℃、55%RH的环境下的所述表面层的体积电阻率R1、所述基材层的体积电阻率R2及所述背面层...
  • 本公开提供了一种感光构件单元,成像设备包括能够同轴旋转的第一主组件侧斜齿轮部分和第二主组件侧斜齿轮部分,感光构件单元包括:能够围绕其旋转轴线旋转的感光构件;第一单元侧斜齿轮部分;以及第二单元侧斜齿轮部分,第二单元侧斜齿轮部分的齿的扭转方向与...
  • 本发明涉及调色剂用细粉和调色剂。可以在降低由污染引起的显影性的降低的同时改善清洁性能的调色剂用细粉和调色剂。调色剂用细粉包含硅油。分离的硅油满足,基于硅原子的总个数,具有Q单元结构的硅原子的个数百分比为1%以上且40%以下。具有D单元结构的...
  • 本发明属于显影液技术领域,具体涉及一种负性光刻胶显影液组合物及其制备方法和应用。所述负性光刻胶显影液组合物包括表面活性剂、有机溶剂和碱性物质;所述碱性物质为具有式(1)和/或式(2)所示结构的化合物。本发明的关键在于将具有特定结构的碱性物质...
  • 一种确定光刻工艺窗口的方法,该方法包括:获取光刻版图和光刻工艺信息,基于所述光刻版图和所述光刻工艺信息建立光学模型;基于所述光学模型对所述光刻版图中预设的标准监测图形进行仿真,以得到最佳曝光参数;基于所述最佳曝光参数和所述光学模型,对所述光...
  • 本申请涉及光刻设备技术领域,具体涉及一种光线偏移模块、校准装置及校准方法,光线偏移模块包括一体工装、偏移镜以及第一光阑;所述一体工装第一端设有第一安装槽、第二端设有第二安装槽;所述偏移镜嵌设在所述第一安装槽中,所述第一光阑设于第二安装槽中;...
  • 本发明提供了一种光楔调焦机构、曝光机和智能双平台LDI系统,属于激光智能加工领域,光楔调焦机构包括补偿光楔和光楔驱动模块;补偿光楔采用相对间隔滑动的双楔形棱镜;补偿光楔的上光楔和/或下光楔与光楔驱动模块连接,光楔驱动模块基于产品表面起伏数据...
  • 本申请属于微纳加工制造领域,更具体地,涉及一种基于飞秒激光时间复用的线扫描双光子加工系统。其包括沿光路依次设置的飞秒激光光源、扫描器、匀光聚焦装置、色散掩膜装置、中继投影装置和位移台;于匀光聚焦装置和色散掩膜装置之间或者色散掩膜装置和中继投...
  • 本发明公开了一种光刻机的高精度温度控制方法及系统,属于光刻机温控技术领域,采集掩模版下表面温度阵列、曝光台承载面热流密度分布及气浮层热压差信号,并进行特征编码,构建高维热耦合态势特征矩阵;随后基于该矩阵生成动态热权重关联图谱,将曝光关键节点...
  • 本发明公开了一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机,光刻机光掩模夹具包括夹具主体、两边缘导通针和中部导通针,两边缘导通针间隔设置于夹具主体一水平夹持边缘的两端;两边缘盖板对应覆盖两边缘导通针,边缘盖板包括缩进部,缩进部位于边缘盖板靠近光掩模的横...
  • 本发明涉及曝光机技术领域,提供一种立式曝光机曝光机控制方法,其包括:支撑座;曝光机构,设于所述支撑座,用于对工件进行曝光;框架部,所述框架部竖立于所述支撑座设置,所述框架部包括安装部和牵引组件;所述安装部用于安装工件,所述牵引组件用于对所述...
  • 本发明涉及曝光机技术领域,提供一种立式曝光机以及工件检测方法,其包括:支撑座;曝光机构设于所述支撑座,用于对工件进行曝光;框架部,所述框架部竖立于所述支撑座设置,用于安装工件;工件检测机构用于检测安装于所述框架部上的工件的工件参数。本申请中...
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