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一种耐温PVC保护膜及其制备方法
本发明涉及一种耐温PVC保护膜及其制备方法,属于PVC保护膜技术领域。针对现有PVC保护膜在中高温环境下因增塑剂迁移导致胶接层失效的问题,本发明提出"以迁移对抗迁移"的动态阻隔理念。制备方法包括:制备丙烯酸酯乳液;将丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲...
一种保护膜及其制备方法和应用
本发明属于压敏材料技术领域,提供了一种保护膜及其制备方法和应用。本发明提供的保护膜,包括基膜和覆盖在基膜表面的胶层,胶层包括交联型丙烯酸压敏胶和高软单体丙烯酸压敏胶;交联型丙烯酸压敏胶呈薄膜状覆盖在基膜表面,而高软单体丙烯酸压敏胶则以离散的...
热熔胶膜、电子产品以及电子产品的加工方法
本申请涉及热熔胶膜技术领域,具体公开了一种热熔胶膜、电子产品以及电子产品的加工方法,热熔胶膜被配置为将第一工件和第二工件粘接,第一工件包括第一零件,第一零件包括依次间隔设置的多个部件,任意相邻的两个部件之间形成第一间隙,热熔胶膜包括热熔胶片...
红外透反射导热光伏胶膜及其制备方法
本发明属于封装胶膜技术领域,具体涉及一种红外透反射导热光伏胶膜及其制备方法,包括如下步骤:S1,称取纳米硅基载体粉加入第一纳米反射材料前驱物、第二抗老化材料前驱物,得到复合微反射纳米材料;S2,将复合微反射纳米材料和有机分散剂混合均匀,得到...
含光学胶的防雾膜、制备方法及应用
本发明涉及防雾膜用光学胶研发技术领域,且公开了含光学胶的防雾膜、制备方法及应用,该防雾膜的产品结构依次为:静电保护膜层、防雾涂层、PET基膜层、光学胶层、PET离型膜层;其中,光学胶层由丙烯酸酯光学胶预固化而成;丙烯酸酯光学胶由复配型丙烯酸...
一种超耐磨防滑复合地面材料及其制备方法
本申请涉及地板技术领域,更具体地说,涉及一种超耐磨防滑复合地面材料及其制备方法;一种超耐磨防滑复合地面材料,从上到下依次包括面层,加强层,基板层;所述加强层原料包括弹性胶黏剂,所述面层由改性PU胶多道涂覆与梯度固化形成,其固化过程包括在10...
一种耐高温、耐电解液腐蚀电芯绝缘膜及其制备方法
本发明一种耐高温、耐电解液腐蚀电芯绝缘膜,所述胶带从上到下依次为离型膜层、粘接胶层、第一底涂剂层、第一基材层、第二底涂剂层、中间胶层、第二基材层。所述粘接胶层为丙烯酸酯树脂胶层,所述丙烯酸酯树脂胶层中添加有0~15%的改性填料及高低软化点复...
一种粘结胶及其制备方法
本申请提供一种粘结胶及其制备方法。所述粘结胶的制备方法包括提供粘结胶主体,所述粘结胶主体具有相对的第一表面和第二表面;在所述粘结胶主体的所述第二表面上设置解胶催化剂层,形成具有解胶催化剂层的粘结胶;其中,所述解胶催化剂层在预设条件下能够用于...
一种电子标签用BOPET预涂膜及其制备方法和应用
本发明公开一种电子标签用BOPET预涂膜及其制备方法和应用,属于BOPET预涂膜技术领域;由外到内依次包括:抗静电层、基材层、胶水层以及热熔胶层;所述抗静电层包括以下质量份原料:防静电剂0.05‑10份、0.05‑5份树脂、润湿剂1‑5份、...
一种压敏胶、防爆膜及电子设备
本发明公开了一种压敏胶、防爆膜及电子设备,属于保护膜技术领域。该压敏胶包括75份~85份丙烯酸丁酯‑甲基丙烯酸甲酯‑甲基丙烯酸共聚物、5份~12份纳米二氧化硅、3份~8份低官能度交联剂、1份~2份高官能度交联剂以及2份~5份有机硅改性丙烯酸...
一种双组分双重固化海缆阻水灌封胶及制备方法、应用
本发明涉及一种双组分双重固化海缆阻水灌封胶,由A组分和B组分按质量比1 : 0.3~1组成,其中,A组分包括:三环癸烷改性端羟基聚丁二烯、叔碳酸酯环氧丙烯酸酯、聚丁二烯、丙烯酸酯‑二氧化硅纳米复合材料和硅烷偶联剂,以及催化剂、光引发剂、抗氧...
一种UV固化胶和钙钛矿光伏组件及其制备方法
本发明涉及一种UV固化胶和钙钛矿光伏组件及其制备方法,属于钙钛矿光伏组件制备技术领域。所述UV固化胶的成分包括有发光预聚物、活性稀释剂、光引发剂、流平剂以及粘接助剂,发光预聚物的成分为酯类单体、丙烯酸类荧光给体、丙烯酸类荧光受体、丙烯酸类敏...
用于辅助胶结材料的组合物以及制备方法
本申请公开了用于辅助胶结材料的组合物以及制备方法。所述方法包括:使输入流与机械热活化助剂接触;热处理输入流以形成经热处理的输入流;以及冷却经热处理的输入流并且获得辅助胶结材料。所述方法还可以包括将经热处理的输入流碳酸盐化。所述方法还可以包括...
平整化组合物及其制备方法和应用
本申请提供了一种平整化组合物及其制备方法和应用。平整化组合物包括氧化剂、催化剂、络合剂、稳定剂、腐蚀抑制剂和溶剂,所述平整化组合物的pH值小于或等于3,所述平整化组合物还包括质量含量小于或等于10ppm的无机颗粒。本申请提供的平整化组合物几...
一种基于酶促芬顿体系的绿色抛光液
本发明属于抛光液领域,具体涉及一种基于酶促芬顿体系的绿色抛光液。该4H‑SiC衬底抛光液包括A组分和B组分,A组分的有效成分为酶‑催化剂共固定化磨料,所述酶‑催化剂共固定化磨料包括磨料基体和负载在磨料基体上的漆酶和铁基催化剂;B组分的有效成...
一种双组分抛光液及其制备方法
本申请属于半导体材料抛光技术领域,提供了一种双组分抛光液及其制备方法,该制备方法为:通过引发剂对硅溶胶进行预处理,得到预处理硅溶胶,然后将聚(丙烯酸‑丙烯酰胺)共聚物接枝至预处理硅溶胶表面,得到改性磨料;使用磷酸基单体对聚丙烯酸类分散剂进行...
一种光学玻璃用的氧化锆抛光液及其制备方法和应用
本发明公开了一种光学玻璃用的氧化锆抛光液及其制备方法和应用,采用第一碳酸锆作为氧化锆前驱体,控制第一碳酸锆的含水率在5wt.%以下,然后在温度660‑750℃下进行煅烧,获得氧化锆,将氧化锆与第二碳酸锆混合,进行湿法球磨,获得氧化锆浆料,将...
一种改性SiO2基硅片化学机械研磨剂及其制备方法和应用
本发明公开了一种改性SiO2基硅片化学机械研磨剂及其制备方法和应用,属于硅片研磨剂技术领域。一种改性SiO2颗粒,包括SiO2球形基体;均匀分布在SiO2球形基体中的介孔孔道;均匀分散在SiO2球形基体的介孔孔道内的Al2O3纳米颗粒掺杂相...
一种用于碳化硅表面处理的化学机械抛光液
本发明涉及一种用于碳化硅表面处理的化学机械抛光液,所述化学机械抛光液包括:四面体氧化铈颗粒、氧化剂、功能化全氟聚醚、分散剂、pH调节剂、pH缓冲剂和水。本发明抛光液能够在提升碳化硅表面材料去除速率的同时,有效抑制划伤发生,从而实现碳化硅晶圆...
一种剪切流变抛光液及其生产方法
本发明公开了一种剪切流变抛光液及其生产方法,原料按质量百分比计包括:纳米复合磨料15%‑25%、剪切增稠基液40%‑55%、表面改性剂3%‑8%、分散稳定剂2%‑5%、pH调节剂0.5%‑2%、去离子水5%‑39.5%,本发明涉及抛光液技术...
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