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处理药物分配装置的部件的方法
根据本发明,提供了一种处理药物分配装置的部件的方法,其中所述部件是具有内部的铝罐,所述内部包含在所述装置的储存或使用期间与药物接触的内表面,所述方法包含以下步骤:将所述铝罐放置在腔室中;将电极插入所述铝罐的内部;执行等离子体清洁步骤,其中将...
一种溅射装置及薄膜沉积方法
本申请涉及一种溅射装置及薄膜沉积方法,包括:载板、圆柱状可旋转阴极靶材及阳极结构,其中,载板用于放置待沉积基片;圆柱状可旋转阴极靶材设于载板上方;阳极结构包括多个调节单元,多个调节单元沿圆柱状可旋转阴极靶材的轴向方向依次排布,调节单元沿圆柱...
蒸镀模拟装置及具有其的蒸镀模拟系统
本发明公开了一种蒸镀模拟装置及具有其的蒸镀模拟系统,该蒸镀模拟装置包括壳体、盛放器皿和加热件,壳体为耐高真空件,且具有容纳腔,壳体设有抽气口和第一可视窗口,盛放器皿设于容纳腔,用于盛放镀膜材料,盛放器皿设有第二可视窗口,第一可视窗口与第二可...
公共金属掩膜板组件
本申请提供了一种公共金属掩膜板组件,属于显示设备制造技术领域。该公共金属掩膜板组件包括:公共金属掩膜板,具有多个用于蒸镀的第一开口;公共金属掩膜板一侧用于朝向蒸镀源,另一侧用于朝向待蒸镀基板;应力阻断网,设置于公共金属掩膜板朝向蒸镀源的一侧...
一种兼具耐磨与耐蚀性能的CoCrFeNi中熵合金涂层及其制备方法
本发明公开了一种兼具耐磨与耐蚀性能的CoCrFeNi中熵合金涂层及其制备方法,属于材料科学与表面工程技术领域。本方法首次提出通过能量输入窗口调控形成“梯度孔隙‑自然氧化‑致密膜”连续演化机制,通过中等能量输入实现涂层致密化及残余压应力引入,...
一种低温诱导MCrAlY涂层生成α-Al2O3保护层的方法
本发明公开一种低温诱导MCrAlY涂层生成α‑Al2O3保护层的方法,涉及表面加工工艺技术领域。本发明的具体方法为:将纳米氧化铝颗粒、乙基纤维素添加至松油醇中,配制纳米氧化铝浆料;对MCrAlY涂层表面进行预处理,之后将纳米氧化铝浆料涂覆于...
一种介质滤波器表面金属化涂层的制备方法
本发明提供了一种介质滤波器表面金属化涂层的制备方法,包括以下步骤:沉积过程:采用高功率磁控溅射技术在介质陶瓷基体表面沉积金属层,首先,通过调节高功率磁控溅射技术的频率和脉宽将峰值电流增大,获得高密度的等离子,之后,降低介质陶瓷基体的旋转速度...
叠层薄膜的高通量制备方法及系统
本发明属于材料高通量制备与表征技术领域,尤其涉及叠层薄膜的高通量制备方法及系统。本发明将“单一实验”模式转变为“空间阵列并行”模式,单次实验即可产生数十至上百个样本,极大缩短材料研发周期;能够实现从沉积到后处理的全流程原位连贯操作,避免了样...
一种铝合金型材表面无铬钝化的镀层结构
本实用新型涉及金属制造技术领域,提供一种铝合金型材表面无铬钝化的镀层结构,解决现有铝型材表面的镀层结构附着性低,耐候性相对不佳,且外观光亮效果差的问题;包括镀层结构本体,其特征在于:镀层结构本体包括最内层的基材层、次内层的第一预处理层、中间...
一种关节置换全阶段自适应Ag-DLC涂层及其制备方法
本发明公开了一种关节置换全阶段自适应Ag‑DLC涂层及其制备方法,该涂层包括生物友好型基底、钛粘结层和掺杂Ag元素的Ag‑DLC功能层,功能层中Ag元素以Ag纳米颗粒形式镶嵌于DLC的碳骨架中,且Ag纳米颗粒的尺寸为1~35 nm,掺杂量为...
一种高致密化氧化铝涂层及其加工工艺
本发明公开了一种高致密化氧化铝涂层及其加工工艺,属于陶瓷涂层材料技术领域。所述氧化铝涂层至少包括一层氧化铝单层,每一所述氧化铝单层上形成有离子轰击氧化铝单层表面得到的致密界面层;所述氧化铝单层由满足非化学计量比的AlOx构成,其中,氧含量:...
一种泄漏自检型真空蒸镀机
本发明涉及真空蒸镀技术领域,具体为一种泄漏自检型真空蒸镀机,包括蒸镀机壳体以及贯穿安装在其顶部的载具旋转机构,且蒸镀机壳体的底面内部安装有蒸镀组件,所述蒸镀机壳体的后侧固定有抽真空腔室,且抽真空腔室的后侧上方通过抽真空管连接有初抽真空机构,...
用于玻璃装饰物表面的高致密高结合力银膜及其制备方法
本发明涉及玻璃装饰物表面处理技术领域,具体公开了用于玻璃装饰物表面的高致密高结合力银膜制备方法,包括以下步骤:步骤一:制备活化层,采用等离子体活化技术,通入甲烷、TMS与空气的混合气体进行等离子体活化,在玻璃装饰物基底表面形成包含Si‑C‑...
用于TiAl合金基体表面的复合涂层及其制备方法
本发明公开了一种用于TiAl合金基体表面的复合涂层及其制备方法,属于涂层技术领域,所述复合涂层包括依次附着在TiAl合金基体表面的第一附着力增强层、第一过渡层、高温耐磨层、第二过渡层、第二附着力增强层和耐磨润滑层。本发明通过各膜层的复合设置...
一种钛合金表面(TiZrNbHfTa)C高熵合金碳化物陶瓷涂层及其制备方法和应用
本发明公开了一种钛合金表面(TiZrNbHfTa)C高熵合金碳化物陶瓷涂层及其制备方法和应用,属于合金涂层材料技术领域。本涂层由连续致密的(TiZrNbHfTa)C高熵合金碳化物陶瓷层,TiZrNbHfTa高熵合金中间层和Ti‑Zr‑Nb‑...
一种深振荡磁控溅射制备超硬且韧的复合涂层的方法
本申请提供了一种深振荡磁控溅射制备超硬且韧的复合涂层的方法,TiVSiN复合涂层技术领域,1)对基体进行预清洗;2)对基体进行离子清洗;3)采用深振荡磁控溅射沉积方法在基体上沉积形成过渡层;4)采用深振荡磁控溅射沉积方法,在过渡层上先调控高...
具有反应相涂层的带槽的陶瓷涂层及形成其的方法
提供一种涂覆的构件连同其形成的方法,该涂覆的构件包括带槽的陶瓷涂层,该陶瓷涂层具有设置在其上的反应相涂层,用于改进对环境污染物组合物的抵抗性。涂覆的构件可包括限定表面的基底、设置在基底的表面上的陶瓷涂层以及设置在环境污染物组合物层上的反应相...
一种卷绕镀膜设备
本实用新型提供一种卷绕镀膜设备,包括内设基材放卷装置的放卷室;内设基材收卷装置的收卷室;内设镀膜鼓和蒸发装置的镀膜室;基材卷绕装置,将从基材放卷装置释放的基材绕经镀膜鼓后输送至基材收卷装置;蒸发装置包括将蒸镀材料蒸发为蒸镀气体对绕经镀膜鼓的...
一种高精密掩膜板及其制备方法
本发明涉及掩膜板制备技术领域,公开了一种高精密掩膜板及其制备方法,其包括步骤:在载板上制备分离层;采用真空镀膜的方式在分离层上制备掩膜片箔膜;在掩膜片箔膜上制备第二光阻膜层并在第二光阻膜层上进行图案光刻处理,形成光阻图案膜;对掩膜片箔膜进行...
一种挤压模具表面耐磨涂层及其制备方法和应用
本发明公开一种挤压模具表面耐磨涂层及其制备方法和应用,该耐磨涂层包括中间过渡层和耐磨覆盖层,所述中间过渡层由TiC、Ti(CN)、以及TiN三种成分由内向外渐变分布复合而成;并且该中间过渡层中总碳氮比为0<C/N<1,表面具有参差的TiN成...
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