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五金工具产品及配附件制造技术
一种MgYSn-LDH涂层及其制备方法
本发明公开了一种MgYSn‑LDH涂层及其制备方法,该涂层包括含钇的镁合金基体层、锡梯度改性层及原位生长于锡梯度改性层上的LDH层;所述锡梯度改性层中具有纳米晶和晶体缺陷。本发明采用FCVA和MEVVA复合设备对镁合金基体进行预处理,并通过...
一种人工关节表面钛碳纳米多层复合耐磨涂层材料的制备方法
本发明属于人工关节制备技术领域,具体涉及一种人工关节表面钛碳纳米多层复合耐磨涂层材料的制备方法。本发明的方法包括:S01.准备3D打印的钛合金作为基体材料,对所述基体材料进行预处理;S02.采用阴极电弧离子镀和阳极层离子束交替制备具有界面融...
一种(Al
x
Ga
1-x
)
2
O
3
薄膜原位退火装置及方法
本发明涉及半导体薄膜材料制造技术领域,尤其涉及一种(Al
x
Ga
1‑x
)
2
O
3
薄膜原位退火装置及方法。原位退火装置包括沉积腔室和退火组件;所述沉积腔室内设...
一种基于抛物线光学反射特性的定向辐射装置及制备方法
本发明公开了一种基于抛物线光学反射特性的定向辐射装置,涉及辐射制冷领域,基于抛物线光学反射特性的定向辐射装置包括反射面单元和吸收面单元;所述反射面单元由一段抛物线围绕其一端点处的切线旋转获得;所述吸收面单元由所述抛物线的焦点和顶点的连线围绕...
一种多层结构的高导热抗磨损耐热腐蚀高熵合金涂层及其制备方法
本发明涉及热喷涂和表面渗氮技术领域,具体涉及一种多层结构的高导热抗磨损耐热腐蚀高熵合金涂层及其制备方法,包括:第一层的NiCr粘接层、第二层的AlCoCrNiMo高熵合金过渡层、第三层的AlCoCrNiMoBSi高熵合金功能层和第四层的渗氮...
沉积用喷洒头及治具、前驱体用量评估装置及方法
本公开提供了一种沉积用喷洒头及治具、前驱体用量评估装置及方法。根据实施例,喷洒头包括在其喷洒面上的至少一个偏心或非对称设置的喷洒孔洞,用于使前驱体通过其中而向样品表面喷洒。
一种连续送料装置
本实用新型公开了一种连续送料装置,该装置内的第一储料机构与第二储料机构沿垂直方向连接;真空抽取机构通过第一管道连接至第一储料机构的上部,第二储料机构的上部通过第二管道连通至第一管道;储气机构通过第三管道连接至第二管道;储气机构通过第四管道经...
一种钢丝热镀锌冷却装置
本实用新型公开了一种钢丝热镀锌冷却装置,涉及到热镀锌冷却领域,包括安装壳体,所述安装壳体的底端固定安装有底座,所述安装壳体的上表面两侧均固定安装有连接块,所述连接块上安装有冷却板部件,所述冷却板部件由多个独立冷却部件组合形成,本实用新型通过...
一种真空视窗挡板及镀膜设备
本申请提供了一种真空视窗挡板及镀膜设备,属于镀膜设备技术领域,真空视窗挡板包括:百叶窗组件,所述百叶窗组件设置于镀膜设备的视窗的内侧,所述百叶窗组件转动设置有多个挡板;调节组件,用于调节所述多个挡板于所述第一状态和所述第二状态之间切换。利用...
一种电浆增强式薄膜沉积设备
本发明为一种电浆增强式薄膜沉积设备,包括一腔体、一承载件、一喷洒头、一环状隔离单元及一射频线圈,其中腔体包括一容置空间,承载件位于容置空间内具有一承载面,并透过承载面承载至少一基板。喷洒头流体连接容置空间,喷洒头的出气口朝向承载面。环状隔离...
一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法
本发明属于超精密加工领域,并公开了一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法,方法的具体步骤包括:在清洁后的单晶金刚石表面离子镀特定厚度的金属薄膜;利用纳秒脉冲激光对金属薄膜进行烧蚀,当金属薄膜被完全烧蚀后,继续烧蚀,直至所述单晶金刚石上生成石墨层。本...
加工炉、加工设备、刻蚀方法及加工方法
本申请提供了一种加工炉、加工设备、刻蚀方法及加工方法。其中,加工炉包括:第一炉管,第一炉管内形成有第一空腔;第二炉管,第二炉管套设于第一炉管的外侧,且第二炉管与第一炉管之间形成有第二空腔,第二空腔与第一空腔连通;第一进气管,第一进气管的一端...
一种纳米材料真空镀膜一体机
实用新型公开了一种纳米材料真空镀膜一体机。纳米材料真空镀膜一体机,包括:真空镀膜机架、控制箱、抽真空件、预热箱,所述真空镀膜机架与控制箱电性连接,所述抽真空件与预热箱分别安装于真空镀膜机架内框两侧,所述预热箱上腔还安装有调节组件,所述调节组...
一种环保型杂化成膜剂及其制备方法与应用
本发明公开了一种环保型杂化成膜剂及其制备方法和应用,包括如下步骤:配制L半胱氨酸溶液和环保型金属盐溶液;所述金属盐选自硫酸氧钒、硫酸亚锡、硝酸钕、硝酸钇、硝酸铈中的一种;将所述L半胱氨酸溶液和金属盐溶液混合,得到混合液,调节pH至4‑4.5...
磁控溅射设备
本实用新型涉及一种磁控溅射设备,包括壳体、滑轨、滑块、C型绝缘件及磁控管,壳体开设有镀膜腔体,滑轨设于镀膜腔体内,滑块滑动连接于滑轨的一侧;C型绝缘件位于滑块背离滑轨的一侧且沿滑块的边缘弯折延伸形成第一安装槽,滑块固定于第一安装槽内,磁控管...
放电腔结构及化学气相沉积设备
本实用新型提供了一种放电腔结构及化学气相沉积设备,属于化学气相沉积设备领域。上述放电腔结构包括:腔体、样品台、及冷却容器,腔体包括底板;样品台设置在腔体中,用于放置待镀膜的基片。冷却容器设置在样品台的下方,并与底板或样品台的底部密封连接;冷...
一种真空镀膜设备用观察窗防污染装置
本实用新型属于真空镀膜设备技术领域,具体是一种真空镀膜设备用观察窗防污染装置,直角弯头的一端与真空镀膜设备的观察法兰密封连接,观察窗与直角弯头的另一端密封连接,镜片及防污板均位于直角弯头内,磁力驱动组件固定在直角弯头上,磁力驱动组件的输出端...
一种生长设备及系统
本实用新型提供了一种生长设备及系统,生长设备包括壳体、气浮托盘和隔离结构;壳体内形成有容置腔、生长气体通道和旋转气体通道;容置腔的上端开口;旋转气体通道与容置腔连通,且两者的连通部位低于容置腔的上端端部;旋转气体通道具有与外界连通的旋转气体...
一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备
本申请涉及等离子体镀膜技术领域,具体提供了一种等离子体射流喷头及等离子体增强化学气相沉积设备,该喷头包括:喷头本体,其具有等离子激发仓和反应仓;前驱体喷出管,位于反应仓内,其底部的高度小于进气口的高度;第一螺旋气流引导结构,其包括第一圆环安...
一种循环式三真空室快速磁控镀膜设备及方法
本发明公开一种循环式三真空室快速磁控镀膜设备及方法,其设备包括循环设置的前旋转传送台、第一真空室、第二真空室、第三真空室、后旋转传送台和循环传送台,各真空室底部分别设有工件小车的传动组件,各真空室之间分别设有真空门阀;第一真空室与第三真空室...
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