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金刚石涂层用导流机构及HFCVD炉
本实用新型提供了一种金刚石涂层用导流机构及HFCVD炉。所述导流机构包括机构本体、导流大孔和导流中孔,所述导流大孔和导流中孔均匀分布在所述机构本体上,且每一导流中孔设置于相邻的两个导流大孔之间。进一步,所述导流机构中还包括设置在相邻的导流大...
一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用
本发明涉及防护涂层领域,具体涉及一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用。本发明通过设计Cr100‑a‑b100‑a‑bXaaMbb组分(X=Al/Si,M=Y/Ce/La/Nd,0≤a≤10, 0.1≤b≤8.5),通过控制...
一种具有近红外表面等离子共振特性的铋/硅复合纳米结构的制备方法
本发明属于纳米材料技术领域,且公开了一种具有近红外表面等离子共振特性的铋/硅复合纳米结构的制备方法,包括以下步骤;S1:准备待沉积衬底:选择衬底材料后并裁剪成1.5cm×1.5cm的方块;S2:清洗待沉积衬底:洁净沉积基底,保障结构附着与均...
一种真空镀膜机用清理装置
本实用新型公开了一种真空镀膜机用清理装置,包括设备主体和清理头,设备主体的内部安装有两个导轨,两个导轨的外壁均滑动安装有滑动块,两个滑动块的一侧共同安装有电动滑轨,电动滑轨的内部滑动安装有电动滑块,电动滑轨的一侧设有控制电动滑轨上下移动的驱...
一种长距离锆合金包壳表面均匀涂层、制备方法及应用
本申请提出了一种长距离锆合金包壳表面均匀涂层、制备方法及应用,方法包括将锆合金包壳基体清洗干燥后放入磁控溅射设备内的真空室,调节真空室的真空度和气压;用偏压电源通过高速氩离子轰击锆合金包壳基体的表面进行辉光清洗;利用氩离子轰击金属靶材的表面...
一种采用脉冲电镀制备高结合力复合镀层金属密封环的方法
本发明公开了一种采用脉冲电镀制备高结合力复合镀层金属密封环的方法,包括以下步骤:通过精密机加工制造出金属密封环基体;对金属密封环基体进行清洗处理;对金属密封环基体进行表面活化加工;将金属密封环基体置于高真空PVD设备中,采用磁控溅射在金属密...
一种适用于塑料表面金属化的表面处理方法及应用
本发明公开了一种适用于塑料表面金属化的表面处理方法及应用,包括对塑料基材进行预处理,在塑料基材表面形成极性基团;在塑料基材具有极性基团的表面沉积SiO22过渡层,在SiO22过渡层上进行紫外臭氧处理;将混合硅烷偶联剂溶于溶剂后旋涂在SiO2...
一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法
本发明公开了一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法,属于单晶合金材料的制备领域。本发明的通过基于“先镍后铜”双层磁控溅射,配合插槽式多片退火载具的批量制备工艺,在蓝宝石衬底上实现4英寸级别的铜镍单晶晶圆的批量制备(10片以上),具有可调控...
一种钢型材热浸镀锌装置
本申请涉及一种钢型材热浸镀锌装置,涉及热浸镀锌的技术领域,其包括镀锌炉体,所述镀锌炉体的上表面固定连接有安装架,所述安装架的后表面固定连接有一号电机,所述一号电机的输出端固定连接有往复螺纹杆,所述往复螺纹杆的侧表面螺纹连接有平移架,所述平移...
掩模组件
提供了一种掩模组件,该掩模组件可以包括:框架、掩模片和辅助杆。掩模片可以包括片框架和从片框架突出的突起。片框架可以具有限定片框架的开口的内表面,并且突起可以在与第一方向相交的第二方向上从片框架的内表面中的在第一方向上延伸的一个内表面朝向开口...
一种蒸镀设备的快速维护系统
本申请涉及镀膜的技术领域, 公开了一种蒸镀设备的快速维护系统,其包括蒸发区组件,包括安装座、电极柱以及水冷容器;所述电极柱与所述水冷容器均安装于所述安装座上,所述水冷容器围合所述电极柱,且所述水冷容器沿竖向开设有对所述电极柱进行避让的让位孔...
一种电解铜箔防氧化槽
本申请提供了一种电解铜箔防氧化槽,属于铜箔加工技术领域,该装置包括:调节槽、反应槽、布水器、定位机构、张紧机构与除液机构。其中,调节槽,包括容纳空腔,所述容纳空腔为防氧化液提供流动空间;反应槽,呈竖直状态设置在所述调节槽上,所述反应槽包括进...
真空镀膜机用上下料系统及卧式真空镀膜机
本实用新型公开了一种真空镀膜机用上下料系统及卧式真空镀膜机,真空镀膜机用上下料系统,包括进出口室、运送装置和工件载架,进出口室内设有用于承载工件载架的承载装置,运送装置设有用于承载工件载架并将工件载架送至承载装置上的移送组件。卧式真空镀膜机...
一种高结合强度高性能绝缘涂层的制备方法
本发明公开了一种高结合强度高性能绝缘涂层的制备方法,包括以下步骤:①基体处理:在基体表面加工细槽,采用抛光的方式去除细槽顶部尖角,进行喷砂毛化;②制备粉末:采用机械混合的方式制备喷涂粉末,混合时间2~3h;③制备涂层:采用大气等离子喷涂技术...
真空光学镀膜一体机
本发明涉及光学镀膜技术领域,具体为一种真空光学镀膜一体机,包括真空镀膜室,所述真空镀膜室上设置有升降连接机构和驱动机构,所述驱动机构与升降连接机构相连,所述升降连接机构上均匀的设置有若干基底承载组件,所述真空镀膜室内固定设置有固定摩擦架,所...
一种用于石英平面电极金属化的装置
本实用新型属于石英平面电极金属化领域,尤其是一种用于石英平面电极金属化的装置,包括:安装座、盖板,所述安装座的顶面环绕一圈侧壁,所述侧壁制有多个第一缺口,并在侧壁外侧设置两个相对的螺钉安装台;所述盖板为圆盘,中心制有中心孔,外圈制有多个第二...
锌锅钢丝压力与保护二合一气刀
本发明涉及钢丝绳生产设备技术领域的锌锅钢丝压力与保护二合一气刀,包括刀体;刀体包括外筒,外筒内套设有内管一及内管二,内管一下端从外筒的顶部伸入,位于外筒内的内管一的外径小于外筒的内径,外筒与内管一之间形成压力调控腔,外筒上设有进气管,进气管...
一种半导体表面处理的镀层装置
本发明提供一种半导体表面处理的镀层装置,涉及半导体镀层技术领域,包括所述密封箱门滑动连接在镀层箱体的前端;所述导向滑轨设有两个,两个导向滑轨均固定连接在镀层箱体的前端面;所述导向滑槽设有两个,两个导向滑槽均开设在密封箱门的后端面;所述观察窗...
一种微米分辨的氮化硼中子闪烁屏及其制备方法
本发明公开了一种微米分辨的氮化硼中子闪烁屏及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:取英寸级的蓝宝石单晶作为衬底,选取铝极性面作为生长面;使用石墨夹具固定衬底,一并放入化学气相沉积炉内,抽真空后使用石墨加热器将炉体加热至反应温度;然后将原料气...
坩埚、蒸发源、蒸发方法、真空处理设备和制造装置的方法
描述了一种蒸发材料的坩埚。坩埚包括被配置以容纳待蒸发材料的第一材料隔室、加热第一材料隔室的第一加热器、被配置以容纳待蒸发材料的第二材料隔室和加热第二材料隔室的第二加热器。提供了一个蒸气引导隔室。蒸气引导隔室具有第一开口,所述第一开口提供在第...
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